专利名称：一种药物涂层支架的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种药物涂层支架
背景技术：
心脑血管疾病是一种严重威胁人类健康的疾病，发病率和致死率均很高。目前治疗心血管类疾病的一种有效方法是通过微创介入手段进行支架植入，使狭窄或堵塞的血管重新畅通，恢复供血。第一代血管支架是金属裸支架，虽然这种支架可以实现疏通狭窄或堵塞血管的目的，但是植入后的血栓、血管内膜增生等不良反应随之而来，后期效果较差。随后第二代血管支架药物涂层支架(Drug eluting stent,DES)的诞生在很大程度上抑制了这些不良反应，临床效果较好。所谓药物涂层支架，即在血管支架外涂覆一层结合有效药物成分的多聚物涂层，该药物涂层将在支架植入后很长一段时间内释放药物成份，预防、抑制支架内内膜增生或血栓形成，从而防止发生支架内再狭窄，达到保持长期通畅率的目的。药物涂层支架植入血管后受到单向血流的冲刷，药物成分的释放速度和分布规律会受到血管局部的血流动力学环境的影响。如果按照现有药物涂层支架的设计(药物在支架上均匀分布与释放)，必然造成支架内药物浓度的不均衡自前端到后端药物浓度逐渐升高。最终影响药物涂层支架的作用效果。
发明内容
本发明针对药物涂层支架内部药物浓度分布不均匀的技术问题，提出一种新的药物涂层支架，使支架在植入血管后内部药物浓度保持更均匀分布，从而解决药物涂层支架内前端药物浓度低，后端药物浓度高的问题。为了解决上述技术问题，本发明是通过如下技术方案实现的一种新型的药物涂层支架，该药物涂层支架有前端和后端之分，且自前端至后端药物涂层上药物浓度逐渐降低。所述药物涂层支架包括支架部分和药物涂层部分。所述药物涂层支架的支架部分可以是金属支架也可以是可降解材料支架。所述药物涂层支架的编织方式可采用任一种现有血管支架的编织方式。所述药物涂层由聚合物和被聚合物包覆的药物成分组成。所述药物成分为他汀类药物、雷帕霉素类、紫杉醇类、肝素类药物中的一种或2-4 种的组合。通过上述技术方案，在自药物涂层支架前端往后端的血流流动作用下，可以保持药物涂层支架植入血管后支架内药物浓度的近似均匀分布，更好地提高药物涂层支架抑制支架内再狭窄、血管内膜增生等病变的性能。
图I是本发明的正视图；图2是用于说明本发明中沿轴向的药物浓度分布。
图中1药物涂层支架前端；2药物涂层支架主体；3药物涂层支架后端。
具体实施方案本发明的具体实施方式
说明如下如图I所示，本发明公开的药物涂层支架具有血管支架的形状，其由两大部分组成支架部分和药物涂层部分。其中支架部分可以为金属支架或可降解支架，其编织方式或者说形状可采用之前已公开的血管支架的编制方式或者形状。药物涂层部分又由两部分组成聚合物和药物成分。其中聚合物可采用已公开的药物涂层支架表面的聚合物成分，药物成分为他汀类药物、雷帕霉素类、紫杉醇类、肝素类药物中的一种或2-4种的组合。本发明的最大特点体现为从药物涂层支架的前端至后端，药物浓度逐渐降低，最后端的药物浓度为最低或为零。药物的浓度分布规律可以如图2所示的线性分布规律。针对不同药物的释放规律，也可对分布规律进行修改，但是保持自前端到后端药物浓度逐渐减小的特点。在医生进行植入操作时，保持支架前端在血流流入支架方向，后端在血流流出支架方向。植入后，药物涂层支架上的药物释放的时候，虽然支架上的药物浓度不同，但是在自前端往后端的血流流动作用下，支架内药物浓度趋于均匀分布。
权利要求
1.一种药物涂层支架，包括支架部分与涂覆在上面的药物涂层，其特征是，所述药物涂层支架有前端和后端之分，且自前端至后端药物涂层上药物浓度逐渐降低。
2.根据权利要求I所述的药物涂层支架，其特征是，所述药物涂层支架包括支架部分和药物涂层部分。
3.根据权利要求I所述的药物涂层支架，其特征是，所述药物涂层支架的支架部分可以是金属支架也可以是可降解材料支架。
4.根据权利要求I所述的药物涂层支架，其特征是，所述药物涂层由聚合物和被聚合物包覆的药物成分组成。
5.根据权利要求I所述的药物涂层支架，其特征是，所述药物成分为他汀类药物、雷帕霉素类、紫杉醇类、肝素类药物中的一种或2-4种的组合。
全文摘要
药物涂层支架是治疗心脑血管狭窄或堵塞的有效介入器械。药物涂层支架植入血管后受到单向血流的冲刷，药物成分的释放速度和分布规律会受到血管局部的血流动力学环境的影响。如果按照现有药物涂层支架的设计，即药物在支架上均匀分布与释放，必然造成支架内药物浓度的不均衡自前端到后端药物浓度逐渐升高。最终影响药物涂层支架的作用效果。本发明专利公开了一种新型的药物涂层支架，该药物涂层支架有前端和后端之分，且自前端至后端药物涂层上药物浓度逐渐降低。通过这种设计，可以保证支架植入血管后虽然受到血流的冲刷作用，但是仍保持支架内轴向上药物浓度的基本均衡。
文档编号A61F2/90GK102579172SQ20121003403
公开日2012年7月18日 申请日期2012年2月15日 优先权日2012年2月15日
发明者刘肖, 占帆, 孙安强, 樊瑜波, 王振泽, 邓小燕 申请人:北京航空航天大学