半导体器件的制作方法

文档序号:12924649阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种半导体器件,其特征在于包括:

半导体层,所述半导体层具有第一侧和与所述第一侧相对的第二侧;

耦接在所述第二侧的一个或多个导电焊盘;

一个或多个电绝缘层,所述电绝缘层耦接在所述第二侧并且具有一个或多个开口,所述开口提供通向所述一个或多个导电焊盘的入口;

耦接在所述半导体层的所述第一侧上的导电层;

耦接在所述导电层上的一个或多个背金属层;

耦接在所述一个或多个导电焊盘上方的一个或多个焊盘上金属化层,所述一个或多个焊盘上金属化层包括镍层,以及

耦接在所述一个或多个焊盘上金属化层上方的扩散阻挡层;

其中所述半导体器件包括绝缘栅双极晶体管和二极管中的一者。

2.根据权利要求1所述的半导体器件,其中所述一个或多个背金属层包括镍层。

3.根据权利要求1所述的半导体器件,其中所述一个或多个背金属层包括钛层和银层。

4.根据权利要求1所述的半导体器件,其中所述扩散阻挡层包含化学沉积的金、化学沉积的银和有机可焊性保护剂中的一者。

5.根据权利要求1所述的半导体器件,其中所述导电层包括蒸镀的铝。

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