具有空腔的石墨烯基复合薄膜及其制备方法与流程

文档序号:11202497阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供了一种具有空腔的石墨烯基复合薄膜及其制备方法,包括:底层石墨烯薄膜;形成于底层石墨烯薄膜上的多个重复排列的纳米晶图案单元;每个纳米晶图案单元具有第一纳米晶阵列以及位于第一纳米晶阵列周围的第二纳米晶支撑柱;第二纳米晶支撑柱的顶部高于第一纳米晶阵列的顶部;顶层石墨烯薄膜覆盖于纳米晶图案单元顶部,并且与第二纳米晶支撑柱的顶部接触而与第一纳米晶阵列的顶部不接触,多个纳米晶图案单元与顶层石墨烯之间形成多个封闭空腔;其中,每个封闭空腔由顶层石墨烯薄膜、第二纳米晶支撑柱、第一纳米晶阵列之间围成。本发明的石墨烯基复合薄膜可以应用于天线而获得不同的频率响应,以及用于传感器获得不同的灵敏度。

技术研发人员:汪际军
受保护的技术使用者:全普光电科技(上海)有限公司
技术研发日:2017.07.04
技术公布日:2017.09.29
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