一种多工位扫描电镜EBSD样品台的制作方法

文档序号:11406935阅读:475来源:国知局
一种多工位扫描电镜EBSD样品台的制造方法与工艺

本实用新型涉及一种多工位扫描电镜EBSD样品台。



背景技术:

扫描电子显微镜简称扫描电镜,是一种利用电子束轰击样品,收集样品表面信号从而成像的电子光学仪器。由于其具有制样简单、放大倍数可调范围宽、图像分辨率高、景深大等特点,现已经被广泛地应用于材料、化学、生物、微电子等多领域的研究和工业生产。

近年来,装配在扫描电子显微镜(SEM)上的电子背散射衍射花样(Electron Back-scattering Patterns,简称EBSP)晶体微区取向和晶体结构的分析技术取得了较大发展,该技术也被称为电子背散射衍射(Electron Backscatter Diffraction,简称EBSD)或取向成像显微技术(Orientation Imaging Microscopy,简称OIM)等等,成为研究材料形变、恢复和再结晶过程的有效手段。EBSD测试表征时需要样品表征面与水平面的夹角为70°。目前商用的EBSD样品台功能单一,一般一次只能装载一个样品进行测试,在有多个样品测试时,要频繁的重复放真空、装样、抽真空等操作,既费时又费力,给电镜测试带来极大的不便。



技术实现要素:

本实用新型针对上述现有技术存在的问题做出改进,即本实用新型所要解决的技术问题是提供一种用于多个样品进行EBSD测试的样品台,该样品台可以同时装载多个样品,实现同时测量,极大地提高测试效率。

为了解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:一种多工位扫描电镜EBSD样品台,包括底座和装样装置,装样装置包括多个放置样品的平台和挖槽试样台,底座为底面为正方形的长方体,具有从其顶面一中心线沿20度面斜切形成的矩形面一以及从顶面的该切口沿相对方向70度面斜切形成的矩形面二,在矩形面一中间部位设置一个螺纹孔且与螺钉一配合,在矩形面二中间部位设置一个圆柱孔一,且矩形面一上的螺纹孔与矩形面二上的圆柱孔一相通;平台为矩形薄板,在每一平台的矩形底面均焊接一个圆柱体二;挖槽试样台为一长方体,其上设置有能够装配平台的多个槽以及在槽内设置有与圆柱体二配合的圆柱孔二,在与挖槽试样台开槽的面相邻的底面上设置有多个螺纹孔且与螺钉二配合,挖槽试样台上的螺纹孔与其相应位置的圆柱孔二相通,在与挖槽试样台开槽的面相对的面上焊接一个圆柱体一,该圆柱体一与矩形面二上的圆柱孔一相配合,其中,挖槽试样台上的槽、圆柱孔二、螺纹孔、螺钉二的个数均与平台的个数相同。

优选地,该装置包括4个平台。

优选地,底座的侧面正方形边长为7mm、高36mm,平台的长为15mm、宽为15mm、高为1mm,平台的矩形底面焊接的圆柱体二直径为3mm、长为10mm,挖槽试样台上设置的槽长为15mm、宽为15mm、高为1mm,挖槽试样台上设置的圆柱孔二直径为3mm、孔深为4mm,挖槽试样台上设置的螺纹孔直径为3mm、孔深为6mm。

优选地,将样品装至平台上时,固定方式为导电胶。

优选地,样品台选用铝合金。

进一步地,样品为AZ31镁合金。

通过调节底座矩形面二上的圆柱孔一与挖槽试样台上焊接的圆柱体一的配合长度实现挖槽试样台的升降,即实现多个样品的整体升降,通过锁紧螺钉一对挖槽试样台的高度实现锁定,锁紧挖槽试样台和70度角底座的连接,从而实现70度角的测量,并且扩大了样品高度调整范围。

针对样品形状和大小不一样的样品,尤其适用于不同厚度的薄片状样品,通过调节焊接在平台上的圆柱体二与挖槽试样台上槽内的圆柱孔二的配合长度实现平台的升降,通过锁紧螺钉二对平台高度实现锁定,可实现多个样品在同一水平高度,使得样品形状和大小不一样的多个样品实现同时测量,满足扫描电镜EBSD表征,减少了测量过程中复杂的操纵步骤。

