本实用新型属于放射化学药物合成技术领域，具体涉及到一种制备O-(2-[18F]氟乙基)-L-酪氨酸的装置。
背景技术：
O-2-[18F]氟乙基)-L-酪氨酸(18F-FET)是一种PET氨基酸代谢类显像剂，经过评估研究，其在大脑皮层及末梢神经的肿瘤的PET示踪方面具有很好的效果，其是一种可以大批量合成，并可以采用配送中心方式供应于临床的F-18标记的氨基酸，已应用于胶质瘤的分级及预后、胶质瘤的范围评估，鉴别肿瘤复发与放疗的坏死，评价各种肿瘤治疗的疗效等，并取得了较满意的结果。
人们已经对18F-FET的生物分布做过研究，在患乳腺癌和结肠癌SW707的小鼠身上进行血浆、脑部、肿瘤及胰脏样品中的18F-FET分布进行检测，结果发现：在注射18F-FET 30～60min后，小鼠的脑部对18F-FET的吸收量约为2％ID/g，而在注射18F-FET的10、40和60min后，对小鼠的胰脏、脑部、肿瘤以及血浆样品进行高效液相色谱(HPLC)分析，结果显示：样品中只含有18F-FET，18F-FET并未合成到蛋白质中，在注射18F-FET40min后，在骨中的摄取不超过2％ID/g，而在60min时，18F-FET在乳腺癌和结直肠癌SW707小鼠模型中肿瘤组织内的摄取分别达到7.1士1.2％ID/g和6.4士1.7％ID/g。在临床病例研究中，给一个复发性星型癌患者使用18F-FET显像，18F-FET PET显像给出了复发性星型癌的清晰轮廓：注射35min后，皮层、肿瘤的摄取率比大于2.7，在注射30min后，血、肿瘤的摄取率比大于1.5，并持续增加，另外在注射大约40min后，在末梢中并没有发现明显的放射性积聚。在2001年美国核医学年会上的总结报告中，Wagner教授强调了18F-FET的潜在价值，声称它将成为继18F-FDG之后的主要PET示踪剂。18F-FET具有自己的显像特征，能够从不同程度上弥补18F-FDG显像的不足，在临床上的意义重大。因此，临床上对这种新型PET显像剂的需求日益迫切，18F-FET需要得到大剂量、高质量、快捷的合成，这对18F-FET的制备合成工艺提出了一些新的要求。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于利用合成模块系统优势，设计一组自动化、大剂量化、高纯度的制备O-2-[18F]氟乙基)-L-酪氨酸合成对应的卡套。
为了解决上述技术问题，本实用新型通过以下方式来实现：
一种制备O-(2-[18F]氟乙基)-L-酪氨酸的装置，包括一种卡套，所述卡套包括卡套底板、卡套底板通孔、卡槽、合成管线系统和三通气动阀门，所述卡套底板通孔贯穿设置在卡套底板，卡槽设置在卡套底板的表面上，用于将合成管线固定在卡套底板上，且卡槽尺寸大小与合成管线直径相当，在连接不同的合成管线之间设置有三通气动阀门，所述合成管线系统包括分别由三通气动阀门相连通的合成管线I和合成管线II、三通气动阀门相连通的合成管线III和合成管线IV、三通气动阀门相连通的合成管线V和合成管线VI与三通气动阀门相连通的合成管线VII和合成管线VIII、各合成管线和三通气动阀门均由控制系统连接控制，所述卡套为整体一次成型结构。
与现有技术相比，本实用新型具有的有益效果：
该装置将18F-FET的合成路线与CFN-MPS-200合成模块在工艺上进行改进，通过采用新型卡套技术，气密性更好，避免了试剂在管线中的大量残留；在合成之前进行自检，保证了更好的合成环境；在合成过程中，操作人员通过摄像头装置观察内部情况，确保每一步顺利进行，有效降低合成失败的概率；该合成模块适用于多种新型PET显像剂的合成，能够在提高合成效率的同时提高了产品的化学纯度，收集产品后即可注射。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中各个标记分别为：1、卡套底板，2、卡套底板通孔，3、三通气动阀门，41～48、合成管线I～VIII。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明。
如图1所示，本实用新型设计采用了一种卡套，所述卡套包括卡套底板1、卡套底板通孔2、卡槽、合成管线系统和三通气动阀门3，所述卡套底板通孔贯穿设置在卡套底板，卡槽设置在卡套底板的表面上，用于将合成管线固定在卡套底板上，且卡槽尺寸大小与合成管线直径相当，在连接不同的合成管线之间设置有三通气动阀门，所述合成管线系统包括分别由三通气动阀门相连通的合成管线I 41和合成管线II 42、三通气动阀门相连通的合成管线III 43和合成管线IV 44、三通气动阀门相连通的合成管线V 45和合成管线VI 46与三通气动阀门相连通的合成管线VII 47和合成管线VIII 48、各合成管线和三通气动阀门均由控制系统连接控制，合成管线I与靶水收集瓶连通，合成管线II～合成管线VIII分别与1～7号试剂瓶相连通，所述卡套为整体一次成型结构。
以上所述仅是本实用新型的实施方式，再次声明，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进，这些改进也列入本实用新型权利要求的保护范围内。