1.一种制备离子液体/过渡金属二硫化物气体分离膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：
1)将过渡金属二硫化物粉末MS2与正丁基锂混合搅拌，从而得到锂插层的过渡金属二硫化物粉末LixMS2，其中M为过渡金属；
2)将LixMS2加入至离子液体中混合超声，得到过渡金属二硫化物的离子液体分散液；
3)取过渡金属二硫化物的离子液体分散液真空抽滤得到所需的离子液体/过渡金属二硫化物气体分离膜。
2.如权利要求1所述的制备离子液体/过渡金属二硫化物气体分离膜的方法，其特征在于，所述的过渡金属二硫化物为二硫化钼；在氩气保护下，将每0.2～1.0g二硫化钼粉末加入到1～10ml正丁基锂正己烷溶液，搅拌反应24～72h，用己烷洗涤干燥后得到锂插层二硫化钼粉末LixMoS2；所述的离子液体为1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐；将每0.01～0.05g LixMoS2加入至0.5～10mL 1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐中混合超声，得到二硫化钼的离子液体分散液；在不低于50KPa的负压下，将二硫化钼的离子液体分散液抽滤到聚碳酸酯多孔膜或者无机氧化铝多孔膜上制得1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐/二硫化钼气体分离膜。
3.如权利要求1所述的制备离子液体/过渡金属二硫化物气体分离膜的方法，其特征在于，所述的过渡金属二硫化物为二硫化钨；在氩气保护下，将每0.2～1.0g二硫化钨粉末加入到1～10ml正丁基锂正己烷溶液，在40～70℃下搅拌反应24～72h，用己烷洗涤干燥后得到锂插层二硫化钨粉末LixWS2；所述的离子液体为1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐；将每0.01～0.05g LixWS2加入至0.5～10mL 1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐中混合超声，得到二硫化钨的离子液体分散液；在不低于50KPa的负压下，将二硫化钨的离子液体分散液抽滤到聚碳酸酯多孔膜或者无机氧化铝多孔膜上制得1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐/二硫化钨气体分离膜。
4.如权利要求2或3所述的制备离子液体/过渡金属二硫化物气体分离膜的方法，其特征在于所制备的离子液体/过渡金属二硫化物气体分离膜在成膜后，离子液体所占的质量百分比为30％～90％。
5.如权利要求1～4任一所述方法制备得到的离子液体/过渡金属二硫化物气体分离膜。
6.如权利要求5所述的离子液体/过渡金属二硫化物气体分离膜的应用，其特征在于所制备的离子液体/过渡金属二硫化物气体分离膜可应用于分离二氧化碳和氢气、二氧化碳和甲烷。
7.如权利要求6所述的应用，其特征在于，分离过程中，适用的压强为0.01MPa～0.2MPa。