技术总结
本实用新型公开了一种硅片用清洗装置，包括底座，在所述底座的上表面上加工有若干个用于放置硅片的清洗槽，并在所述底座的上表面上设置有一个用于握持的圆柱杆，在所述底座的下表面设置有多个支撑短柱，所述底座为圆柱形底座，每个清洗槽的深度相同，其深度为底座厚度的二分之一，所述底座和支撑短柱均采用不锈钢材料制成。本实用新型在对硅片进行清洗时，将硅片放置在底座上的清洗槽中，排列放好，然后手持圆柱杆将整个底座放置在水箱中进行清洗，通过设置有支撑短柱，便于放置在水箱中，且结构简单，减少了生产成本。
技术研发人员：宣俊杰
受保护的技术使用者：张雯
文档号码：201620601094
技术研发日：2016.06.17
技术公布日：2017.01.11