1.一种基板移送装置，其移送进行药液涂覆工艺处理的基板，所述基板移送装置的特征在于，包括:
振动板，其利用通过超声波产生的振动能来使得基板悬浮；
移送部件，其使得通过所述振动板悬浮的所述基板移送；
偏差补偿部，其对悬浮的所述基板和所述移送部件之间的高度偏差进行补偿。
2.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，所述偏差补偿部包括：
测量部，其对悬浮的所述基板和所述移送部件之间的高度偏差进行测量；
高度调节部，其根据在所述测量部测量的结果对相对于所述基板的所述移送部件的相对高度进行调节。
3.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，包括：
空气轴承部件，其结合于所述移送部件，并且沿着移送轨道直线移动，所述移送轨道沿着所述基板的移送路径配置；
气体供给部，其供给用于在所述空气轴承部件和所述移送轨道之间形成气体润滑层的气体，
所述高度调节部对从所述气体供给部供给的所述气体的供给压力进行调节，从而调节相对于所述移送轨道的所述空气轴承部件的悬浮高度，
随着相对于所述移送轨道的所述空气轴承部件的悬浮高度变化，相对于所述基板的所述移送部件的高度得到调节。
4.根据权利要求3所述的基板移送装置，其特征在于，包括：
吸入孔，其形成于所述移送部件；
吸入压形成部，其在所述吸入孔形成吸入压，以便所述基板吸附固定于所述移送部件。
5.根据权利要求2所述的基板移送装置，其特征在于，包括：
吸入孔，其形成于所述移送部件；
吸入压形成部，其在所述吸入孔形成吸入压，以便所述基板吸附固定于所述移送部件，
所述高度调节部对通过所述吸入压形成部形成于所述吸入孔的所述吸入压进行调节，
根据所述吸入压的变化来调节相对于所述移送部件的所述基板的吸附高度。
6.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，
所述移送部件包括第一移送部件和第二移送部件中至少任意一个，
所述第一移送部件固定于沿着所述基板的移送方向的所述基板的一侧边，
所述第二移送部件固定于沿着所述基板的移送方向的所述基板的其他侧边，
所述偏差补偿部对所述第一移送部件和所述第二移送部件中至少任意一个与所述基板之间的高度偏差进行补偿。
7.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，
当所述基板以悬浮于所述振动板的上部的状态被移送的期间，药液涂覆于所述基板的表面。
8.根据权利要求1所述的基板移送装置，其特征在于，
当所述基板以悬浮于所述振动板的上部的状态被移送的期间，所述基板被加热，并且涂覆于所述基板的药液得到干燥。
9.一种基板处理系统，其对被处理基板进行药液涂覆工艺的处理，所述基板处理系统的特征在于，包括：
基板移送部，其包括振动板、移送部件、偏差补偿部，所述振动板利用通过超声波产生的振动能来使得基板悬浮，所述移送部件使得通过所述振动板悬浮的所述基板移送，所述偏差补偿部对悬浮的所述基板和所述移送部件之间的高度偏差进行补偿；
药液涂覆单元，其将药液涂覆于所述基板的表面；
加热干燥单元，其通过加热所述基板来使得所述药液干燥。
10.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，所述基板移送部包括：
装载移送部，所述基板装载于所述装载移送部；
处理移送部，其用于在所述基板的表面涂覆所述药液；
卸载移送部，涂覆有所述药液的所述基板卸载于所述卸载移送部，
所述振动板设置于所述装载移送部、所述处理移送部、所述卸载移送部中至少任意一个。
11.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，所述偏差补偿部包括：
测量部，其对悬浮的所述基板和所述移送部件之间的高度偏差进行测量；
高度调节部，其根据在所述测量部测量的结果来调节相对于所述基板的所述移送部件的相对高度。
12.根据权利要求11所述的基板处理系统，其特征在于，包括：
空气轴承部件，其结合于所述移送部件，并且沿着移送轨道直线移动，所述移送轨道沿着所述基板的移送路径配置；
气体供给部，其供给用于在所述空气轴承部件和所述移送轨道之间形成气体润滑层的气体，
所述高度调节部对从所述气体供给部供给的所述气体的供给压力进行调节，从而调节相对于所述移送轨道的所述空气轴承部件的悬浮高度，
随着相对于所述移送轨道的所述空气轴承部件的悬浮高度变化，相对于所述基板的所述移送部件的高度得到调节。
13.根据权利要求12所述的基板处理系统，其特征在于，包括：
吸入孔，其形成于所述移送部件；
吸入压形成部，其在所述吸入孔形成吸入压，以便所述基板吸附固定于所述移送部件。
14.根据权利要求11所述的基板处理系统，其特征在于，包括：
吸入孔，其形成于所述移送部件；
吸入压形成部，其在所述吸入孔形成吸入压，以便所述基板吸附固定于所述移送部件，
所述高度调节部对通过所述吸入压形成部形成于所述吸入孔的所述吸入压进行调节，
根据所述吸入压的变化来调节相对于所述移送部件的所述基板的吸附高度。
15.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，
所述移送部件包括第一移送部件和第二移送部件中至少任意一个，
所述第一移送部件固定于沿着所述基板的移送方向的所述基板的一侧边，
所述第二移送部件固定于沿着所述基板的移送方向的所述基板的其他侧边，
所述偏差补偿部对所述第一移送部件和所述第二移送部件中至少任意一个与所述基板之间的高度偏差进行补偿。
16.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，
所述药液涂覆单元配置于所述振动板的上部，
当所述基板经过所述振动板和所述药液涂覆单元之间的期间，所述药液涂覆单元和所述基板的间距保持一定。
17.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，包括：
所述加热干燥单元配置于所述振动板的上部，
当所述基板经过所述振动板和所述加热干燥单元之间的期间，所述加热干燥单元和所述基板的间距保持一定。