感光性导电膜、使用了该感光性导电膜的导电图案的形成方法及导电图案基板的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及感光性导电膜、使用了该感光性导电膜的导电图案的形成方法以及导 电图案基板，特别是涉及作为液晶显示元件等的平板显示器、触摸面板(触摸屏）、太阳能电 池、照明等装置的电极配线使用的导电图案的形成方法以及导电图案基板。
【背景技术】
[0002] 在个人电脑、电视等大型电子设备、汽车导航系统、手机、电子辞典等小型电子设 备、0A、FA设备等的显示设备等中使用液晶显示元件、触摸面板等。这些液晶显示元件、触摸 面板中，要求为透明的配线、像素电极或端子的一部分使用了透明导电膜。另外，在太阳能 电池、照明等器件等中也使用透明导电膜。
[0003] 以往，从对可见光显示高透过率的方面出发，在透明导电膜用材料中使用氧化铟 锡（Indium-Tin-Oxide: ΙΤ0)、氧化铟以及氧化锡等。设置在液晶显示元件用基板等上的电 极以对由上述材料构成的透明导电膜进行布图而成的电极为主流。
[0004] 作为透明导电膜的布图方法，通常为如下方法:在基板等基材上形成透明导电膜 后，通过光刻法形成抗蚀剂图案，通过湿式蚀刻除去导电膜的规定部分而形成导电图案。在 ITO膜和氧化铟膜的情况下，蚀刻液经常使用由盐酸和氯化铁这2种液体形成的混合液。
[0005] ITO膜、氧化锡膜等通常通过溅射法形成，但根据溅射方式的差异、溅射功率、气 压、基板温度、气氛气体的种类等的不同，透明导电膜的性质容易发生变化。由溅射条件的 变动产生的透明导电膜的膜质的差异成为对透明导电膜进行湿式蚀刻时蚀刻速度出现偏 差的原因，容易由布图不良导致制品的成品率降低。另外，上述导电图案的形成方法具有溅 射工序、抗蚀剂形成工序以及蚀刻工序，工序长，在成本方面也成为很大负担。
[0006] 最近，为了消除上述问题，进行了使用代替ΙΤ0、氧化铟以及氧化锡等的材料来形 成透明的导电图案的尝试。例如，下述专利文献1中公开了如下的导电图案的形成方法:在 基板上形成含有银纤维等导电性纤维的导电层后，在导电层上形成感光性树脂层，从其上 方隔着图案掩模进行曝光、显影。
[0007] 专利文献2中公开了如下方法:使用至少包含设置于支撑体上的可剥离的导电层 和导电层上的粘接剂层的转印用导电性膜，利用该粘接剂层将导电层粘贴在基板上，还公 开了转印后的导电层可以布图。
[0008] 专利文献3中公开了如下方法:通过采用使用具备设置在支撑膜上的导电层和设 置在该导电层上的感光性树脂层的感光性导电膜、以感光性树脂层密合在基板上的方式进 行层压的方法，由此形成导电图案。
[0009] 现有技术文献
[0010] 技术文献
[0011] 专利文献1:美国专利申请公开第2007/0074316号说明书 [0012] 专利文献2:日本特开2007-257963号公报
[0013] 专利文献3:国际公开第2010/021224号
【发明内容】
[0014] 发明要解决的问题
[0015] 但是，专利文献1和2记载的方法存在形成导电图案的工序繁杂的问题。
[0016] 另一方面，专利文献3中记载的方法是能够更简便地形成导电图案的方法，但在基 板与导电层之间夹着感光性树脂层，因此无法将设置在基板表面上的连接端子等与导电图 案简便地连接。专利文献2中记载的方法也存在上述问题。
