技术特征：
技术总结
本发明涉及一种双离子束金属镀膜自动化设备，在设备机架的顶部设置有真空镀膜室，在真空镀膜室的内腔左侧壁中部设置有主离子源，在真空镀膜室的内腔顶部分别设有靶材滑块、辅源滑块，靶材滑块始终位于辅源滑块的左侧，且靶材滑块、辅源滑块均可沿同一水平直线方向来回往复移动，在靶材滑块上设有靶材，在所述辅源滑块的底部固定安装有辅助离子源，所述主离子源和辅助离子源的外壁均设置有冷却裹层。本发明提供了一种可通过散热保护提升装置使用寿命和效果，以及通过多种调节的形式以适应多体形尺寸镀膜的双离子束金属镀膜自动化设备。
技术研发人员：曹云娟
受保护的技术使用者：常州市知豆信息科技有限公司
技术研发日：2018.08.07
技术公布日：2018.09.14