透明导电性层叠膜、其制造方法及触摸面板的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及一种透明导电性层叠膜及其制造方法，该透明导电性层叠膜在第一膜 基材一个面上具有透明导电层、在另一面上经由透明固化粘接剂层而具有第二膜基材。本 发明的透明导电性层叠膜可用于各种电极基板，例如，适合用于静电容量式触摸面板的输 入装置的电极基板。具备本发明的透明导电性层叠膜的触摸面板能用于例如液晶监视器、 液晶电视、数码摄像机、数码相机、手机、便携游戏机、汽车导航、电子纸、有机化显示器等。
【背景技术】
[0002] W往，已知作为透明导电性膜，在透明的膜基材上层叠有透明导电层（例如，口0 膜）的材料。上述透明导电性膜应用在静电容量式触摸面板的电极基板时，使用上述透明 导电层被图案化的材料（专利文献1)。具有运样的被图案化的透明导电层的透明导电性层 叠膜与其他透明导电性膜等一起层叠而使用，适合用于可同时W2只W上手指操作的多点 触控方式的输入装置。
[000引此外，静电容量式触摸面板等所使用的透明导电性膜中，电极间距有各种类型，故 为了能适用，必须制造各种不同厚度的透明性导电性膜。然而，生产各种厚度的透明性导电 性膜存在使生产性大幅下降的问题。因此，为能调整厚度，提出了一种在层叠膜上形成有透 明导电层的透明导电性层叠膜，该层叠膜将2片W上膜W厚度约20μm的厚的压敏粘接剂 (粘合剂）层贴合而成。
[0004] 现有技术文献 [000引专利文献
[0006] 专利文献1 :日本特开2009-076432号公报。
【发明内容】
[0007] 发明要解决的技术问题
[0008] 然而，上述透明导电性层叠膜在蚀刻透明导电层使其图案化而形成透明电极图案 时，在透明导电性层叠膜容易出现大的波浪状的起伏，造成具有及不具有透明电极图案的 部分的大小变得比设计值更大的问题。
[0009] 本发明的目的在于，提供一种透明导电性层叠膜及其制造方法，该透明导电性层 叠膜为使用第一膜基材及第二基材膜的层叠膜，而且在透明导电层被图案化时能够抑制起 伏的生成。
[0010] 另外，本发明的目的在于提供一种使用了上述透明导电性层叠膜的静电容量式触 摸面板。
[0011] 解决技术问题的手段
[0012] 本发明人等为解决上述课题而深入地进行研究，结果，通过下述透明导电性层叠 膜而完成本发明。
[0013] 即本发明设及一种透明导电性层叠膜，其特征在于具有：层叠膜，其为多个透明膜 基材经由透明固化粘接剂层层叠而成，其中所述多个透明膜基材具有透明的第一膜基材与 透明的第二膜基材，而所述透明固化粘接剂层在140°C时的储能弹性模量为1Xl〇7paW上； 及第一透明导电层，其层叠于上述第一膜基材的与上述透明固化粘接剂层相反的面上。
[0014] 上述透明导电性层叠膜优选为：上述透明导电性层叠膜与上述层叠膜在14(TC条 件下加热处理30分钟时的收缩率差距为0. 3%W下。
[0015] 上述透明导电性层叠膜之中，上述透明固化粘接剂层优选由活性能量射线固化型 粘接剂组合物形成，所述组合物含有作为固化性成分的自由基聚合性化合物（A)、度）及 似，上述自由基聚合性化合物（A)的SP值为29. 0 (kj/m3) 1/?上且32. 0W下化J/m3)I/2，
[0016] 上述自由基聚合性化合物度）的SP值为18.0化J/m3)i/2W上且小于21.0化J/ m3)i々，
[0017] 上述自由基聚合性化合物似的SP值为21. 0 (kj/m3) 1/?上且23. 0化J/m3) 1/? 下，
[0018] 且在设组合物总量为100重量％时，优选含有25~80重量％的上述自由基聚合 性化合物度）。
[0019] 上述活性能量射线固化型粘接剂组合物可还含有由（甲基）丙締酸单体聚合而成 的丙締酸系低聚物值）。上述活性能量射线固化型粘接剂组合物在设组合物总量为100重 量％时，优选W20重量％^下的范围含有由（甲基）丙締酸单体聚合而成的丙締酸系低聚 物值）。
