纳米CuSbS<sub>2</sub>材料的制备方法

文档序号:10502773阅读:568来源:国知局
纳米CuSbS<sub>2</sub>材料的制备方法
【专利摘要】本发明公开了一种纳米CuSbS2材料的制备方法,将高纯Cu、Sb与S粉末的混合物作为原材料密封在球磨罐,球磨罐密封后放入在手套箱里,充满惰性气体除去原材料中的氧气;将球磨罐安装在球磨机上进行机械球磨,30min后得到半导体化合物CuSbS2纳米晶。所制得的二硫锑铜纳米晶化学成分均匀、结构单一,表面没有杂质等覆盖物,很好的显示了材料的本征物理性能。由于其良好的光电性能,使其能成为一种可实用化的光电器件材料,如可用于红外探测、红外遥感、红外传感等领域。此外具有制备工艺简单、原料易得且价格便宜、属于对环境友好型,且可实现大批量生产等优点。
【专利说明】
纳米CuSbS2材料的制备方法
技术领域
[0001] 本发明属于纳米材料的制备领域,具体涉及的是一种纳米材料二硫铺铜(CuSbS2) 的合金化制备方法。
【背景技术】
[0002] 在过去的二十年,半导体纳米材料由于其较小的尺寸、独特的光学性能和广泛应 用的潜能而受到越来越多人的关注。然而硫化物半导体纳米材料由于材料来源丰富,在基 础研究和实际应用领域中扮演着重要的角色,已经越来越受到科学家的关注。
[0003] 三元半导体材料Cu-Sb-S体系受到了很大的关注,它们是由地球上储量丰富的三 种元素构成,带隙在近红外区域,并随着Cu-Sb-S纳米晶体组分、形貌的改变而改变,是构建 光伏和光电器件具有巨大潜在价值的吸光材料。目前,虽然有很多文献报道了 Cu-Sb-S纳米 晶体的合成,并在这个领域取得了巨大的进展,但是,能有效地控制Cu-Sb-S纳米晶体的组 分、形貌的合成方法的文献报道还是很有限的,人们依旧需要探索更加简便的合成方法。大 多数制备该系列三元化合物的方法是采用热分解法,溶剂热法等化学方法,这些方法在制 备过程中,将一种或几种前驱体溶解在溶剂中,在高温与高压的情况下,参加反应的物质达 到一定的反应阙能后,会变的更加活泼,使物质发生反应,生成相应的产物。但是通过湿化 学方法制备的半导体材料,由于需要制备前驱体,操作麻烦,同时制得的样品,表面覆盖了 有机物等杂质,从而对材料的本征物理性能产生了一定的影响。所以采取一种代替的物理 方法来制备表面干净而且化学组成单一的三元半导体材料Cu-Sb-S纳米晶显得尤为重要。
[0004] CN201510556601.5浙江大学的刘毅等人采用溶剂热法成功的制备出了四元硫化 合物ACuSb2S 4半导体材料,通过他们的制备过程可知,反应在有机溶剂中进行,并且反应的 温度为160°C,反应时间为7天,这表明所制备的粒子表面覆盖一层有机物,从而影响了材料 的本征物理性能,并且反应的温度较高,这对设备具有较高的要求,反应周期较长,降低了 合成的效率,这都缺点都限制了该方法在工业上的应用。同时,他们所制备的样品大小为 200*300um,这使得样品具有较大的尺寸,较低了表面活性,当制作精密的半导体光学器件 时,则会限制它的应用范围。

【发明内容】

[0005] 本发明目的在于利用物理机械合金化的方法取代化学方法,来制备三元半导体材 料二硫锑铜(CuSbS2)纳米晶。合成的半导体纳米晶化学组分均匀、结构单一,表面没有杂质 等覆盖物,很好的显示了材料的本征物理性能。
[0006] 为达到上述目的,采用技术方案如下:
[0007] CuSbS2纳米晶体的制备方法,包括以下步骤:
[0008] 1)将高纯Cu、Sb与S粉末的混合物作为原材料密封在球磨罐,球磨罐密封后放入在 手套箱里,充满惰性气体除去原材料中的氧气;
[0009] 2)将球磨罐安装在球磨机上进行机械球磨,调整球磨机马达的运转速率为1200r/ min以上,30min后得到半导体化合物CuSbS2纳米晶。
[0010]按上述方案,球磨40h以上得到半导体化合物CuSbS2纳米晶。
[0011 ] 按上述方案,所述粉末粒径大小均为80nm到120nm。
[0012] 按上述方案,Cu、Sb与S粉末的纯度均高于99.9wt%。
[0013] 按上述方案,Cu、Sb与S粉末的摩尔比为(1±0.1):(1±0.1):(2±0.1)。
