技术特征：
技术总结
本发明涉及一种化学机械抛光工作台及化学机械抛光设备，属于抛光设备技术领域。抛光头支架包括多个分支架，多个分支架沿预设中心环绕分布，每个分支架设置有朝向预设中心的滑动轨道，滑动轨道用于抛光头移动模组与分支架可滑动的连接；每个工作台与一个分支架对应，工作台位于分支架的下方；以及多个隔板，每个隔板设置于多个分支架中相邻两个分支架之间，隔板沿竖向设置且朝向预设中心延伸，隔板用于遮挡相邻两个工作台。该化学机械抛光工作台及化学机械抛光设备，使每个抛光头对应一个工作台，防止其互相干扰玷污，抛光头能够沿直线轨道运动，运动简单，操作方便。应用上述抛光组件的化学机械抛光设备，提高了抛光质量。
技术研发人员：尹影;李婷;刘福强;白琨;费玖海
受保护的技术使用者：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
技术研发日：2019.01.11
技术公布日：2019.03.22