去雾处理，或是本发明的另一个实施例中的 任何其他合适的化学计量的氮化硅；金属或基本金属的吸收层25 (例如，包括NiCr、NiCrNx或其他等）；和护膜介质氮化硅层26,可以是高硅类型的Si3N4，用于去雾处理，或是任何其 他合适的化学计量的氮化硅。所述接触层7、11、17、和21分别至少与一个红外反射层（例 如基于银的层）接触。上述溅射沉积的层3-26形成低辐射（即，低辐射率）涂层30,被配 置在玻璃或塑料基片1上。
[0020] 在为单片时，如图1所示，涂层制品仅包括一个玻璃基片1。但是，该单片的涂层制 品可能用于类似叠层的车辆挡风玻璃、绝缘玻璃窗单元等装置中。在用于绝缘玻璃窗单元 时，绝缘玻璃窗单元可包括两个具间隔的玻璃基片。在美国专利文件No. 2004/0005467中 示出并说明了示例性绝缘玻璃窗单元，其公开的内容被纳入此处作为参考。图2示出含有 图1中所示的涂层的玻璃基片1的示例性绝缘玻璃窗单元，玻璃基片1通过垫片、密封剂40 等被耦合至玻璃基片2,并在其之间定义间隔50。在一些情况下，绝缘玻璃单元实施例中的 基片之间的间隔50中，可填入类似氩（Ar)的气体。在一些情况下，示例性绝缘玻璃单元可 包括一对具间隔的透明玻璃基片，厚度分别为3-4_，其中的一个涂有在此所述的涂层30， 其中基片之间的间隔50可为5-30mm，更优选是10-20mm，且最优选是约为16mm。在示例中， 涂层30可配置在面对间隔的任何一个基片的内表面（图2中涂层被示出位于面对间隔50 的基片1的内部主要表面，但也可位于面对间隔50的基片2的内部主要表面）。基片1或 基片2中的任何一个可以是建筑外部的绝缘玻璃窗单元的最外层基片（例如，在图2中基 片1是最接近建筑外部的基片）。
[0021] 在本发明的示例性实施例中，吸收层4位于基于氮的介质层3和5之间并与其接 触。在示例性实施例中，围绕吸收层4的层3和5分别是氮化物层，并基本或完全非氧化。 同样，在本发明的示例性实施例中，吸收层25位于基于氮的层24和26之间并与其接触。在 示例性实施例中，围绕吸收层25的层24和26分别为氮化物层，并基本或完全非氧化。选择 性地，层26的最外部分为涂层30的最外层时，其可被氧化，并露于大气中。在吸收层4和 25周围使用氮化物层3、5、24、26,优点在于可防止（或减少）热处理期间吸收层4、25被氧 化，从而更好地使吸收层4、25执行其预期的功能，特别是吸收至少一些数量的可见光（例 如，至少5%，更优选是10% )。应理解，当热处理期间，层被过多氧化时，其不能执行作为吸 收层的适当功能。
[0022] 在本发明的示例性实施例中，吸收层4、25可包括NiCr (例如，具任何Ni : Cr合适 比例的镍铬），且可以或也可以不氮化（NiCrNx)。图1中示出吸收层4和25位于基于氮的 介质层之间并与其接触。在示例性实施例中，围绕吸收层4、25的基于氮的层3、5、24、26分 别为氮化物层，并基本或完全非氧化。在示例性实施例中，吸收层4、25可包括0-10%的氧 气，更优选是0-5%的氧气，且最优选是0-2%的氧气（原子百分比）。在示例性实施例中， 吸收层4、25包括0-20 %的氮气，更优选是1-15%的氮气，且最优选是约1-12%的氮气（原 子百分比）。虽然对于吸收层4、25来说NiCr是优选材料，但也可替换使用其他材料。例 如，在本发明的其他可热处理的示例性实施例中，吸收层4和/或25可以是或包括Ni、Cr、 NiCrNx、CrN、ZrN、或TiN。在非热处理的实施例中，任何一个上述的材料可用于吸附/吸收 层4和/或25,类似Ti、Zr、NiOx等其他材料。
[0023] 低辐射涂层30的吸收层4和25被设计用来使涂层30具有较低的可见光透射率， 所需的着色，和较低的膜侧反射率。在示例性实施例中，金属或基本金属的吸收层（例如 NiCr或NiCrNx) 4和25的厚度可分别约为80-250 A，更优选是厚度为丨〇〇_2丨〇 A,且最 优选是厚度约为140-190人。在示例性实施例中，下部的吸收层4比上部的吸收层25稍 薄。例如，在示例性实施例中，下部的吸收层4比上部的吸收层25薄3-50 A (更优选是 薄3-20 A )，从而提供更理想的涂层制品的光学特性。在示例性实施例中，金属或基本金 属的吸收层4、25分别被配置在第一和第二氮化物层（例如，基于氮化硅的层）3、5、24、26 之间，来减少或防止热处理（例如，热钢化、热弯曲、和/或热强化）期间的氧化，由此随着 热处理，可实现预期的着色、透射率、和反射率值。