[0014] 按上述方案,球磨罐中球磨子直径为2-12毫米,球粉质量比设定为2:1~30:1。 [0015] 通常,采用化学方法制备CuSbS2,需要将前驱体溶液加热到260°C左右,并保温较 长的时间,才能生成CuSbS 2纳米晶体,但是我们采用机械合金化法,却不需要这么高的温 度,其主要原因如下:所采用的元素粉体为Cu、Sb和S粉,均为固体粉末,并且化学性质比较 活波,它们反应的活化能比较低,容易在较低的温度下,发生化合反应。根据XRD的衍射图谱 可知,在反应的初始阶段,有大量的CuS和少量的CuSbS2产品生成,这表明在最开始,大量的 Cu和S粉发生了化合反应,生成了 CuS,并放出了大量的反应热,这些反应热能够促进Sb粉与 其余的物质发生化合反应,从而生成纳米半导体材料CuSbS2,从反应过程可以表明它属于 "爆炸反应"。由于碰撞会使球磨罐中的温度升高,在较短的时间内,Cu、Sb和S粉发生合金化 反应生成了大量的CuS和少量的CuSbS2,并放出大量的反应热,这些热又为临近状态的粉末 反应提供了能量,使得反应能在较短的时间和较低的温度下进行。从热力学角度分析:采用 化学方法加热到260°C左右时,才会形成CuSbS 2的纳米晶,而机械合金化法只需在常温下便 可发生反应,这主要是由于小球与瓶壁碰撞产生的自由能(AG),会有一部分转移给原料粉 体,导致反应体系的熵(AS)增强,有助于反应的发生。
[0016] 本实验的有益效果在于:
[0017] 所制得的二硫锑铜纳米晶化学成分均匀、结构单一,表面没有杂质等覆盖物,很好 的显示了材料的本征物理性能。
[0018] 由于其良好的光电性能,使其能成为一种可实用化的光电器件材料,如可用于红 外探测、红外遥感、红外传感等领域。
[0019] 此外,本发明具有制备工艺简单、原料易得且价格便宜、属于对环境友好型,且可 实现大批量生产等优点。
【附图说明】
[0020] 图1:球磨30秒、3分钟、5分钟所得CuSbS2纳米晶的XRD图谱;
[0021] 图2:球磨10分钟、15分钟、30分钟和40小时所得CuSbS2纳米晶的XRD图谱;
[0022] 图3:球磨40小时的CuSbS2纳米晶的TEM图谱;
[0023] 图4:球磨40小时的CuSbS2纳米晶的HRTEM图谱;
[0024] 图5:球磨40小时的CuSbS2纳米晶的粒径分布图;
[0025]图6:球磨40小时的CuSbS2纳米晶的红外吸收光谱。
【具体实施方式】
[0026] 分别称量元素 Cu、Sb和S粉体各3.8214g、7.3221g和3.8565g,保持称量的误差在土 0.0002g范围内,将称量好的样品置于不同直径大小球磨子的球磨罐里并密封,放在手套箱 里敞开60分钟以除去空气,密封后取出,装载在球磨机(SPEX 8000)上进行球磨,分别球磨 30秒、3分钟、5分钟、10分钟、15分钟、30分钟和40小时,对于不同的球磨时间的样品要在手 套箱里进行取样,以避免氧化。
[0027]分别对不同时间段的样品进行XRD测试,其XRD图谱如图1所示。
[0028]图1为机械合金化制备出的CuSbS2纳米晶粉体的XRD图谱,该图演示了在整个球磨 过程中元素粉体经化学机械合金化的结构演变,图Ib显示了球磨3分钟的样品,此时与图Ia 球磨30s相比,元素粉末Cu的衍射峰明显消失了,但XRD显示的主要是元素粉体的衍射峰,表 明样品只有少数合成了CuSbS 2;图Ic球磨5分钟后,单一元素粉体的衍射峰强度继续降低, 球磨时间越久,元素粉末的衍射峰强度就越低。
[0029] 图2d球磨10分钟以后,元素粉体的衍射峰完全消失了,生成的产物完全是纯的 CuSbS2固溶体,此时合成的CuSbS2固溶体属于斜方晶系。图2f当球磨30分钟后,没有造成晶 体结构的变化,但衍射峰的强度有所降低,这可能是由于非晶化造成的。图2g当球磨到40小 时以后,纤锌矿结构中(020),(410)晶面的衍射强度变强了,而(220),(320)晶面的衍射强 度明显的削弱。同时,在30分钟到40小时的时间内,没有新的衍射峰产生,表明生成了稳定 的CuSbS 2纳米晶,且没有杂质产生。
