本实用新型涉及硅片生产技术领域，尤其是一种清洗硅片用的废水回收装置。
背景技术：
硅片作为电子技术领域中的制造材料，使用广泛，但是硅片在生产中会产生大量的粉尘杂质，需要对硅片材料进行清洗，目前清洗完毕的水直接排出，导致水资源的浪费，也增加企业生产的成本，不利于生产。
技术实现要素：
为了克服现有的硅片清洗后的水直接排出导致水资源浪费的不足，本实用新型提供了一种清洗硅片用的废水回收装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种清洗硅片用的废水回收装置，包括机体，所述机体上设有清洗池，所述清洗池与水池一连接，所属水池一右侧设有水池二和水池三，所述水池三右侧设有储水池，所述储水池下方连接水泵，所述储水池与水泵之间设有过滤层，所述水泵与清洗池之间设有通过水管连接。
根据本实用新型的另一个实施例，进一步包括，所述水池一、水池二、水池三和储水池之间都通过出水口联通。
根据本实用新型的另一个实施例，进一步包括，所述水池一和水池二的出水口下方设有挡板。
根据本实用新型的另一个实施例，进一步包括，所述水池二和水池三的出水口前方设有出水口挡板。
本实用新型的有益效果是，这种清洗硅片用的废水回收装置在使用的时候能够将清洗过后的水回收再利用，降低了水资源的消耗，起到节能环保的作用，也降低了企业的生产成本，满足使用需求。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图；
图中1、机体，2、清洗池，3、水池一，4、水池二，5、水池三，6、挡板，7、出水口挡板，8、出水口，9、过滤层，10、水泵，11、水管，12、储水池。
具体实施方式
如图1是本实用新型的结构示意图，一种清洗硅片用的废水回收装置，包括机体1，所述机体1上设有清洗池2，所述清洗池2与水池一3连接，所属水池一3右侧设有水池二4和水池三5，所述水池三5右侧设有储水池12，所述储水池12下方连接水泵10，所述储水池12与水泵10之间设有过滤层9，所述水泵10与清洗池2之间设有通过水管11连接。
根据本实用新型的另一个实施例，进一步包括，所述水池一3、水池二4、水池三5和储水池12之间都通过出水口8联通。
根据本实用新型的另一个实施例，进一步包括，所述水池一3和水池二4的出水口8下方设有挡板6。
根据本实用新型的另一个实施例，进一步包括，所述水池二4和水池三5的出水口8前方设有出水口挡板7。
这种清洗硅片用的废水回收装置在使用的时候，将硅片放置在清洗池2位置进行清洗，清洗完毕收到污染的水进入水池一3，在水池一3内进行初步的沉淀，使杂质沉降到水池一3的底部，随后通过阶梯式的水池二4、水池三5和储水池12进一步的对污水进行沉淀，通过多级的沉淀使污水变得清洁，以满足循环使用的需求，为了避免污水从阶梯式的水池上冲下对沉淀在水池底部的杂质造成影响，在出水口8的下方安装了挡板6避免水流直接冲击水池的底部，避免杂质翻起，在出水口8的前端安装的出水口挡板7能够避免杂质混入出水口8进入下一级的水池，在储水池12的底部的过滤层9进一步加大净水效果，最后由水泵10将水移动到清洗池2进行循环使用，该装置能够满足废水回收的目的，降低生产成本，满足使用需求。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。