[0020] 上述活性能量射线固化型粘接剂组合物在设组合物总量为100重量％时，优选含 有上述自由基聚合性化合物（A) 3~40重量％、及上述自由基聚合性化合物（05~55重 量％。
[0021] 另外，上述活性能量射线固化型粘接剂组合物在设上述自由基聚合性化合物的总 量为100重量份时，可含有上述自由基聚合性化合物（A)、度）及（C)合计85重量份W上， 并进一步W15重量份W下的范围含有SP值超过23. 0化J/m3)I/2且小于29. 0化J/m3)I/2的 自由基聚合性化合物巧）。
[0022] 上述活性能量射线固化型粘接剂组合物之中，优选含有具有活性亚甲基的自由基 聚合性化合物（巧、及具有夺氨作用的自由基聚合引发剂佑)。基于所述结构，特别是即使 在刚从高湿度环境或水中取出后（非干燥状态），仍然能显著提高具有偏振膜的粘接剂层 的粘接性。其理由虽不十分清楚，但推测有W下的原因。目P，具有活性亚甲基的自由基聚合 性化合物（巧与构成粘接剂层的其他自由基聚合性化合物一同聚合，并同时被纳入粘接剂 层的基础聚合物的主链及/或侧链中，形成粘接剂层。在所述聚合过程中，若存在具有夺氨 作用的自由基聚合引发剂（G)，则在构成粘接剂层的基础聚合物形成的同时，具有活性亚甲 基的自由基聚合性化合物（巧会有氨被夺走，而在亚甲基上产生自由基。从而，产生了自由 基的亚甲基与PVA等偏振片的径基起反应，在粘接剂层与偏振片之间形成共价键。其结果 是，在非干燥状态下，偏振膜所具粘接剂层的粘接性特别显著提高。
[0023] 上述活性能量射线固化型粘接剂组合物之中，上述活性亚甲基优选为乙酷乙酷 基。
[0024] 上述活性能量射线固化型粘接剂组合物之中，上述具有活性亚甲基的自由基聚合 性化合物（巧优选为乙酷乙酷氧基烷基（甲基）丙締酸醋。
[00巧]上述活性能量射线固化型粘接剂组合物之中，上述自由基聚合引发剂（巧优选为 嚷吨酬系自由基聚合引发剂。
[0026] 上述活性能量射线固化型粘接剂组合物之中，在设组合物总量为100重量％时， 优选含有上述具有活性亚甲基的自由基聚合性化合物（F) 1~50重量％、及自由基聚合引 发剂似0. 1~10重量％。
[0027] 上述活性能量射线固化型粘接剂组合物之中，优选含有光致产酸剂做。
[0028] 上述活性能量射线固化型粘接剂组合物之中，光致产酸剂（H)优选含有：具有选 自由PFe、訊Fe及AsF6所组成的组中的至少1种作为抗衡阴离子的光致产酸剂。
[0029] 上述活性能量射线固化型粘接剂组合物之中，优选在活性能量射线固化型粘接剂 组合物中并用光致产酸剂（H)及含烷氧基、环氧基中任一种的化合物（I)。
[0030] 上述活性能量射线固化型粘接剂组合物之中，优选包含具有氨基的硅烷偶联剂 (J)。基于所述结构，所得的粘接剂层的溫水粘接性会进一步提高。上述活性能量射线固化 型粘接剂组合物之中，在设组合物总量为100重量％时，具有氨基的硅烷偶联剂（J)优选含 有0.01~20重量％。
[0031] 上述透明导电性层叠膜之中，上述第一膜基材的厚度优选为15μπι~75μπι。
[0032] 上述透明导电性层叠膜之中，上述透明固化粘接剂层的厚度优选为0. 01μπιW上 且10μmW下。
[0033] 作为上述透明导电性层叠膜，可使用在上述层叠膜的与第一透明导电层相反侧的 面上具有第二透明导电层的层叠膜。
[0034] 上述透明导电性层叠膜之中，形成上述膜基材的材料优选为聚醋树脂、环状聚締 控树脂、或聚碳酸醋树脂中的任一者。
[0035] 上述透明导电性层叠膜之中，形成上述透明导电层的材料优选为铜锡氧化物或铜 锋氧化物的任一者。
[0036] 上述透明导电性层叠膜中，优选上述透明导电层发生结晶化。
