衬底处理设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及衬底处理设备，尤其涉及能够去除衬底处理空间内的颗粒的衬底处理设备。
【背景技术】
[0002]在液晶显示器以及太阳能电池的制造中，涉及用于使非晶形多晶薄膜(例如，非晶形多晶硅薄膜)结晶的热处理过程。此处，当使用具有低熔点的衬底时，可以使用激光来使非晶形多晶硅结晶。
[0003]特别地，当在薄膜沉积在衬底上之后执行退火时，难以确保在大型衬底上的均匀性。因此，提出了各种替代方案，所述替代方案中的一者是通过使用激光使非晶形多晶硅结晶的退火方法。图1是根据相关技术的激光处理设备的视图。
[0004]参考图1，在腔室10中界定了气体入口 Ila以及出口 lib。此外，透明窗口 20安置在腔室10的上部末端中。激光照射单元40安置在透明窗口 20上方。从激光照射单元40照射的激光束可以穿过透明窗口 20，到达安置在所述腔室10内的衬底平台30上的衬底I
[0005]图2A与图2B是图示了从激光照射单元40照射的激光束41的形状的视图。图2A是图示了从上方观察的衬底的视图，并且图2B是衬底的透视图。如图2A与图2B中所示，激光束41可以直线形状照射到衬底W。激光束41可以通过在垂直于激光束41的直线的方向(箭头方向)上水平地移动来照射到衬底W的整个表面上。
[0006]此处,其上安放有衬底W的衬底平台30可以沿着直线电机(英文:linear motor,简称:LM)导轨移动。如图3中所示，第二轴向传送支架52可以由空气轴承或机械轴承沿着LM导轨的第一轴向传送支架51移动，并且衬底平台30可以沿着第二轴向传送支架52移动。当第二轴向传送支架52沿着第一轴向传送支架51移动，并且衬底平台30沿着第二轴向传送支架52移动时，由于空气轴承或机械接触,可能产生颗粒。所述颗粒可能在衬底处理过程期间充当污染物。
[0007][现有技术文件]
[0008][专利文件]
[0009](专利文件I)第10-2012-0128136号韩国专利申请案
【发明内容】
[0010]本发明提供能够通过传送衬底平台来去除在衬底平台的下侧中产生的颗粒的衬底处理设备。
[0011]本发明还提供能够去除存在于衬底平台的下侧中的颗粒以提高衬底处理过程的质量的衬底处理设备。
[0012]根据一个示例性实施例，衬底处理设备包含:具有衬底处理空间的腔壳，所述腔壳由底壁、上壁，以及将底壁连接到上壁的侧壁界定；衬底平台，所述衬底平台经配置以在衬底处理空间内在第一轴向方向以及与第一轴向方向交叉的第二轴向方向上是可移动的；以及下部排气单元，所述下部排气单元经配置以排出存在于衬底平台与腔壳的底壁之间的气体。
[0013]下部排气单元可以包含:安置在衬底平台下方的下部排气气体流入本体(lowerexhaust gas inflow body),所述下部排气流入本体与衬底平台一起移动以将流向衬底平台的侧壁的气体引入到衬底平台下方；下部排气流入阻断本体，所述下部排气流入阻断本体连接到下部排气气体流入本体的下部部分以防止将流向衬底平台的侧壁的气体引入到衬底平台下方；以及下部排气通道本体，所述下部排气通道本体经配置以将在衬底平台下方的气体排出到外部。
[0014]下部排气气体流入本体可以包含:安置在衬底平台下以与衬底平台一起移动的下部排气上部板；以及下部排气气体流入板，所述下部排气气体流入板连接到下部排气上部板以将在下部排气上部板上流动的气体引入到衬底平台的下侧中。
[0015]下部排气气体流入板可以在第二轴向方向上连接到下部排气上部板的内边缘并且在第二轴向方向上纵向地安置。
[0016]下部排气气体流入板可以包含:下部排气水平气体流入板，所述下部排气水平气体流入板具有第一水平表面、从第一水平表面阶梯式下降的第二水平表面，以及将第一水平表面连接到第二水平表面并且在第二轴向方向上纵向地安置的阶梯式连接表面，所述下部排气水平气体流入板具有穿过阶梯式连接表面的多个狭缝；以及挡板，所述挡板在第二轴向方向上纵向地安置以将下部排气上部板连接到第二水平表面，所述挡板具有多个通孔。