针对样品形状和大小基本一致的样品,将平台直接装配至挖槽试样台的槽内,用导电胶固定在平台的位置上,同时测量多个样的表面,满足扫描电镜EBSD表征。

与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:通过底座起固定70度角的作用,平台和挖槽试样台的结合可单独控制多个样品的高度,从而实现在同一水平面上的测量,解决了在进行EBSD测试时多个样品形状、大小、厚度不一样的样品表面表征的问题,且挖槽试样台侧面可测量试样另一个表面,挖槽试样台与底座的配合可调节挖槽试样台的高度,即可整体调节所有样品的高度,扩大样品高度调节范围,此外,样品台具有造价低廉、制作方便、操作简单、适用性广、不易损坏、同时表征多个样品表面的优点。

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步详细的说明。

附图说明

图1为本实用新型实施例的装置整体结构图;

图2为本实用新型实施例的底座结构图;

图3为本实用新型实施例的平台和挖槽试样平台连接结构图;

图4为本实用新型实施例的装置截面示意图。

图中:1-底座;2-平台;3-挖槽试样台;4-矩形面一;5-矩形面二;6-螺钉一;7-圆柱孔一;8-圆柱孔二;9-螺钉二;10-圆柱体一;11-圆柱体二。

具体实施方式

如图1-3所示,在本实用新型优选实施例中,本装置包括底座1和装样装置,装样装置包括4个放置样品的平台2和挖槽试样台3,底座1为底面为正方形的长方体,具有从其顶面一中心线沿20度面斜切形成的矩形面一4以及从顶面的该切口沿相对方向70度面斜切形成的矩形面二5,在矩形面一4中间部位设置一个螺纹孔且与螺钉一6配合,在矩形面二5中间部位设置一个圆柱孔一7,且矩形面一4上的螺纹孔与矩形面二5上的圆柱孔一7相通;平台2为矩形薄板,在每一平台2的矩形底面均焊接一个圆柱体二11;挖槽试样台3为一长方体,其上设置有能够装配平台2的4个槽以及在槽内设置有与圆柱体二11配合的圆柱孔二8,在与挖槽试样台3开槽的面相邻的底面上设置有4个螺纹孔且与螺钉二9配合,挖槽试样台3上的螺纹孔与其相应位置的圆柱孔二8相通,在与挖槽试样台3开槽的面相对的面上焊接一个圆柱体一10,该圆柱体一10与矩形面二5上的圆柱孔一7相配合,其中,挖槽试样台3上的槽、圆柱孔二8、螺纹孔、螺钉二9的个数均与平台2的个数相同,均为4。

底座1的侧面正方形边长为7mm、高36mm,平台2的长为15mm、宽为15mm、高为1mm,平台2的矩形底面焊接的圆柱体二11直径为3mm、长为10mm,挖槽试样台3上设置的槽长为15mm、宽为15mm、高为1mm,挖槽试样台3上设置的圆柱孔二8直径为3mm、孔深为4mm,挖槽试样台3上设置的螺纹孔直径为3mm、孔深为6mm。

本装置可适用于块状样品的金相制样,例如常见的AZ31镁合金,实现多个样品同时装载进行EBSD测试。将样品装至平台2上时,固定方式为导电胶,导电胶是为了固定试样,使其与试样平台连接发生导电作用。

为了降低材料及加工成本,样品台采用常见的铝合金为材料,进行线切割加工,能达到较好的精度要求,极大地减轻了样品台本身的质量,使装样过程更加轻松,且铝合金耐磨,延长了此样品台的使用寿命。

通过调节底座1矩形面二5上的圆柱孔一7与挖槽试样台3上焊接的圆柱体一10的配合长度度实现挖槽试样台3的升降,即实现多个样品的整体升降,通过锁紧螺钉一6对挖槽试样台3的高度实现锁定,锁紧挖槽试样台3和70度角底座1的连接,从而实现70度角的测量,并且扩大了样品高度调整范围。

针对样品形状和大小不一样的样品,尤其适用于不同厚度的薄片状样品,通过调节焊接在平台2上的圆柱体二11与挖槽试样台3上槽内的圆柱孔二8的配合长度实现平台2的升降,通过锁紧螺钉二5对平台2高度实现锁定,可实现多个样品在同一水平高度,使得样品形状、大小、厚度不一样的多个样品实现同时测量,满足扫描电镜EBSD表征,减少了测量过程中复杂的操纵步骤。

针对样品形状和大小差不多的样品,将平台2直接装配至挖槽试样台3的槽内,用导电胶固定在平台2的位置上,同时测量多个样的表面,满足扫描电镜EBSD表征。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,凡依本实用新型申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本实用新型的涵盖范围。

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