[0017] 于是，作为将设置在基板表面上的连接端子等与导电图案简便连接的方法，本发 明人们发现了如下方法:使用在支撑膜上依次设置感光性树脂层及导电层而成的感光性导 电膜，按照导电层与基板密合的方式从导电层一侧进行层压。根据该导电图案的形成方法， 可以在基材上以充分的析像度、简便地形成表面电阻率足够小的导电图案。另外，可以将设 置在基板表面上的连接端子等与导电图案简便地连接。
[0018]但是，本发明人们所发现的上述方法在进一步降低设置在基板表面上的连接端子 等与导电图案之间的接触电阻值的方面还有改善的余地。
[0019] 本发明提供可以在基材上以充分的析像度、简便地形成表面电阻率足够小的导电 图案、而且可以形成即使在与设置于基材表面的连接端子电连接时接触电阻也足够低的导 电图案的导电图案的形成方法。另外还提供可以用于上述导电图案的形成方法中的感光性 导电膜及导电图案基板。
[0020] 用于解决课题的手段
[0021] 本发明的导电图案的形成方法的特征在于，其具备下述工序:准备依次具备含有 导电性纤维的导电层、含有感光性树脂及无机填料的感光性树脂层以及支撑膜的感光性导 电膜，按照从导电层一侧密合在基材上的方式将导电层及感光性树脂层层压的工序;和通 过将基材上的感光性树脂层及导电层进行曝光及显影，从而形成导电图案的工序。
[0022] 根据本发明的导电图案的形成方法，可以在基材上以充分的析像度、简便地形成 表面电阻率足够小的导电图案、而且可以形成即使在与设置于基材表面的连接端子电连接 时接触电阻也足够低的导电图案。此外，对于接触电阻得以降低的理由，本发明人们认为这 是由于，通过感光性树脂层含有无机填料，层压时的压力充分地传递到了导电层内的导电 性纤维上。
[0023] 上述感光性树脂层优选含有粘合剂聚合物、具有烯属不饱和键的光聚合性化合物 及光聚合引发剂。
[0024] 上述粘合剂聚合物优选具有羧基。通过含有具有羧基的粘合剂聚合物，可以使上 述感光性树脂层的碱显影性进一步提高。
[0025] 上述导电层及上述感光性树脂层的层叠体优选在450~650nm的波长区域内的最 小透光率为80%以上。导电层及感光性树脂层满足该条件时，显示器平板等的高亮度化变 得容易。
[0026]上述无机填料优选含有一次粒径为1~1000 nm的无机填料。通过无机填料含有具 有这样一次粒径的无机填料，可以进一步将层压时的压力传递到导电层内的导电性纤维 上。
[0027] 上述无机填料的平均一次粒径优选为200nm以下。通过使无机填料的平均一次粒 径在这样的范围，可以形成透明性更优异的导电图案，另外，由于光散射也变少，因此也可 以使图案形成性提高。
[0028] 本发明还提供一种导电图案基板，其具备基板和通过上述本发明的导电图案的形 成方法形成在所述基板上的导电图案。
[0029] 这样的导电图案基板通过上述本发明的导电图案的形成方法而具备表面电阻率 足够小、以充分的析像度简便形成的导电图案，即使在导电图案与设置在基板表面上的连 接端子电连接时，接触电阻也足够低。
[0030] 本发明还提供一种导电图案基板，其具备基板和设置在基板上的导电图案，所述 导电图案由含有导电性纤维的导电层及设置在导电层上的含有无机填料的树脂固化层构 成。
[0031] 这样的导电图案基板即使在导电图案与设置在基板表面上的连接端子电连接时， 其接触电阻也足够低。
[0032] 本发明还提供一种感光性导电膜，其依次具备支撑膜、含有导电性纤维的导电层、 以及含有感光性树脂及无机填料的感光性树脂层。
[0033] 根据本发明的感光性导电膜，通过按照从所述导电层一侧密合在基材上的方式将 导电层及感光性树脂层层压并进行曝光及显影，可以在基材上以充分的析像度、简便地形 成表面电阻率足够小的导电图案，而且可以形成即使在与设置于基材表面上的连接端子电 连接时接触电阻也足够低的导电图案。
