正型感光性树脂组合物、使用了它的膜的制造方法以及电子部件的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及正型感光性树脂组合物、使用了它的膜的制造方法W及电子部件。
【背景技术】
[0002] 液晶显示元件、有机化显示元件等平板显示器中，为了使配置成层状的布线间绝 缘而设置了层间绝缘膜。运些层间绝缘膜材料确保层间的绝缘性，另一方面，必需形成用于 导通的孔图案，因此一般而言使用正型的感光性材料，作为代表的材料，可列举出向丙締酸 类树脂添加有酿二叠氮化合物的组合物(专利文献1、2)。
[0003] 近年，平板显示器往往采用触摸板方式，为了提高其透明性、功能性，WITO等的透 明电极部材的高透明化?高导电性化为目的，必需在更高溫下的热处理、制膜。与此相伴， 对透明电极的保护膜、绝缘膜也需求对高溫处理的耐热性。但是，丙締酸类树脂由于耐热性 不充分，因此存在在基板的高溫处理、透明电极的制膜时着色而透明性降低、或由于脱气导 致电极的导电率降低的问题。
[0004] 另一方面，作为兼备高耐热性、高透明性的材料，聚硅氧烷化合物是已知的，对在 其中添加酿二叠氮化合物得到的正型感光性组合物是公知的（专利文献3)。运些材料的耐 热性高、即便进行基板的高溫处理透明性的降低也小，因此可W得到高透明性的膜。但是， 运些材料中，存在对碱显影液的溶解性、显影性低运样的问题，对具有可W通过曝光来精细 加工的碱显影性的聚硅氧烷化合物的要求变高。专利文献4中公开了，为了赋予显影所必要 的碱溶性而导入了酪基、簇基等酸性基团的聚硅氧烷化合物作为构成能够制成高分辨率的 抗蚀图案的正型抗蚀剂组合物的成分。
[0005] 作为对聚硅氧烷化合物赋予碱溶性的方法，上述运样的酸性基团的导入是有效 的，可W列举出酪基、簇基、硅烷醇基、氣代甲醇基(f Iuorocarbino 1 group)等作为其代表 例。例如，公知的是包含具有酪性径基或簇基的聚硅氧烷化合物、和光产酸剂或含有酿二叠 氮化合物的正型感光性树脂组合物(专利文献5~8)。但是，将运些聚硅氧烷化合物作为组 合物的成分时，虽然能确保对碱显影液的溶解性、显影性，但由于具有酪性径基、簇基，因此 具有透明性低、高溫下着色的问题。具有硅烷醇基的聚硅氧烷化合物中，分子内的硅烷醇基 的量多则发生膜损耗或由于其缩合反应而产生水的脱离、裂纹等，在膜物性上产生问题，另 一方面，硅烷醇量少时，存在不能充分确保碱溶性之类的问题。
[0006] 基于上述情况，从不损害透明性、膜物性、并对聚硅氧烷化合物赋予碱溶性的观点 出发，氣代甲醇基是有效的，其中，已知六氣异丙醇基(2-径基-1，1，1，3，3，3-氣代异丙基， 良P-C(CF3)20H)特别合适。专利文献9公开了介由直链状、支链状或环状的脂肪族控基导入了 六氣异丙醇基的聚硅氧烷化合物作为具有碱显影性的组合物的成分是有用的。但是，对于 该聚硅氧烷化合物，六氣异丙醇基介由通过氨化硅烷化反应而形成的脂肪族控基与娃原子 键合，该脂肪族控基的部位在高溫下热分解，因此存在耐热性不充分运样的问题。
[0007] 现有技术文献
[000引专利文献
[0009] 专利文献1:日本特开2001-281853号公报
[0010] 专利文献2:日本特开2001-281861号公报
[0011] 专利文献3:日本特开2006-178436号公报
[0012] 专利文献4:日本特开2005-330488号公报
[0013] 专利文献5:美国专利申请公开第2003/211407号说明书
[0014] 专利文献6:日本特开2012-113160号公报
[0015] 专利文献7:日本特开2010-101957号公报
[0016] 专利文献8:日本特开2002-55456号公报
【发明内容】
[0017] 发明要解决的问题
[0018] 从上述情况出发，本发明的目的在于提供能够形成具有在碱水溶液中的显影性、 且耐热性和耐热透明性优异的图案固化膜的聚硅氧烷化合物的正型感光性树脂组合物。另 夕h本发明的目的在于提供具有该图案固化膜作为表面保护层或层间绝缘层的电子部件。
[0019] 用于解决问题的方案
[0020] 鉴于上述情况，本发明人等进行深入研究。其结果，在制备至少包含分子内具有特 定结构的聚硅氧烷化合物、光产酸剂或酿二叠氮化合物、和溶剂的正型感光性树脂组合物 时，发现使用其形成的膜兼具碱显影性和耐热透明性，从而完成本发明。
[0021] 旨P，本发明包括W下的[发明1]~[发明15]。
[0022] [发明 1]
[0023] -种正型感光性树脂组合物，其至少包含：作为(A)成分的至少包含通式（1)表示 的结构单元的聚硅氧烷化合物、
[0024] [(RX)bRlmSi0n/2]
[0025] [式（1)中，RX为下述式表示的基团、Ri各自独立地为氨原子、碳数IW上且3W下的 烷基、苯基、径基、碳数IW上且3W下的烷氧基或碳数IW上且3W下的氣代烷基，b为1~3的 整数、m为0~2的整数、n为1~3的整数，且b+m+n = 4。
[0027] (式中，X各自独立地为氨原子或酸不稳定性基团（acid labile group),a为1~5 的整数。）]
[0028] 作为(B)成分的光产酸剂或酿二叠氮化合物、W及
