专利名称：Tft-lcd玻璃基板清洗方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种TFT-LCD玻璃基板超声波多频清洗方法。
背景技术：
在TFT-IXD的制造工序中，当玻璃基板表面存在的颗粒粒径为线宽1/3左右时，短线、短路等缺陷的出现频率倍增，为了克服这一缺陷，在对玻璃基板的表面供给给定的处理液进行处理后，对该玻璃基板进行洗净工序。现有的TFT-IXD行业采用洗净玻璃基板的流程为先等离子体清洗(Plasma)、或远紫外线清洗(EUV)、或深紫外线清洗(DUV),然后刷洗剂冲淋(brush+shower)及压力射流清洗(Jet)，最后再进行二流体清洗，其分别对应的清除物质为有机残留物与颗粒，该颗粒的尺寸分别为IOum以上、l-10um、l_5um。而随着面板大尺寸化、高开口率、及低线宽等技术发展要求，采用现有的多机台来清除不同粒径颗粒的技术存在以下的缺陷I、采用数台机台，分别除去不同粒径的颗粒，造成了机台较高的成本投入，且基板在各种机台间的转换造成工时的浪费，并易在基板转换过程中引入新的颗粒；2、机台清洗原理主要为物理冲击的作用机制，对于粒径较小及顽固附着的颗粒清洗效果并不明显，且对清洗采用的蒸馏水及添加溶剂消耗较大，增加了生产成本。为了提高洗净效果，超声波清洗技术逐渐出现在TFT-LCD玻璃基板流程中，超声波清洗技术是一种多应用于精密机械及特种精细机构领域的清洗方法，超声波清洗是利用了超声波的空蚀作用，空蚀定义为溶液中的微型气泡的内爆裂，它是由超声场内的压力变化导致的。压力差是通过一个液体区域中正负压力的交替变换产生的，当液体处于负压力时，它的沸点会降低，并且会产生许多小蒸汽泡。当压力变为正值时，小气泡会发生猛烈的内爆，由换能器释放的高频电能产生了机械波，这种空蚀现象提供了机械搅拌和洗涤作用。 超声波清洗技术的应用，在很大程度上提高了 TFT-LCD玻璃基板的洗净效果。但是，为了清除不同粒径的颗粒，需使用不同频率的机台，造成了机台较高的成本投入，且基板在各种机台间的转换造成工时的浪费，并易在基板转换过程中引入新的颗粒。
发明内容
本发明的目的在于提供一种TFT-LCD玻璃基板清洗方法，其成本低，清洗范围广， 且清洗能力强。为实现上述目的，本发明提供一种TFT-IXD玻璃基板清洗方法，其包括如下步骤步骤I、提供超声波清洗机、玻璃基板输入传送机、及玻璃基板输出传送机，该超声波清洗机包括清洗槽、容纳于清洗槽内的清洗液、及设于清洗槽的数个第一超声波频率发生器与数个第二超声波频率发生器，该第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器的频率不同；
步骤2、玻璃基板输入传送机传送待清洗的玻璃基板进入清洗槽；步骤3、待清洗的玻璃基板浸没在清洗槽的清洗液内；步骤4、该第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器产生的不同频率超声波施加给清洗液对玻璃基板进行超声波清洗；步骤5、玻璃基板输出传送机将清洗过的玻璃基板从清洗槽运送出来。该清洗槽的相对两侧壁分别设有该数个第一超声波频率发生器与数个第二超声波频率发生器，清洗槽的该相对两侧壁与传送玻璃基板的方向平行。该数个第一超声波频率发生器与数个第二超声波频率发生器分别排成列，且依次间隔设置在清洗槽的相对两侧壁。该第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器的频率分别为40KHz与 120KHZ，相邻的第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器之间的间距为25-50cm。该第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器的频率分别为68KHz与 170KHZ，相邻的第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器之间的间距为15-40cm。所述步骤3中，玻璃基板对应于所述清洗槽的相对两侧壁倾斜置于清洗槽内，且该玻璃基板与水平面之间的夹角为30-45°。所述清洗液为去离子水。本发明的有益效果本发明所提供的TFT-LCD玻璃基板清洗方法，其在同一清洗槽设置不同频率的超声波频率发生器，每个频率波段的超声波频率发生器对应一定范围粒径的颗粒进行清洗，不需更换清洗槽，缩短清洗制程时间，节约了成本，且TFT-LCD玻璃基板相对于该些超声波频率发生器倾斜设置，更有效的清除附着于TFT-LCD玻璃基板的颗粒。为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式
详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。附图中，图I为本发明TFT-IXD玻璃基板清洗方法的流程图；图2为本发明TFT-IXD玻璃基板清洗方法中各装置的位置关系示意图；图3为图2中清洗槽侧壁超声波频率发生器的局部分布示意图。
具体实施例方式为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图1，并结合图2至图3，本发明提供一种TFT-IXD玻璃基板清洗方法，其包括如下步骤步骤I、提供超声波清洗机、玻璃基板输入传送机(未图示)、及玻璃基板输出传送机(未图示)。