[0034]上述无机填料优选含有一次粒径为1~1000 nm的无机填料。通过无机填料含有具 有这样一次粒径的无机填料，可以进一步将层压时的压力传递到导电层内的导电性纤维 上。
[0035]上述无机填料的平均一次粒径优选为200nm以下。通过使无机填料的平均一次粒 径在这样的范围，可以形成透明性更优异的导电图案，另外，由于光散射也变少，因此也可 以使图案形成性提高。
[0036]发明效果
[0037] 根据本发明，能够提供可以在基材上以充分的析像度、简便地形成表面电阻率足 够小的导电图案的感光性导电膜、以及使用了该感光性导电膜的导电图案的形成方法及导 电图案基板。
[0038] 另外，根据本发明，可以将设置在基材表面上的连接端子等与导电图案简便地连 接。
[0039] 进而，根据本发明的导电图案的形成方法，可以使基材与导电层的粘接性也充分， 可以使所得导电图案与基板的粘接性也充分。
[0040]此外，根据本发明，可以充分地确保导电层中的导电性纤维与设置在基材表面上 的连接端子的接触，由此可以形成接触电阻足够低、可以良好电连接的导电图案。
[0041]本发明发挥上述效果的详细理由尚不清楚，但本发明人们推测是如下的理由：如 图9所示，通过在感光性树脂层3中存在无机填料8，利用乳辊60将感光层4 (感光性树脂层3 及导电层2)层压到基材20上时的压力以压力P计充分地传递到导电层4中的导电性纤维上， 使导电性纤维与设置在基材表面上的连接端子(未图示)的充分接触变得可能。
[0042] 根据本发明，可以在对象物上直接形成导电图案，因此可以简便地形成导通配线。 例如，通过在设置有已制作好的导电图案的基材上、在导电图案的规定部分上用绝缘树脂 等形成绝缘膜后层压本发明的感光性导电膜来形成导电图案，可以在实现未被绝缘膜覆盖 的已制作好的导电图案与新形成的导电图案之间的导通的同时、在绝缘膜部分上形成导电 图案的交叉部(桥接部）。此时，已制作好的导电图案可以使用ITO等氧化物导电体、Cu等金 属等，可以容易地获得与这些导电图案的导通。
【附图说明】
[0043] 图1为表示感光性导电膜的一个例子的示意截面图。
[0044] 图2为表示感光性导电膜的制造方法的一个例子的示意截面图。
[0045] 图3为用于说明本发明的导电图案的形成方法的一个实施方式的示意截面图，（a) 为表示层压工序的示意截面图、（b)为表示转印感光性导电膜而成的层叠体的示意截面图、 (c)为表示曝光工序的示意截面图、（d)为表示显影工序的示意截面图。
[0046] 图4为表示透明电极存在于同一平面的静电电容式触摸面板的一个例子的俯视 图。
[0047] 图5为表示透明电极存在于同一平面的静电电容式触摸面板的一个例子的部分切 开立体图。
[0048]图6为沿图5中VI-VI线的部分截面图。
[0049] 图7为用于说明透明电极存在于同一平面的静电电容式触摸面板的制造方法的一 个例子的图，（a)为表示具备透明电极的基板的部分切开立体图、（b)为表示所得静电电容 式触摸面板的部分切开立体图。
[0050] 图8为用于说明透明电极存在于同一平面的静电电容式触摸面板的制造方法的一 个例子的图，（a)为沿图7中的VIIIa-VIIIa线的部分截面图、（b)为表示设置绝缘膜的工序 的部分截面图、（c)为沿图7中的VIIIC-VIII c线的部分截面图。
[0051]图9为用于说明本发明的感光性导电膜的作用效果的一个例子的示意截面图。
[0052] 图10为用于说明通过本发明的感光性导电膜形成的导电图案与