技术特征：
技术总结
本文提供用于相对于暴露的或下方的介电或金属层选择性移除金属氮化物的改良方法和设备。在一些实施方式中，一种蚀刻在基板顶上的金属氮化物层的方法包括以下步骤：(a)氧化金属氮化物层以在该金属氮化物层的表面形成金属氮氧化物层(MN1‑xOx)，其中M为钛或钽中的一种并且x为从0.05至0.95的整数；以及(b)使该金属氮氧化物层(MN1‑xOx)暴露于处理气体，其中该金属氮氧化物层(MN1‑xOx)与该处理气体反应以形成挥发性化合物，该挥发性化合物从该金属氮化物层的该表面解吸。
技术研发人员：维杰·班·夏尔马;兰加·拉奥·阿内帕利;普莉娜·古拉迪雅;罗伯特·简·维瑟
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2016.02.25
技术公布日：2017.10.17