共聚物蓝光主体材料及其制备方法和应用

文档序号:8406616阅读:207来源:国知局
共聚物蓝光主体材料及其制备方法和应用
【技术领域】
[0001] 本发明涉及有机电致发光材料领域,尤其涉及一种共聚物蓝光主体材料及其制备 方法和应用。
【背景技术】
[0002] 自1987年柯达公司C. W. Tang等人首次报道通过蒸锻方法制备出W A1q3为发光 材料的双层器件结构W来,有机电致发光就得到了人们的极大关注。有机电致发光可分为 英光和磯光电致发光。根据自旋量子统计理论,单重态激子和H重态激子的形成概率比例 是1 ;3,即单重态激子仅占"电子-空穴对"的25%。因此,来自于单重态激子的福射跃迁 的英光就只占到总输入能量的25%,而磯光材料的电致发光就可W利用全部激子的能量,因 而具有更大的优越性。现在的磯光电致发光器件中大多采用主客体结构,即将磯光发射物 质W-定的浓度惨杂在主体物质中,虽然可W避免H重态-H重态的煙灭,但磯光的发射 效率还是相对低。

【发明内容】

[0003] 本发明所要解决的问题在提供一种发光效率较高的共聚物蓝光主体材料。
[0004] 为实现上述目的,本发明提供的共聚物蓝光主体材料,其通过如下方法制得:
[000引在无氧环境下,将结构式为
【主权项】
1. 一种共聚物蓝光主体材料,其特征在于,其通过如下步骤制得: 在无氧环境下,将结构式为E
的化合物A和结构式为
丨勺化合物B按照摩尔比为1:1~1. 2比例添加入含有 催化剂和碱溶液的有机溶剂中溶解,得到的混合溶液于70~130°C下进行Suzuki 耦合反应12~96小时,停止反应并冷却到室温,分离提纯反应液,得到结构式为
的所述共聚物蓝光主体材料;其中,η为10~100之间的 整数。
2. 根据权利要求1所述的共聚物蓝光主体材料,其特征在于,所述催化剂为双三苯基 膦二氯化钯或四三苯基膦钯;所述催化剂与所述化合物A的摩尔比为1:20~1:100。
3. 根据权利要求1所述的共聚物蓝光主体材料,其特征在于,所述催化剂为摩尔比为 1:4~8的有机钯与有机膦配体的组成混合物;所述催化剂与所述化合物A的摩尔比为 1:20 ~1:100。
4. 根据权利要求3所述的共聚物蓝光主体材料,其特征在于,所述有机钯为醋酸 钯或三二氩苄基丙酮二钯,所述有机膦配体为三(邻甲基苯基)膦或者2-双环己基 勝-2',6' -二甲氧基联苯。
5. 根据权利要求4所述的共聚物蓝光主体材料,其特征在于,所述混合物为醋酸钯 与三(邻甲基苯基)膦的混合物,或者所述混合物为三二氩苄基丙酮二钯与2-双环己基 膦-2',6' -二甲氧基联苯的混合物。
6. 根据权利要求1所述的共聚物蓝光主体材料,其特征在于,所述碱溶液选自碳酸钠 溶液、碳酸钾溶液及碳酸氢钠溶液中的至少一种;所述碱溶液中,碱溶质与所述化合物A的 摩尔比为20:1。
7. 根据权利要求1所述的共聚物蓝光主体材料,其特征在于,所述有机溶剂选自甲苯、 Ν,N-二甲基甲酰胺、四氢呋喃中的至少一种。
8. 根据权利要求1至7任一所述的共聚物蓝光主体材料,其特征在于,所述分离提纯反 应液包括: Suzuki耦合反应停止后,向反应液中加入甲醇沉析,通过索氏提取器过滤之后依次用 甲醇和正己烷抽提,然后以氯仿为溶剂抽提至无色,收集氯仿溶液并旋干,得到固体粉末, 该固体粉末在真空下50°C干燥24h后,即得所述共聚物蓝光主体材料。
9. 一种如权利要求1所述的共聚物蓝光主体材料的制备方法,其特征在于,其步骤如 下: 分别提供如下结构式表示的化合物A和B,
在无氧环境下,将摩尔比为1:1~1. 2的化合物A和B添加入含有催化剂和碱溶液的有 机溶剂中溶解,得到的混合溶液于70~130°C下进行Suzuki耦合反应12~96小时,停止 反应并冷却到室温,分离提纯反应液,得到如下结构式所述的所述共聚物蓝光主体材料:
其中,η为10~100之间的整数。
10. -种权利要求1所述共聚物蓝光主体材料在有机电致发光器件发光层领域中的应 用。
【专利摘要】本发明属于有机电致发光材料领域,其公开了一种共聚物蓝光主体材料及其制备方法和应用;该材料的结构式如下:其中,n为10~100之间的整数。本发明提供的共聚物蓝光主体材料中,四苯基硅衍生物是超高能隙主体材料,具有非常高的三线态能级,在四苯基硅上引入二苯磷氧基有利于提高电子传输性能;三唑也具有较好的电子传输性能;通过在聚三唑主链上引入四苯基硅衍生物,有利于提高有机电致发光器件的发光效率。
【IPC分类】C09K11-06, C08G61-12, H01L51-54
【公开号】CN104725608
【申请号】CN201310724611
【发明人】周明杰, 张振华, 王平, 黄辉
【申请人】海洋王照明科技股份有限公司, 深圳市海洋王照明技术有限公司, 深圳市海洋王照明工程有限公司
【公开日】2015年6月24日
【申请日】2013年12月24日
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