技术总结
一种用于薄膜沉积设备的内部材料，包括：用于薄膜沉积设备的腔室结构，其具有位于其中的反应空间；和涂层结构。该腔室结构包括其上放置对象的对象支撑单元、和用于支撑靶材的靶材支撑单元，该靶材包括用于对该对象进行薄膜沉积的第一金属物质。在该腔室结构的、暴露于反应空间的内表面上，用第二金属物质涂布该涂层结构，该第二金属物质具有构成该第一金属物质的金属元素中的至少一种金属物质。
技术研发人员：张成水;高贤哲;张敬翼;崔成真
受保护的技术使用者：高美科株式会社
文档号码：201580030118
技术研发日：2015.06.04
技术公布日：2017.02.22