[0037] 上述透明导电性层叠膜中，优选上述透明导电层被图案化。
[0038] 另外，本发明设及一种触摸面板，其特征在于，具备至少一个上述透明导电性层叠 膜。
[0039] 另外，本发明设及一种透明导电性层叠膜的制造方法，其为上述透明导电性层叠 膜的制造方法，其特征在于具有W下工序：工序a:准备透明导电性膜，其在第一膜基材一 个面上设有第一透明导电层；工序b:通过透明未固化粘接剂层，将上述透明导电性膜中上 述第一膜基材的不具有上述第一透明导电层的另一面、与第二膜基材相贴合，其中该透明 未固化粘接剂层可通过固化而形成140°C时储能弹性模量为1X107PaW上的透明固化粘接 剂层；W及工序C:使上述透明未固化粘接剂层固化。
[0040] 上述透明导电性层叠膜的制造方法可在工序C之后还具有将上述透明导电层加 热处理使其结晶化的工序d。
[0041] 上述透明导电性层叠膜的制造方法可在工序C之后还具有使上述透明导电层图 案化的工序e。
[0042] 上述透明导电性层叠膜的制造方法中，上述工序C为对上述透明未固化粘接剂层 照射活性能量射线，由此使上述透明未固化粘接剂层固化的工序，而上述活性能量射线优 选含有波长范围380~450nm的可见光。
[0043] 上述透明导电性层叠膜的制造方法中，上述活性能量射线的波长范围380~ 440皿的累积照度与波长范围250~370皿的累积照度的比值优选为100 : 0~100 : 50。
[0044] 发明效果
[0045]在将透明导电性层叠膜的透明导电层图案化时施W蚀刻，蚀刻后再进行加热干 燥。已知透明导电性层叠膜的起伏起因于上述蚀刻的加热干燥中设有上述透明导电层的膜 的图案化部与非图案化部的收缩率不同。还已知，在使透明导电层结晶化时，也对透明导电 性层叠膜实施加热处理，而在后续冷却时，上述透明导电性层叠膜的图案化部与非图案化 部的收缩率也出现差异。由此可知，对于上述收缩率差异所造成的起伏现象，与透明导电性 层叠膜中将第一膜基材与第二膜基材层叠的粘合剂层或粘接剂层在加热干燥时的弹性模 量有关。
[0046]本发明的透明导电性层叠膜将具有第一膜基材及第二膜基材的多个透明膜 基材经由在与在蚀刻等加热干燥时的溫度对应的140°C时的储能弹性模量为规定W上 (lXl〇7paW上）的透明固化粘接剂层进行层叠。因此，本发明的透明导电性层叠膜在将透 明导电层图案化并施W加热干燥等情况时，能够将上述膜图案化部与非图案化部的收缩率 差控制在较低值，从而可抑制起伏现象。
[0047] 另外，由上述记载的活性能量射线固化型粘接剂组合物的固化物来形成透明固化 粘接剂层时，可形成使2个W上的构件、特别是2片W上的膜基材之间的粘接性提高并使耐 久性及耐水性提高的粘接剂层。进而本发明的透明导电性层叠膜具备：在2片W上膜基材 间的粘接性优异、且粘接剂层的耐久性及耐水性优异的粘接剂层。
[0048]在具备本发明的粘接剂层时，可制作尺寸变化小的透明导电性层叠膜，因此也易 于应对透明导电性层叠膜的大型化，从成品率及处理量的观点出发也能压低生产成本。
【附图说明】
[0049] 图1是表示本发明的透明导电性层叠膜的一实施方式的剖面图。
[0050] 图2是表示本发明的透明导电性层叠膜的一实施方式的剖面图。
[0051] 图3是表示本发明的透明导电性层叠膜的一实施方式的剖面图。
[0052] 图4是表示本发明的透明导电性层叠膜的一实施方式的剖面图。
【具体实施方式】
[0053]对于本发明的透明导电性层叠膜的实施方式，参照【附图说明】如下。
[0054] 图1至图4为表示本发明的透明导电性层叠膜的一实施方式的剖面图。图1所示 的透明导电性层叠膜A具有：透明的第一膜基材11 ;第一透明导电层21，其设置于上述第 一膜基材11的一个面上；透明固化粘接剂层3,其层叠于上述第一膜基材11另一面上；透 明的第二膜基材12,其层叠于上述透明固化粘接剂层3的与上述第一膜基材11相反侧的面 上。图2中，在图1的上述第二膜基材12上，进一步设有第二透明导电层22。图3中，在图 1的透明导电性层叠膜A中的第二膜基材12上，进一步依次具有透明固化粘接剂层3、及透 明的第Ξ膜基材13。图4中，在图3的上述第Ξ膜基材13上，进一步设有第二透明导电层 22〇
