粘合剂层与透明导电膜接触。
[0140] 上述带粘合剂层的偏振膜可以使用上文所述的偏振膜。
[0141] 作为具有透明导电膜的基材，没有特别限定，可以使用公知的具有透明导电膜的 基材，但一般而言，使用在透明基材上具有透明导电膜的基材。
[0142] 作为透明基材，只要具有透明性即可，可以举出例如：树脂膜、包含玻璃等的基材 (例如片状、膜状、板状的基材等）等，特别优选树脂膜。透明基材的厚度没有特别限定，优 选为10~200μm左右，更优选为15~150μm左右。
[0143] 作为上述树脂膜的材料，没有特别限制，可以举出具有透明性的各种塑料材料。例 如，作为该材料，可以举出聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系树脂；乙酸酯 系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、 (甲基）丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇 系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。这些之中特别优选的是聚酯系树脂、聚酰亚胺 系树脂和聚酿讽系树脂。
[0144] 另外，对于上述透明基材，可以预先对其表面实施溅射、电晕放电、火焰、紫外线照 射、电子束照射、化学转化、氧化等蚀刻处理或底涂处理，来提高在透明基材上设置的透明 导电膜对上述透明基材的密合性。另外，在设置透明导电膜前，可以根据需要利用溶剂清 洗、超声波清洗等进行除尘、清洁。
[0145] 作为上述透明导电膜的构成材料，没有特别限定，可使用选自由铟、锡、锌、镓、锑、 钛、硅、锆、镁、铝、金、银、铜、钯、钨组成的组中的至少1种金属的金属氧化物。在该金属氧 化物中根据需要还可以含有上述组中所示的金属原子。例如，优选使用含有氧化锡的氧化 铟（ΙΤ0)、含有锑的氧化锡等，特别优选使用ΙΤ0。作为ΙΤ0,优选含有氧化铟80~99重量％ 和氧化锡1~20重量％。
[0146] 另外，作为上述ΙΤ0,可以列举结晶性的ΙΤ0、非结晶性（无定形）的ΙΤ0,均可以适 宜地使用。
[0147] 上述透明导电膜的厚度没有特别限制，优选设成10nm以上、更优选为15~40nm、 进一步优选为20~30nm。
[0148] 作为上述透明导电膜的形成方法，没有特别限定，可以采用以往公知的方法。具体 来说，例如可以例示出真空蒸镀法、溅射法、离子镀法。另外，也可以根据所需要的膜厚采用 适当的方法。
[0149] 作为具有上述透明导电膜的基材的厚度，可列举15~200μπι。此外，从薄膜化的 观点考虑，优选为15~150μm、更优选为15~50μm。在以电阻膜方式使用具有上述透明 导电膜的基材的情况下，可以列举例如100~200μπι的厚度。另外，用静电容量方式进行 使用的情况下，例如优选为15~100μm的厚度，尤其地，随着近年来进一步薄膜化的要求， 更优选为15~50μm的厚度，进一步优选为20~50μm的厚度。
[0150] 另外，可以根据需要在透明导电膜与透明基材之间设置底涂层、防低聚物层等。
[0151] 6.图像显示装置
[0152] 本发明的层叠体可以适合地用于制造构成具备输入装置（触控面板等）的图像显 示装置（液晶显示装置、有机EL(电致发光）显示装置、TOP(等离子显示器平板）、电子纸 等）、输入装置（触控面板等）等设备的基材（部件）或用于这些设备的基材（部件），尤 其可以适合地用于制造触控面板用的光学基材。另外，可以以电阻膜方式、静电容量方式之 类的触控面板等的方式无关地使用。
[0153] 对本发明的层叠体实施裁切、印刷抗蚀剂、蚀刻、银墨印刷等处理而得到的透明导 电性膜可以用作光学器件用基材（光学部件）。作为光学器件用基材，只要是具有光学特性 的基材，就没有特别限定，可以举出例如：构成图像显示装置（液晶显示装置、有机EL(电致 发光）显示装置、rop(等离子显示器平板）、电子纸等）、输入装置（触控面板等）等设备 的基材（部件）或用于这些设备的基材（部件）。