[0017]下部排气气体流入阻断本体可以在第二轴向方向上连接到下部排气上部板的外边缘并且在第二轴向方向上纵向地安置，并且具有朝向腔壳的底壁倾斜的形状。
[0018]下部排气通道本体可以连接到下部排气气体流入阻断本体的边缘并且在第二轴向方向上纵向地安置。
[0019]下部排气通道本体可以包含:面向衬底平台的下侧的内板；与内板间隔开以界定空间的外板，所述外板面向腔壳的侧壁；将内板连接到外板的下部排气通道本体顶部表面；下部排气通道本体开放表面，所述下部排气通道本体开放表面的面向下部排气通道本体顶部表面的底部表面被敞开以允许将气体引入到空间中；以及通过穿过外板而连接到空间的多个下部排气端口。
[0020]衬底处理设备可以进一步包含:第一轴向传送支架，所述第一轴向传送支架包含在第一轴向方向上彼此间隔开而安置的一对导轨；以及第二轴向传送支架，所述第二轴向传送支架具有在第二轴向方向上对应于第一轴向传送支架的所述一对导轨之间的长度的长度，所述第二轴向传送支架在第一轴向方向上沿着第一轴向传送支架滑动，其中衬底平台安置在第二轴向传送支架上并且沿着第二轴向方向沿着第二轴向传送支架向前/向后滑动。
[0021]第二轴向传送支架以及衬底平台可以通过空气轴承向前/向后滑动，或者第二轴向传送支架以及衬底平台可以沿着导轨向前/向后滑动。
[0022]衬底处理设备可以进一步包含在第二轴向方向上分别沿着腔壳的两个侧壁安置的侧壁排气单元，所述侧壁排气单元经配置以通过衬底平台的移动将在衬底平台与侧壁之间产生的气流引导至外部。
[0023]侧壁排气单元中的每一者皆可以包含:在第二轴向方向上分别沿着腔壳的两个侧壁安置的侧壁排气本体，所述侧壁排气本体中的每一者经配置以吸入平行于腔壳的底壁流动的气体，以将吸入的气体排出到外部；以及侧壁排气板，所述侧壁排气板经配置以将衬底处理空间内的气流的方向改变成平行于腔壳的底壁的方向。
[0024]侧壁排气单元可以包含:沿着腔壳的侧壁中的每一者安置的侧壁排气外壳；侧壁排气通道管，所述侧壁排气通道管具有界定在侧壁排气外壳中的排气通道以及界定在面向衬底平台的表面中的排气孔；以及侧壁排气端口，所述侧壁排气端口连接到侧壁排气通道管的内部以将排气通道内的气体排出到外部。
[0025]侧壁排气板可以包含:侧壁排气上部板，所述侧壁排气上部板从侧壁排气通道管的上部末端表面朝向腔壳的衬底处理空间突出；以及侧壁排气下部板，所述侧壁排气下部板从侧壁排气通道管的下部末端表面朝向腔壳的底壁突出。
[0026]侧壁排气上部板可以包含:连接到侧壁排气通道管的上部末端表面的侧壁排气单元上部板；以及侧壁排气扩展上部板，所述侧壁排气扩展上部板是可通过向前/向后滑动从侧壁排气单元上部板朝向腔壳的衬底处理空间扩展的。
[0027]衬底处理设备可以进一步包含喷嘴，所述喷嘴安置在腔壳的上壁上以将气体喷射到衬底处理空间的下侧中。
【附图说明】
[0028]通过结合附图进行的以下描述可以更详细地理解示例性实施例，在所述附图中:
[0029]图1是根据相关技术的激光处理设备的视图；
[0030]图2A与图2B是图示了从激光照射单元照射的激光束的形状的视图；
[0031]图3是衬底平台的传送单元的视图；
[0032]图4是其中未提供下部排气单元的衬底处理设备的透视图；
[0033]图5是根据一个示例性实施例的其中提供了下部排气单元的衬底处理设备的透视图；
[0034]图6是根据一个示例性实施例的衬底传送单元的上部平面图；
[0035]图7是根据一个示例性实施例的沿着图7的线A-A’截取的衬底传送单元的横截面图；
[0036]图8是根据一个示例性实施例的下部排气单元外侧的透视图；
[0037]图9是根据一个示例性实施例的下部排气单元内侧的透视图；
[0038]图10是图示了根据一个示例性实施例的通过下部排气单元将存在于衬底平台下方的气体排出的状态的视图；
[0039]图11是根据一个示例性实施例的除下部排气单元之外还提供了侧壁排气单元的状态