[0055] 另外，在图1至图4中，在记载该透明导电性层叠膜A的同时，一并对层叠膜A'进 行记载。在实施例中，层叠膜A'的收缩率是对已通过蚀刻而将第一透明导电层21 (在图2、 图4中关于第二透明导电层22也同样）从透明导电性层叠膜A除去的部分进行测定。另 夕F，在图1至图4中，虽然透明导电层21、22未被图案化，但透明导电层21、22的至少一个 透明导电层可适当地进行图案化。
[0056] 此外，虽然在图1中，第一膜基材11与第二膜基材12经由透明固化粘接剂层3层 叠作为层叠膜A;另外，在图2中，第一膜基材11、第二膜基材11及第Ξ膜基材13依次经由 透明固化粘接剂层3层叠而作为层叠膜A，但也可进一步使用将4片W上的多个透明膜基 材从第一膜基材侧依次经由透明固化粘接剂层3层叠而成的结构作为层叠膜A。另外，本 发明的透明导电性层叠膜A中，第一透明导电层21设置并层叠于层叠膜A'的第一膜基材 11的面上（即，第一膜基材21的与透明固化粘接剂层3相反的面）。另一方面，第二透明 导电层22在层叠膜A之中设置在与第一透明导电层21相反侧的面上。
[0057] 本发明中，优选透明导电性层叠膜A的收缩率与层叠膜A'的收缩率的差值控制 在0.30%W下。目P，无论是否有透明导电层，通过使用收缩率无差异的构件，对于将设有透 明导电层的透明导电性层叠膜A图案化而成的膜，也能够抑制其起伏。上述收缩率的差值 优选为0. 15%W下，更优选为0. 10%W下。另外，收缩率为依据实施例的记载而测定的值。
[0058] 作为第一、第二膜基材等膜基材，无特别限制，但可使用具透明性的各种塑料膜。 例如，作为其材料，可举例为：聚对苯二甲酸乙二醇醋、聚糞二甲酸乙二醇醋等聚醋系树脂、 乙酸醋系树脂、聚酸讽系树脂、聚碳酸醋系树脂、聚酷胺系树脂、聚酷亚胺系树脂、聚乙締、 聚丙締、环系或具降冰片締结构的聚締控系树脂、（甲基）丙締酸系树脂、聚氯乙締系树脂、 聚偏二氯乙締系树脂、聚苯乙締系树脂、聚乙締醇系树脂、聚芳醋系树脂、聚苯硫酸系树脂 等。运些之中特别优选的是：聚对苯二甲酸乙二醇醋、聚碳酸醋系树脂、环系或具有降冰片 締结构的环状聚締控系树脂。
[0059] 第一、第二膜基材等膜基材可使用相同材料，也可使用不同材料，但对于抑制起伏 而言，优选使用相同材料。
[0060] 第一膜基材是形成第一透明导电层的对象，由其生产性的观点出发，厚度优选为 15~75μm。上述厚度优选15~60μm、更优选为20~50μm。上述第一膜基材的厚度若 较上述范围更薄则可能会强度不足而操作困难。另一方面，若上述厚度变厚，则例如在W瓣 射法形成透明导电层时，真空脱气耗费时间，而且，同样的漉的原材的长度较短，故原料替 换费时，W生产性的观点而言并不优选。
[0061]另外，第二膜基材由于用于静电容量式触摸面板等的透明导电性膜中，其电极 间距样式不一，故从适应此状况的观点出发，优选为30~200μm。上述厚度优选50~ 175μπκ更优选75~175μπι。若上述第二膜基材的厚度过厚，则有透明性低下的情况，另 夕F，还会有例如向触摸面板的安装变得困难的状况。另外，从降低第一膜基材及第二膜基材 在加热下的收缩并抑制起伏方面来说，第二膜基材的厚度（t2)与第一膜基材的厚度（tl) 的厚度关系优选满足= 1. 5~6。
[0062] 另外，第Ξ膜基材W后的膜基材的厚度可依层叠膜的使用形态适当决定。通常，第Ξ膜基材W后的膜基材可在第一膜基材或第二膜基材的厚度范围内使用。
[0063] 也可对第一、第二膜基材等膜基材对表面预先实施瓣射、电晕放电、火焰、紫外线