[0154] 另外，如上所述，对于本发明的带粘合剂层的偏振膜而言，在该带粘合剂层的偏振 膜的粘合剂层上层叠有透明导电膜的情况下，也能够抑制透明导电膜的腐蚀，因此可以适 合地用于具有带粘合剂层的偏振膜的粘合剂层与透明导电膜接触的构成的图像显示装置。
[0155] 7.丙烯酸系粘合剂组合物的交联促进方法
[0156] 本发明的丙烯酸系粘合剂组合物的交联促进方法是包含（甲基）丙烯酸系聚合 物、以及选自有机过氧化物系交联剂和异氰酸酯系交联剂中的1种以上交联剂的丙烯酸系 粘合剂组合物的交联促进方法，其特征在于，
[0157] 在上述丙烯酸系粘合剂组合物中进一步添加相对于上述（甲基）丙烯酸系聚合物 100重量份为0. 005~5重量份的下述通式（1)所示的化合物后进行交联，
[0158]
[0159] (式中，R1和R2各自独立地为氢原子、或可包含氧原子的碳原子数1~18的烃残 基）。
[0160] (甲基）丙烯酸系聚合物、选自有机过氧化物和异氰酸酯系交联剂中的1种以上交 联剂、通式（1)所示的化合物可以使用上文所述的（甲基）丙烯酸系聚合物、选自有机过氧 化物和异氰酸酯系交联剂中的1种以上交联剂、通式（1)所示的化合物，其配合比例也如上 文所述。另外，作为交联条件，也如上文所述。
[0161] 在本发明的丙烯酸系粘合剂组合物的交联促进方法中，通过在包含（甲基）丙烯 酸系聚合物、以及选自有机过氧化物系交联剂和异氰酸酯系交联剂中的1种以上交联剂的 丙烯酸系粘合剂组合物中进一步含有上述通式（1)所示的化合物，从而能够促进该丙烯酸 系粘合剂组合物的交联。这是因为，使用有机过氧化物系交联剂作为交联剂的情况下，通过 通式（1)所示的化合物的添加，因氧导致的对自由基交联的阻碍得到抑制，可以有效地进 行交联反应，另外，使用异氰酸酯系交联剂作为交联剂的情况下，通式（1)所示的化合物成 为形成氨基甲酸酯反应的催化剂，能够有效地进行交联反应。如此，通过使用通式（1)所示 的化合物，有机过氧化物系交联剂和/或异氰酸酯系交联剂的交联反应得到促进，其结果， 加工时的Jj父糊残留等得到抑制，可以提尚加工性，并且生广率优异。
[0162] 实施例
[0163] 以下，使用实施例对本发明进行详细说明，但本发明在不超出其主旨构成的情况 下不限于以下的实施例。另外，各例中，份、％均为重量基准。
[0164] 制造例1 (偏振膜（1)的制作）
[0165] 对于在非晶性聚对苯二甲酸乙二酯（PET)基材上成膜有厚度9μπι的聚乙烯醇 (PVA)层的层叠体进行拉伸温度130Γ的空中辅助拉伸，由此生成拉伸层叠体。接着，对拉 伸层叠体进行染色，由此生成着色层叠体，进而对着色层叠体进行拉伸温度65°C的硼酸水 溶液中拉伸，由此生成包含以总拉伸倍率为5. 94倍的方式与非晶性PET基材一起被拉伸的 4μπι厚的PVA层的光学膜层叠体。通过这样的两段拉伸，可以生成在非晶性PET基材成膜出 的PVA层的PVA分子呈高阶取向、通过染色所吸附的碘以多碘离子络合物的形式在单方向 呈高阶取向的构成高性能偏振片的、包含厚度4μπι的PVA层的光学膜层叠体。进一步，一边 在该光学膜层叠体的偏振片的一面涂布聚乙烯醇系胶粘剂，一边贴合皂化处理后的40μm 厚的丙烯酸系树脂膜（透明保护膜（1))，然后将非晶性PET基材剥离，制作了使用单面保护 的薄型偏振片的偏振膜。以下，将其称作偏振膜（1)。
[0166] 制造例2 (偏振膜（2)的制作）
[0167] 将厚度80μπι的PVA膜在速度比不同的辊间边于30°C、0. 3%浓度的碘溶液中染 色1分钟，边拉伸至3倍。之后，边在60°C的包含4%浓度的硼酸、10%浓度的碘化钾的水 溶液中浸渍〇. 5分钟，边进行拉伸使得综合拉伸倍率达6倍。接下来，在30°C的包含1. 5% 浓度的碘化钾的水溶液中浸渍10秒钟，由此进行清洗后，在50°C干燥4分钟，得到了厚度 20μπι的偏振片。进一步，边在该光学膜层叠体的偏振片的表面涂布聚乙烯醇系胶粘剂，边 贴合皂化处理后的40μπι厚的丙烯酸系树脂膜（透明保护膜（1))，然后将非晶性PET基材 剥离，然后利用聚乙烯醇系胶粘剂在另一面贴合厚度40μπι的降冰片烯系膜（透明保护膜 (2))，从而制作了双面保护偏振膜。以下，将其称作偏振膜（2)。
