技术总结
一种可抑制颗粒产生的衬底处理装置及半导体装置的制造方法。具有：处理衬底的处理容器；向处理容器供给处理气体的气体供给部；在处理容器内设置的衬底载置台；轴，其贯通在处理容器的底壁设置的孔、且在上部设置有衬底载置台；波纹管，其在处理容器的外侧以围绕轴的外周的方式构成、且将内侧空间与处理容器的空间连通；部件落下防止部，其在所述处理容器的底部，并且包括第一结构及第二结构且至少由第一结构及第二结构构成，第一结构沿孔的一部分构成，第二结构沿孔的其他部分构成且与第一结构相邻。
技术研发人员：芦原洋司;泽田元司
受保护的技术使用者：株式会社日立国际电气
文档号码：201610805599
技术研发日：2016.09.05
技术公布日：2017.03.15