硬涂膜及透明导电性膜的制作方法

文档序号:8500502阅读:415来源:国知局
硬涂膜及透明导电性膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及透明性高、且滑动性和耐粘连性良好的硬涂膜,更详细而言,涉及适用 于透明导电性膜的硬涂膜。
【背景技术】
[0002] 硬涂膜(其是在基材膜上层合硬涂层而成)被用作显示器、触摸面板的表面保护、 或者触摸面板用电极膜(用于触摸面板的透明导电性膜)的基底膜。对于用于上述用途的 硬涂膜而言,要求透明性高,且滑动性和耐粘连性良好。
[0003] 为了改良硬涂膜或聚酯膜的滑动性、耐粘连性,提出了在表面设置突起的方案 (专利文献1、2)。
[0004] 现有技术文献
[0005] 专利文献
[0006] 专利文献1 :日本特开平7-314628号公报
[0007] 专利文献2 :日本特开2000-211082号公报

【发明内容】

[0008] 然而,采用上述专利文献中公开的技术,并未能达到同时充分满足透明性、滑动性 及耐粘连性的效果。
[0009] 因此,本发明的目的在于,鉴于上述现有技术存在的问题,提供一种透明性高、且 滑动性和耐粘连性良好的硬涂膜。本发明的另一目的在于提供适用于透明导电性膜的硬涂 膜。
[0010] 本发明的上述目的可通过下述1)~15)中的任一构成来达成。
[0011] 1) 一种硬涂膜,其特征在于,在基材膜的至少一面上具备含有粒子的第1硬涂层, 由所述粒子形成的突起以每100 μHi2为300~4000个的密度存在于第1硬涂层的表面,第 1硬涂层表面的中心线平均粗糙度(Ral)小于30nm,雾度值小于1. 5%。
[0012] 2)如1)所述的硬涂膜,其中,所述粒子的平均粒径(r)为0. 05~0. 5 μm。
[0013] 3)如1)或2)所述的硬涂膜,其中,所述粒子的平均粒径(r)相对于第1硬涂层的 厚度(d)的比率(r/d)为0. 01~0. 30。
[0014] 4)如1)~3)中任一项所述的硬涂膜,其中,所述突起的平均直径为0.03~ 0· 3 μ m,所述突起的平均高度为0· 03~0· 3 μ m。
[0015] 5)如1)~4)中任一项所述的硬涂膜,其中,所述突起的平均间隔为0.10~ 0. 70 μ m〇
[0016] 6)如1)~5)中任一项所述的硬涂膜,其中,第1硬涂层的厚度(d)为0. 5 μL?以 上且小于10 μ m。
[0017] 7)如1)~6)中任一项所述的硬涂膜,其中,基材膜与第1硬涂层之间具有树脂 层,所述树脂层的厚度为〇. 005~0. 3 μπι且含有粒子,所述粒子的平均粒径为树脂层厚度 的I. 3倍以上。
[0018] 8)如1)~7)中任一项所述的硬涂膜,其中,基材膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜, 基材膜与第1硬涂层之间具备折射率为1. 55~1. 61的树脂层。
[0019] 9)如1)~8)中任一项所述的硬涂膜,其中,基材膜与第1硬涂层之间具备润湿张 力为52mN/m以下的树脂层。
[0020] 10)如9)所述的硬涂膜,其中,第1硬涂层的厚度小于2 μm。
[0021] 11)如1)~10)中任一项所述的硬涂膜,其中,第1硬涂层中含有的粒子为选自由 实施过用于减小粒子的表面自由能的表面处理的无机粒子、及粒子的表面经过了疏水化处 理的无机粒子组成的组中的至少1种。
[0022] 12)如11)所述的硬涂膜,其中,用于获得所述实施过用于减小粒子的表面自由能 的表面处理的无机粒子的表面处理为下述(I)或(II)。
[0023] (I)使用选自由下述通式(1)表示的含有氟原子的有机硅烷化合物、该有机硅烷 的水解物、及该有机硅烷的水解物的部分缩合物组成的组中的至少1种的化合物进行表面 处理。
[0024] CnF2n+1-(CH2) m-Si (Q) 3 · · · ?通式(1)
[0025] (通式(1)中,η表示1~10的整数,m表示1~5的整数。Q表示碳原子数为1~ 5的烷氧基或卤素原子。)
[0026] (II)使用下述通式(2)表示的化合物进行处理,进而使用下述通式(3)表示的氟 化合物进行表面处理。
[0027] B-R4-SiR5n (OR6) 3_n ... ?通式(2)
[0028] D-R7-Rf2 · · · ?通式(3)
[0029] (通式(2)和(3)中,B和D各自独立地表示反应性部位,R4和R 7各自独立地表示 碳原子数为1~3的亚烷基、或由所述亚烷基衍生出的酯结构,R5和R 6各自独立地表示氢 或碳原子数为1~4的烷基,Rf2表示氟烷基,η表示0~2的整数。)
[0030] 13)如11)所述的硬涂膜,其中,疏水化处理中可使用的疏水性化合物为选自由具 有反应性部位和碳原子数为4以上的氟烷基的氟化合物、具有反应性部位和碳原子数为8 以上的烃基的长链烃化合物、及具有硅氧烷基和反应性部位的硅氧烷化合物组成的组中的 至少1种的化合物,所述疏水化处理是为了获得所述粒子表面经过了疏水化处理的无机粒 子而进行的。