[0030] 图3为球磨40小时的CuSbS2纳米晶扩散在Τ0Ρ/Τ0Ρ0及其吡啶溶液中的TEM图谱,从 图中我们可以看到,多数纳米粒子是均匀地分散在有机溶剂中,教容易分辩出单一纳米粒 子,同时在TEM的图谱中没有看到大量的CuSbS 2纳米晶粒子团聚在一起,表明该粒子在溶剂 中有很好的分散能力。
[0031] 图4 (a)为球磨40小时的Cu Sb S2纳米晶体的HRTEM图谱,从图中可以清晰地看到晶 格条纹,这表明纳米晶体结晶良好,这与XRD图谱所测得的结果一致。同时,在HRTEM中,既可 以看到闪锌矿结构的CuSbS 2纳米晶,有可以看到纤锌矿结构的CuSbS2纳米晶。图4(a)中A部 分的晶面间距为3.丨32 A,这与XRD软件中的TOF(44-1417) -致,所对应的晶格常数为(111)。 图4(b)显示的是CuSbS2纳米晶体包覆后的在高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)下的图像。 从图中可以清楚的看出,纳米晶体CuSbS 2均匀的分散在胶体溶液中,没有粒子聚集的现象, 也可以看出制备了球形的纳米晶体,并且产品的形貌、性质等与化学方法所制备的产物相 似,所制备的粒径相对于化学方法而言,粒径更小,这表明量子效应更加的显著。在图像中, 可以清楚的看到晶体条纹,表明该样品具有很好的结晶性能。
[0032]图5为球磨40小时后的CuSbS2纳米晶的粒径分布图,用高斯函数对其进行拟合,可 见其符合统计学规律。从图中可以看出,CuSbS2纳米晶的粒径分布范围在2.5nm~7.5nm,高 斯分布模型集中在4.8nm,可认为CuSbS 2纳米晶的平均尺寸就是此数值。
[0033]图6为球磨40小时CuSbS2纳米晶体近红外和中红外的图谱,显然CuSbS2是直接间隙 半导体的一种光学类型。对于CuSbS2的光谱,在波长处带隙能量的吸收率有一个显著下滑 和一个缓慢下滑,这是间接间隙半导体光学光谱的典型特征。其能隙可以通过在红外区用 (αΕ) 1/2比E的直线来确定,间接带隙能量通过线性外推缓慢下滑处(aE)1/2边缘到零吸收确 定。图5显示当光子能小于带隙能量时,吸收率很小,因为这些光子不足以激发在价带的电 子跃迀至导带。当光子能大于带隙能量时,吸收率会先缓慢增长然后显示突然的增加,缓慢 增长的吸收率源自间接带隙,而吸收率突然激增则是源自直接带隙的跃迀。同时,从红外光 谱中可以看出,CuSbS 2的吸收峰在848nm处,可见其禁带宽度在此处,并且根据光谱可以算 出其直接禁带宽度为1.35eV,间接禁带宽度为0.36eV。
【主权项】
1. CuSbS2纳米晶体的制备方法,其特征在于包括以下步骤: 1) 将高纯Cu、Sb与S粉末的混合物作为原材料密封在球磨罐,球磨罐密封后放入在手套 箱里,充满惰性气体除去原材料中的氧气; 2) 将球磨罐安装在球磨机上进行机械球磨,调整球磨机马达的运转速率为1200r/min 以上,30min后得到半导体化合物CuSbS2纳米晶。2. 如权利要求1所述CuSbS2纳米晶体的制备方法,其特征在于球磨40h以上得到半导体 化合物CuSbS2纳米晶。3. 如权利要求1所述CuSbS2纳米晶体的制备方法,其特征在于所述粉末粒径大小均为 80nm到120nm〇4. 如权利要求1所述CuSbS2纳米晶体的制备方法,其特征在于Cu、Sb与S粉末的纯度均高 于99 · 9wt%。5. 如权利要求1所述CuSbS2纳米晶体的制备方法,其特征在于Cu、Sb与S粉末的摩尔比为 (1±0.1):(1±0.1):(2±0.1)。6. 如权利要求1所述CuSbS2纳米晶体的制备方法,其特征在于球磨罐中球磨子直径为2-12毫米,球粉质量比设定为2:1~30:1。
【文档编号】C01G30/00GK105858723SQ201610300035
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年5月9日
【发明人】谭国龙, 徐期树, 盛号号
【申请人】武汉理工大学
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