[0168]表1
[0169]
[0170]制造例3 (含有丙烯酸系聚合物（Α- 1)的溶液的制备）
[0171] 在具备冷凝管、氮导入管、温度计和搅拌装置的反应容器中，与乙酸乙酯一起加入 丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4 一羟基丁酯1份和相对于单体（固体成分）100份为1份的作 为引发剂的2, 2' -偶氮二异丁腈（ΑΙΒΝ)，在氮气气流下于60°C反应7小时后，在该反应液 中加入乙酸乙酯，得到了含有重均分子量155万的丙烯酸系聚合物（A- 1)的溶液（固体 含量浓度30重量％ )。
[0172] 制造例4~6 (含有丙烯酸系聚合物（A- 2)~（A- 4)的溶液的制作）
[0173] 除了将单体的组成变更为表2所示的组成以外，与制造例3同样地得到了含有丙 烯酸系聚合物（A- 2)~（A- 4)的溶液（各溶液的固体含量浓度为30重量％ )。
[0174]表 2
[0175]
[0176] 表2中的缩写分别如下所述。
[0177] BA:丙烯酸丁酯
[0178]AA:丙烯酸
[0179]HEA:丙烯酸-2-羟基乙酯
[0180]HBA:丙烯酸4-羟基丁酯
[0181] 另外，在制造例3~6中得到的丙烯酸系聚合物的重均分子量通过以下的测定方 法进行测定。
[0182] <丙烯酸系聚合物的重均分子量（Mw)的测定>
[0183] 所制作的丙烯酸系聚合物的重均分子量通过GPC(凝胶渗透色谱）进行测定。
[0184]装置：东曹社制、HLC- 8220GPC
[0185]柱：
[0186]样品柱：东曹社制、TSKguardcolumnSuperHZ-H(1 根）+TSKgelSuperHZM- H(2 根）
[0187]参比柱：东曹社制、TSKgelSuperH-RC(1 根）
[0188]流量：〇. 6mL/min
[0189]注入量：10μL
[0190]柱温度：40°C
[0191]洗脱液：THF
[0192] 注入试样浓度：0· 2重量％
[0193] 检测器：差示折射计
[0194] 需要说明的是，重均分子量通过聚苯乙烯换算来算出。
[0195] 实施例1
[0196](丙烯酸系粘合剂组合物的制备）
[0197] 将在制造例3中得到的丙烯酸系聚合物（A- 1)、作为交联剂的相对于上述丙烯 酸系聚合物溶液的固体成分每1〇〇份为〇. 1份的六亚甲基二异氰酸酯的与三羟甲基丙烷的 加合物（商品名：TAKENATED160N、三井化学株式会社制）、为0.3份的过氧化二苯甲酰、为 〇· 05份的磷酸酯（商品名：PhosphanolSM- 172、东邦化学工业株式会社制）、为0· 075份 的γ-环氧丙氧基丙基甲氧基硅烷（商品名：KBM- 403、信越化学工业株式会社制），从 而得到了丙烯酸系粘合剂组合物。
[0198](带粘合剂层的偏振膜的制作）
[0199] 利用喷涂器3-夕一）将上述丙烯酸系粘合剂组合物均匀涂敷于 用硅酮系剥离剂处理过的聚对苯二甲酸乙二酯膜（基材）的表面，在155°C的空气循环式恒 温烘箱中干燥2分钟，在基材的表面形成了厚度20μm的粘合剂层。接下来，使形成有粘合 剂层的隔膜移接在偏振膜（1)的没有保护膜的面，制作了带粘合剂层的偏振膜。
[0200] 实施例2~3
[0201] 在实施例1的（丙烯酸系粘合剂组合物的制备）中将磷酸酯的添加量从0.05份 改变为表3所述的份数，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层的偏振膜。
[0202] 实施例4~6
[0203]在实施例1的（带粘合剂层的偏振膜的制作）中将干燥条件从155°C、120秒钟改 变为表3中记载的条件，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层的偏振膜。
[0204] 实施例7
[0205] 在实施例1的（丙烯酸系粘合剂组合物的制备）中将PhosphanolSM- 172 (商 品名、东邦化学工业株式会社制）〇. 05份改变为Phosp