一种带有热反射屏的坩埚的制作方法

本实用新型涉及碳化硅生产设备技术领域，具体涉及一种带有热反射屏的坩埚。

背景技术：

现有的液相法生长碳化硅晶体技术，都是通过加热的方式将硅在高纯石墨坩埚中融化，形成碳在硅中的溶液，再将头部贴付有籽晶的石墨轴伸入到溶液中进行生长；

为了使上述反应有一个稳定的温度条件，可以在坩埚内设置热反射屏，这样可以将向外辐射的热量反射回熔融体系中，降低反应的能耗，但是现有技术中的热反射屏需要在坩埚内设置对应的支架才能实现，但是该支架必须在制备时与坩埚置为一体，这样就无法实现位置的可调，这就导致了在不同的晶体生长调节下，热反射屏的位置是固定的，不利于热量的反射，无法起到更好的节能和稳定反应温度的作用，因此如何解决这一问题成为现有技术中的难题。

技术实现要素：

本实用新型针对现有技术的不足，提供了一种带有热反射屏的坩埚，该坩埚包括坩埚体和坩埚盖，所述坩埚体内壁圆周方向上均匀设置有4个插孔，垂直方向上设置有3组，且每组间距相同；通过插孔连接有支撑架，所述支撑架包括基座和与基座连接的伸缩杆，所述伸缩杆前端通过石墨托连接有支撑盘，所述支撑盘上设置有热反射屏，所述热反射屏中心设置通孔；采用这种结构的坩埚，使用时可以根据不同晶体生长的需要确定热反射屏在坩埚体内的高度，然后将支撑架插入对应水平位置的插孔内，调节伸缩杆位置使反射屏更加稳定，之后将热反射屏放置在上述四个支撑架上即可，改变了现有技术中热反射屏位置不可调，无法适应生产需求的弊端，实现了坩埚用途的多样化。

本实用新型的具体技术方案是：

一种带有热反射屏的坩埚，该坩埚包括坩埚体和坩埚盖，所述坩埚体内壁圆周方向上均匀设置有4个插孔，垂直方向上设置有3组，且每组间距相同；通过插孔连接有支撑架，所述支撑架包括基座和与基座连接的伸缩杆，所述伸缩杆前端通过石墨托连接有支撑盘，所述支撑盘上设置有热反射屏，所述热反射屏中心设置通孔；

所述的基座与插孔的孔径配合，方便基座可以稳固的插入插孔中，确保使用过程中不发生位移；由于采用了伸缩杆的设计，使得支撑盘的位置可以随之调节，这样当热反射屏放置在支撑盘上时，可以调节其接触位置使热反射屏更加稳定；所述的支撑架由石墨材质制备而成；

为了避免对坩埚的过度侵蚀，所述的最底层插孔高于坩埚内的最高承载液面位置；这样即使达到坩埚的最大承载液位，熔融液体也不会进入插孔内腐蚀插孔，从而减少其使用寿命，进而减少坩埚的使用寿命；

采用这种结构的坩埚，使用时可以根据不同晶体生长的需要确定热反射屏在坩埚体内的高度，然后将支撑架插入对应水平位置的插孔内，这样共4个支撑架彼此之间呈90度分布，之后调节伸缩杆位置使反射屏放置到上面后会更加稳定，之后将热反射屏放置在上述四个支撑架上即可，然后将上盖扣好后即可开始晶体的生长；采用这种模式，可以方便的实现热反射屏在坩埚内位置的垂直调整，较之现有固定式的热反射屏效果更好，可以适应不同晶体生长的需要。

所述热反射屏中心设置有通孔，其直径大于籽晶轴直径，这样可以方便籽晶轴的进出；

综上所述，采用这种结构的坩埚，使用时可以根据不同晶体生长的需要确定热反射屏在坩埚体内的高度，然后将支撑架插入对应水平位置的插孔内，调节伸缩杆位置使反射屏更加稳定，之后将热反射屏放置在上述四个支撑架上即可，改变了现有技术中热反射屏位置不可调，无法适应生产需求的弊端，实现了坩埚用途的多样化。

附图说明

图1为本实用新型所述坩埚使用时的结构剖视图；

图2为本实用新型所述坩埚的结构剖视图；

图3为图2中A-A剖视图；

图4为本实用新型所述支撑架的结构示意图；

图5为本实用新型所述热反射屏的俯视图；

图中1为坩埚体，2为插孔，3为基座，4为支撑盘，5为石墨托，6为伸缩杆，7为坩埚盖，8为支撑架，9为热反射屏，10为通孔。

具体实施方式

一种带有热反射屏的坩埚，该坩埚包括坩埚体1和坩埚盖7，所述坩埚体1内壁圆周方向上均匀设置有4个插孔2，垂直方向上设置有3组，且每组间距相同；通过插孔2连接有支撑架8，所述支撑架8包括基座3和与基座3连接的伸缩杆6，所述伸缩杆6前端通过石墨托5连接有支撑盘4，所述支撑盘4上设置有热反射屏9，所述热反射屏9中心设置通孔10；

为了避免对坩埚的过度侵蚀，所述的最底层插孔高于坩埚内的最高承载液面位置；

所述支撑架8采用石墨材料制成。