[0024] 因此，吸收层25被配置在上部堆栈（上部的基于银的红外反射层19之上），且第 二吸收层4被配置在下部堆栈（玻璃基片1和下部的基于银的红外反射层9之间）。优选 是，在双银层实施例中（即，低辐射涂层具有两个基于银的红外反射层），一对氮化物层之 间的中间介质堆栈中不配置类似的吸收层。也就是说，当吸收层4和25被配置在涂层的下 部和上部时，两个基于银的层9和19之间的中间堆栈中所配置的氮化物之间不配置类似的 吸收层。在此发现，在涂层的底部和顶部分别使用吸收层4和25,而不是在银之间的涂层的 中间部分，令人惊讶的是可在含有涂层30的涂层制品中同时实现较低的可见光透射率和 较低的膜侧反射率的结合。在示例性实施例中，在绝缘玻璃和/或单片应用中，涂层制品的 可见光膜侧反射率（RfY)可小于其可见光玻璃侧反射率（RgY)。
[0025] 在本发明的实施例中，介质层3、5、14、24、和26可以是或包括氮化硅。此外，氮化 硅层3、5、14、24、和26可提高涂层制品的热处理性以及在选择性的热处理期间保护吸收 层，例如类似热钢化等。在本发明的其他实施例中，层3、5、14、24、和26中一个或多个的氮 化硅可以是化学计量的类型（例如，Si3N4),或是富硅型的氮化硅。含有富硅型氮化硅的层3 和/或5中所存在的自由硅可使类似钠（Na)的原子在热处理期间从玻璃基片1向外移动， 在其到达银层9及损坏其之前可更有效地经含有富硅型氮化硅的层被停止。因此，在本发 明的示例性实施例中，热处理期间，富硅型SixNy可减少对于银层的损坏，从而使片电阻减 少，或以理想的方式保持相同。此外，在本发明可选择的示例性实施例中，层3,5,24和/或 26中的富硅型SixNy在热处理期间可减少对于吸收层4 (和/或25)的损坏（例如，氧化）。 在示例性实施例中，当富硅型氮化硅被使用时，富硅型氮化硅层由此沉积可能具有SixNy层 的特性，其中x/y可以是〇. 76-1. 5,更优选是0. 8-1. 4,甚至更优选是0. 82-1. 2。此外，在示 例性实施例中，在热处理之前和/或之后，富硅型SixNy层的折射系数〃n〃可至少为2. 05， 更优选是至少2. 07,且有时至少2. 10 (例如，632nm)(注意，也可使用化学计量的Si3N4，系数 〃n〃为2. 02-2. 04)。应注意，η和k由于热处理倾向于下降。在本发明的示例性实施例中， 在此所述的任何和/或所有氮化硅层可掺杂其他材料，例如不锈钢或铝。例如，在本发明的 示例性实施例中，在此所述的任何和/或所有氮化硅层可选择性地包括约0-15%的铝，更 优选是约1-10%的铝。在本发明的实施例中，氮化硅可通过在具有氩和氮气的大气中溅射 对象Si或SiAl被沉积。在一些情况下，还可在氮化硅层中提供少量的氧气。
[0026] 红外反射层9和19优选是基本或完全金属的和/或导电的，并可包括或由银 (Ag)、金、或其他合适的红外反射材料构成。红外反射层9和19可使涂层具有低辐射和/ 或更好的太阳能控制特性。在本发明的实施例中，红外反射层可被轻度氧化。
[0027] 上部的接触层11和12可以是或包括氧化镍（Ni)，铬/氧化铬（Cr)，NiCr，或类 似氧化镍铬（NiCrOx)的氧化镍合金，或其他合适的材料。在本发明的示例性实施例中，例 如，层11和/或21中的NiCrOx使用可提高使用寿命。在本发明的示例性实施例中，层11 和/或21的NiCrOx可完全被氧化（即，完全化学计量的），或是也可部分氧化。在一些情 况下，NiCrOJl 11和/或21可至少50%氧化。在本发明的其他实施例中，接触层11和/ 或12 (例如，包括Ni和/或Cr的氧化物）可以或也可以不被氧化分级。氧化分级表示层 中的氧化程度在整个层的厚度中变化，因此接触层可被分级，从而，与离附近红外反射层较 远或更远/最远的接触层的一部分相比，附近红外反射层的接触界面中则较少地氧化。美 国专利No. 6, 576, 349中说明了多种类型的氧化分级的接触层，其公开的内容被纳入此处 作为参考。在本发明的其他实施例中，接触层11和/或21 (例如，可以是或包括Ni和/或 Cr的氧化物）可以或也可以不是连续穿过整个红外反射层。
[0028] 在本发明的实施例中，介质层13