[0029] 作为(C)成分的溶剂。
[0030] [发明 2]
[0031] 根据发明1的正型感光性树脂组合物，其中，通式(1)的RX中的a为1~3。
[0032] [发明3]
[0033] 根据发明1或2的正型感光性树脂组合物，其中，通式（1)的RX为下述式中任一者表 不的基团。
[0036] [发明4]
[0037] 根据发明1~3中任一项的正型感光性树脂组合物，其中，通式(1)中的b为1。
[003引[发明5]
[0039] 根据发明4的正型感光性树脂组合物，其中，通式(1)中的n为3。
[0040] [发明6]
[0041] 根据发明1~5中任一项的正型感光性树脂组合物，其中，（A)成分的聚硅氧烷化合 物为还包含通式(2)表示的结构单元的聚硅氧烷化合物。
[00 创[Si(RY)p0q/2] (2)
[0043] [式(2)中，RY相互独立地为氨原子、碳数IW上且3W下的烷基、苯基、碳数IW上且 3W下的烷氧基或碳数m上且3W下的氣代烷基，P为0~3的整数、q为1~4的整数，且p+q = 40]
[0044] [发明7]
[0045] 根据发明6的正型感光性树脂组合物，其中，（A)成分的聚硅氧烷化合物为相对于1 单元的通式（1)表示的结构单元包含0.1~10单元的通式(2)表示的结构单元的聚硅氧烷化 合物。
[0046] [发明8]
[0047] 根据发明6或7的正型感光性树脂组合物，其中，通式(1)中的n为3。
[004引[发明9]
[0049] 根据发明1~8中任一项的正型感光性树脂组合物，其还包含选自由表面活性剂、 硅烷偶联剂W及溶解抑制剂(dissolution inhibitor)组成的组中的一种W上。
[0化0][发明10]
[0051] 一种正型感光性树脂膜，其由发明1~9中任一项的正型感光性树脂组合物得到。 [0化2][发明11]
[0053] -种图案固化膜的制造方法，其包括:将发明1~9中任一项的正型感光性树脂组 合物在基板上涂布W及干燥而形成正型感光性树脂膜的工序、对前述正型感光性树脂膜曝 光的工序、将曝光后的前述正型感光性树脂膜利用碱水溶液显影而形成图案树脂膜的工 序、和加热前述图案树脂膜的工序。
[0化4][发明12]
[0055] -种图案固化膜，其通过发明11的制造方法得到。
[0化6][发明13]
[0057] -种层叠体，其至少具备通过发明11的制造方法得到的图案固化膜和基板。
[005引[发明14]
[0059] -种电子部件，其具有通过发明11的制造方法得到的图案固化膜作为表面保护层 或层间绝缘层。
[0060] [发明 15]
[0061] -种形成图案树脂膜的方法，其包括:将发明1~9中任一项的正型感光性树脂组 合物在基板上涂布W及干燥而形成正型感光性树脂膜的工序、对前述正型感光性树脂膜曝 光的工序、和将曝光后的前述正型感光性树脂膜通过碱水溶液显影而形成图案树脂膜的工 序。
[0062] 根据本发明，能够提供可W形成具有高耐热透明性和碱显影性的图案固化膜的正 型感光性树脂组合物。另外，能够提供具有该图案固化膜作为表面保护层或层间绝缘层的 电子部件。
【附图说明】
[0063] 图1为本发明的实施例1-3中的组合物1-3的线图案照片。
[0064] 图2为本发明的实施例1-3中的组合物1-3的孔图案照片。
[0065] 图3为本发明的实施例1-4中的组合物1-4的线图案照片。
[0066] 图4为本发明的实施例1-4中的组合物1-4的孔图案照片。
[0067] 图5为本发明的实施例2-3中的组合物2-3的孔图案照片。
[0068] 图6为本发明的实施例2-4中的组合物2-4的孔图案照片。
[0069] 图7为本发明的实施例3-1中的组合物3-1的孔图案照片。
[0070] 图8为本发明的实施例3-2中的组合物3-2的孔图案照片。
[0071] 图9为本发明的实施例3-3中的组合物3-3的孔图案照片。
[0072] 图10为本发明的实施例3-4中的组合物3-4的孔图案照片。
【具体实施方式】
[0073] W下的实施方式中各结构W及它们的组合等为一个例子，在不超出本发明的主旨 的范围内可W进行结构的增加、省略、取代W及其它变更。另外，本发明不限定于实施方式， 仅被限定于权利要求的范围内。
[0074] W下，针对为(A)成分的聚硅氧烷化合物、为(B)成分的光产酸剂或酿二叠氮化合 物、为(C)成分的溶剂、至少包含(A)~（C)成分的正型感光性树脂组合物W及由此得到的 膜、具有该膜的电子部件，依次进行说明。
[0075] [ 1. (A)成分:聚硅氧烷化合物]
[0076] 本发明的为(A)成分的聚硅氧烷化合物为至少包含通式（1)表示的结构单元的聚 硅氧烷化合物（W下，有时称为"聚硅氧烷化合物(1 r)。
[0077] [(RX)bRlmSi0n/2] (1)
[0078] 通式（1)中，RX为下述式表示的基团，存在多个RX的情况下，RX任选彼此相同或不 同。
[0080] 式中，X为氨原子或酸不稳定性基团，存在多个X的情况下，X任选彼此相同或不同。 a为1~5的整数。Ri为氨原子、碳数m上且3W下的烷基、苯基、径基、碳数m上且3W下的 烷氧基或碳数m上且拟下的氣代烷基，存在多个Ri的情况下，Ri任选彼此相同或不同。b为 1~3的整数、m为0~2的整数、n