本实用新型涉及清洗装置技术领域，尤其涉及一种硅片用清洗装置。
背景技术：
太阳能光伏行业晶体硅电池的制作过程中会产生含有较高磷浓度的硅氧化层，被称为磷硅玻璃，简称PSG，在硅电池生产时，要进行酸洗将该硅氧化层去除，简称去PSG。目前，传统的清洗设备在清洗时，每个清洗槽内都需要使用纯水，对硅片进行清洗，因此累计使用纯水的量较大，水浪费严重，也提高了生产成本。
根据中国专利申请号为201320306796.4公布的一种硅片清洗槽，包括清洗槽本体和水泵，所述清洗槽本体的侧壁内部成型有腔体，所述腔体内设有垂直隔板，所述垂直隔板将所述腔体隔成内腔和外腔，所述垂直隔板的顶部设有缺口，所述内腔和外腔通过所述缺口连通，所述外腔的底部开设有出水口，所述水泵安装在所述出水口上，所述清洗槽本体的内壁开设有筛孔，所述清洗槽本体的底部开设有排污口，所述排污口上设有阀。这种结构的硅片清洗槽结构相对复杂，制作成本较高。
技术实现要素：
本实用新型为了克服现有技术中的不足，提供了一种硅片用清洗装置。
本实用新型是通过以下技术方案实现：
一种硅片用清洗装置，包括底座，在所述底座的上表面上加工有若干个用于放置硅片的清洗槽，并在所述底座的上表面上设置有一个用于握持的圆柱杆，在所述底座的下表面设置有多个支撑短柱。
作为本实用新型优选的技术方案，所述底座为圆柱形底座，每个清洗槽的深度相同，其深度为底座厚度的二分之一。
作为本实用新型优选的技术方案，支撑短柱的数量为三个，且均匀分布在所述底座的下表面上，每个支撑短柱均采用弹性材料制成。
作为本实用新型优选的技术方案，每个清洗槽之间相互平行。
作为本实用新型优选的技术方案，所述底座和支撑短柱均采用不锈钢材料制成。
与现有的技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型在对硅片进行清洗时，将硅片放置在底座上的清洗槽中，排列放好，然后手持圆柱杆将整个底座放置在水箱中进行清洗，通过设置有支撑短柱，便于放置在水箱中，且结构简单，减少了生产成本。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
请参阅图1，图1为本实用新型的结构示意图。
所述一种硅片用清洗装置，包括底座1，在所述底座1的上表面11上加工有若干个用于放置硅片的清洗槽2，所述底座1为圆柱形底座，每个清洗槽2的深度相同，其深度为底座1厚度的二分之一，且每个清洗槽2之间相互平行。
在所述底座1的上表面11上设置有一个用于握持的圆柱杆3，所述底座1和圆柱杆3均采用不锈钢材料制成。
在所述底座1的下表面12设置有三个支撑短柱4，且均匀分布在所述底座1的下表面12上，每个支撑短柱4均采用弹性材料制成。
在对硅片进行清洗时，将硅片放置在底座1上的清洗槽2中，排列放好，然后手持圆柱杆3将整个底座1放置在水箱中进行清洗，通过设置有支撑短柱4，便于放置在水箱中，且结构简单，减少了生产成本。
上述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。