[0031] 14)如1)~13)中任一项所述的硬涂膜,其中,第1硬涂层中含有的粒子为二氧化 娃粒子。
[0032] 15)如1)~14)中任一项所述的硬涂膜,其中,在所述基材膜的与设置有第1硬涂 层的面相反的面上具备第2硬涂层,第2硬涂层的表面实质上不存在由粒子形成的突起,且 第2硬涂层表面的中心线平均粗糙度(Ra2)为25nm以下。
[0033] 16) -种透明导电性膜,其中,在上述1)~15)中任一项所述的硬涂膜的至少一面 上具备透明导电膜。
[0034] 根据本发明,能够提供一种透明性高、且滑动性和耐粘连性良好的硬涂膜。本发明 的硬涂膜适用于透明导电性膜的基底膜。
【附图说明】
[0035] 图1是用扫描型电子显微镜观察到的第1硬涂层表面的观察图的一个例子。
[0036] 图2是模式化地表示第1硬涂层表面的突起的平面形状的图。
[0037] 图3是模式化地表示图1的第1硬涂层表面的模式图。
[0038] 图4是省略了图3的一部分的模式图。
【具体实施方式】
[0039] 本发明的一个实施方式涉及的硬涂膜,在基材膜的至少一面上具有第1硬涂层。 该第1硬涂层含有粒子,在第1硬涂层的表面具有每100 μ Hi2为300~4000个的由粒子引 起的突起(以下,有时简称为"突起")。该第1硬涂层表面的中心线平均粗糙度(Ral)小 于30nm。如上所述的本实施方式的硬涂膜的雾度值小于1. 5%。
[0040] 在第1硬涂层的表面以第1硬涂层表面的每单位面积(100 μ m2)为300~4000个 的数量具有突起,由此滑动性和耐粘连性变得良好。
[0041] 突起的个数密度的范围优选为每100 μm2 400~3500个的范围、更优选为500~ 3000个的范围、进一步优选为600~3000个的范围、特别优选为700~2500个的范围。
[0042] 粒子的个数密度小于每100 μπι2 300个时,滑动性、耐粘连性降低。另一方面,粒 子的个数密度大于每100 μ m2 4000个时,第1硬涂层表面的平滑性降低,雾度值变大,硬涂 膜的透明性降低。
[0043] 本实施方式的硬涂膜的一个特征为:尽管如上所述在第1硬涂层表面具有较多突 起,但第1硬涂层表面仍较为平滑,且硬涂膜的雾度值小。具体而言,本实施方式中的第1 硬涂层表面的中心线平均粗糙度(Ral)小于30nm,且硬涂膜的雾度值小于1. 5%是重要的。
[0044] 第1硬涂层表面的中心线平均粗糙度(Ral)优选为25nm以下、更优选为20nm以 下、特别优选为18nm以下。从确保滑动性和耐粘连性的观点考虑,中心线平均粗糙度(Ral) 的下限优选为5nm以上、更优选为7nm以上、特别优选为9nm以上。
[0045] 第1硬涂层表面的中心线平均粗糙度(Ral)为30nm以上时,平滑性降低,硬涂膜 的透明性降低。即,硬涂膜的雾度值变大。
[0046] 从实现高透明性的观点考虑,本实施方式的硬涂膜的雾度值小于1. 5%是重要的。 本实施方式的硬涂膜的雾度值进一步优选为1. 1 %以下、更优选为1. 〇%以下。雾度值的下 限越小越优选,但实际中为0. 01 %左右。
[0047] 为了在第1硬涂层表面具有每100 μ m2为300~4000个的突起,并使第1硬涂层 表面的中心线平均粗糙度(Ral)小于30nm,并且使硬涂膜的雾度值小于1.5%,优选地,使 第1硬涂层含有平均粒径(r)为0. 05~0. 5 μ m的粒子,并使该粒子较多地存在于第1硬 涂层的表面附近,由此在第1硬涂层表面形成突起。
[0048] 进而,第1硬涂层中含有的粒子的平均粒径(r) (μπι)与第1硬涂层的厚度(d) (μπι)的比率(r/d)优选为0.01~0.30。由此,第1硬涂层表面的中心线平均粗糙度(Ral) 变小,硬涂膜的雾度值也变小。
[0049] 以下,对构成硬涂膜的各构成要素进行详细说明。
[0050] [基材膜]
[0051] 基材膜可优选使用塑料膜。作为构成基材膜的材质,可举出例如聚对苯二甲酸乙 二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯、聚酰亚胺、聚苯硫醚、芳族聚酰胺、聚丙 烯、聚乙烯、聚乳酸、聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、脂环式丙烯酸树脂、环烯烃树 月旨、三乙酸纤维素(triacetylcellulose)、以及将这些树脂混合和/或共聚而得的物质。可 以将上述树脂在未拉伸的状态下、或者在进行单轴拉伸或双轴拉伸之后制成膜,并将其用 作基材膜。
[0052] 上述基材膜中,聚酯膜的透明性、尺寸稳定性、机械特性、耐热性、电特性、耐化学 药品性等优异,可特别优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(PET膜)。
[0053] 关于基材膜厚度的范围,20~300 μ m的范围是适当的,优选为30~200 μ m的范 围
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