带防错位结构的胶圈模具的制作方法

文档序号:4472881阅读:170来源:国知局
带防错位结构的胶圈模具的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种带防错位结构的胶圈模具。因现有胶圈在模具设计时,胶圈模具在使用时必定有多余的胶料在分型面处溢出,产生一定厚度的飞边,导致产品产生错位或者椭圆,影响产品的质量。一种带防错位结构的胶圈模具,其组成包括:上模、下模,上模预留出飞边(1)的厚度为0.01mm~0.03mm,上模预留出飞边的厚度等于下模预留出飞边(2)的厚度,上模(3)、下模(4)均为半圆形,上模、下模断面处分别有球形型腔(5)和球形型腔(6)。本发明用于解决了胶圈的错位问题,提高了产品的圆度和产品的质量。
【专利说明】带防错位结构的胶圈模具
[0001]【技术领域】:
本发明涉及胶圈模具的一种新型结构,具体涉及一种带防错位结构的胶圈模具。
[0002]【背景技术】:
因现有胶圈在模具设计时,上下模配合分型面处角度及配合尺寸一致,而胶圈模具在使用时必定有多余的胶料在分型面处溢出,产生一定厚度的飞边,导致产品产生错位或者椭圆,影响产品的质量。
[0003]
【发明内容】
:
本发明的目的是提供一种带防错位结构的胶圈模具,它有效改善了胶圈错位缺陷,提闻了广品的质量。
[0004]本发明的目的是这样实现的:
一种带防错位结构的胶圈模具,其组成包括:上模、下模,所述的上模预留出飞边的厚度为0.0lmm?0.03mm,所述的上模预留出飞边的厚度等于下模预留出飞边的厚度,所述的上模、下模均为半圆形,所述的上模、下模断面处分别有球形型腔。
[0005]所述的带防错位结构的胶圈模具,所述的上模、下模型腔内分别具有胶圈截面中心点B、E,所述的上膜具有上模配合尖点A、C,所述的下模具有下模配合尖点D、F。
[0006]有益效果:
1.本发明模具使用时,料胚体积比胶圈成品体积大较多,而且模具其余部分无间隙或间隙极小,在硫化机较大压力的作用下,本发明考虑到模具飞边,上下模各预留出0.01mm飞边,经过最终试模确认,模具错位现象基本解决,缩短了模具生产周期,保证了交付进度。椭圆现象也较以前有很大好转,使模具设计更加合理化。
[0007]本发明具防错位结构,它有效改善了胶圈错位缺陷,提高了产品的质量。
[0008]【专利附图】

【附图说明】:
附图1是上模的示意图。
[0009]附图2是下模的示意图。
[0010]【具体实施方式】:
实施例1:
一种带防错位结构的胶圈模具,其组成包括:上模、下模,所述的上模预留出飞边I的厚度为0.0lmm?0.03mm,所述的上模预留出飞边的厚度等于下模预留出飞边2的厚度,所述的上模3、下模4均为半圆形,所述的上模、下模断面处分别有球形型腔5、球形型腔6。
[0011]实施例2:
上述的带防错位结构的胶圈模具,所述的上模、下模型腔内分别具有胶圈截面中心点B11、中心点E12,所述的上膜具有上模配合尖点A7、尖点C8,所述的下模具有下模配合尖点D9、尖点 F10。
【权利要求】
1.一种带防错位结构的胶圈模具,其组成包括:上模、下模,其特征是:所述的上模预留出飞边的厚度为0.0lmm?0.03mm,所述的上模预留出飞边的厚度等于下模预留出飞边的厚度,所述的上模、下模均为半圆形,所述的上模、下模断面处分别有球形型腔。
2.根据权利要求1所述的带防错位结构的胶圈模具,其特征是:所述的上模、下模型腔内分别具有胶圈截面中心点B、E,所述的上膜具有上模配合尖点A、C,所述的下模具有下模配合尖点D、F。
【文档编号】B29C33/00GK103722642SQ201310734905
【公开日】2014年4月16日 申请日期:2013年12月27日 优先权日:2013年12月27日
【发明者】胡冕, 赵春燕, 孙焕玉, 周朝强 申请人:哈尔滨东安实业发展有限公司
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