所述超声波清洗机包括清洗槽12、容纳于清洗槽12内的清洗液14及设于清洗槽 12的数个第一超声波频率发生器16与数个第二超声波频率发生器18。在本实施例中所采用的清洗液14为去离子水。所述第一超声波频率发生器16与第二超声波频率发生器18 的频率不同，清洗槽12的相对两侧壁122、124分别设有所述数个第一、第二超声波频率发生器16、18，清洗槽12的该相对两侧壁122、124与传送玻璃基板20的方向平行。其中，数个第一超声波频率发生器16与第二超声波频率发生器18分别排成列，且依次间隔设置在清洗槽12的与玻璃基板20的传送方向平行的相对两侧壁122、124上，相邻的第一、第二超声波频率发生器16、18之间的间距设为15-50cm。步骤2、玻璃基板输入传送机传送待清洗的玻璃基板20进入清洗槽12内。所述的玻璃基板20为TFT-IXD玻璃基板。步骤3、待清洗的玻璃基板20浸没在清洗槽12的清洗液14内。其中，待清洗的玻璃基板20对应于所述清洗槽12的相对两侧壁倾斜设置于清洗槽12内，也就是待清洗的玻璃基板20相对第一、第二超声波频率发生器16、18倾斜置于清洗槽12内，该玻璃基板20 与水平面之间的夹角α为30-45°。所述待清洗的玻璃基板20具有相对的待清洗面22、 24，待清洗面22、24分别对应清洗槽12的相对两侧壁122、124倾斜设置，从而使得附着于玻璃基板20待清洗面22、24上的颗粒在垂直于玻璃基板20方向上与超声波发生方向呈一定角度，有利于超声空蚀作用，从而提高洗净度。步骤4、该第一、第二超声波频率发生器16、18产生的不同频率超声波施加给清洗液14对玻璃基板20进行超声波清洗。该第一与第二超声波频率发生器16、18的频率可分别为40ΚΗζ与120ΚΗζ，相邻的第一超声波频率发生器16与第二超声波频率发生器18之间的间距优选为25-50cm。该第一、第二超声波频率发生器16、18分别发生40KHz与120KHz 频率的超声波施加给清洗液14对玻璃基板20进行超声波清洗，其中，40KHz频率的超声波主要针对于粒径为2. 2-2. 5um的颗粒进行清除，120KHz频率的超声波主要针对于粒径为I. 4-1. Sum的颗粒进行清除。该第一、第二超声波频率发生器16、18还可以分别选用频率为68KHz与170KHz的超声波频率发生器，相邻的第一超声波频率发生器16与第二超声波频率发生器18之间的间距优选为15-40cm，其中68KHz频率的超声波主要用于对粒径为
2.0-2. 2um的颗粒进行清除，170KHz频率的超声波主要用于对粒径为I. 0-1. 2um的颗粒进行清除。通过不同频率的超声波对不同粒径的颗粒进行针对性清除，增强了洗净效果。步骤5、玻璃基板输出传送机将清洗过的玻璃基板20从清洗槽12运送出来。综上所述，本发明所提供的TFT-LCD玻璃基板清洗方法，其在同一清洗槽设置不同频率的超声波频率发生器，每个频率波段的超声波频率发生器对应一定范围粒径的颗粒进行清洗，不需更换清洗槽，缩短清洗制程时间，节约了成本，且TFT-LCD玻璃基板相对于该些超声波频率发生器倾斜设置，更有效的清除附着于TFT-IXD玻璃基板的颗粒。以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
权利要求
1.一种TFT-IXD玻璃基板清洗方法，其特征在于，包括如下步骤步骤I、提供超声波清洗机、玻璃基板输入传送机、及玻璃基板输出传送机，该超声波清洗机包括清洗槽、容纳于清洗槽内的清洗液、及设于清洗槽的数个第一超声波频率发生器与数个第二超声波频率发生器，该第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器的频率不同；步骤2、玻璃基板输入传送机传送待清洗的玻璃基板进入清洗槽；步骤3、待清洗的玻璃基板浸没在清洗槽的清洗液内；步骤4、该第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器产生的不同频率超声波施加给清洗液对玻璃基板进行超声波清洗；步骤5、玻璃基板输出传送机将清洗过的玻璃基板从清洗槽运送出来。
2.如权利要求I所述的TFT-LCD玻璃基板清洗方法，其特征在于，该清洗槽的相对两侧壁分别设有该数个第一超声波频率发生器与数个第二超声波频率发生器，清洗槽的该相对两侧壁与传送玻璃基板的方向平行。
3.如权利要求2所述的TFT-LCD玻璃基板清洗方法，其特征在于，该数个第一超声波频率发生器与数个第二超声波频率发生器分别排成列，且依次间隔设置在清洗槽的相对两侧壁。
4.如权利要求3所述的TFT-LCD玻璃基板清洗方法，其特征在于，该第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器的频率分别为40KHz与120KHz，相邻的第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器之间的间距为25-50cm。
5.如权利要求3所述的TFT-LCD玻璃基板清洗方法，其特征在于，该第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器的频率分别为68KHz与170KHz，相邻的第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器之间的间距为15-40cm。
6.如权利要求2所述的TFT-LCD玻璃基板清洗方法，其特征在于，所述步骤3中，玻璃基板对应于所述清洗槽的相对两侧壁倾斜置于清洗槽内，且该玻璃基板与水平面之间的夹角为 30-45°。
7.如权利要求I所述的TFT-LCD玻璃基板清洗方法，其特征在于，所述清洗液为去离子水。
全文摘要
本发明提供一种TFT-LCD玻璃基板清洗方法，其包括如下步骤步骤1、提供超声波清洗机、玻璃基板输入传送机、及玻璃基板输出传送机，该超声波清洗机包括清洗槽、容纳于清洗槽内的清洗液、及设于清洗槽的数个第一超声波频率发生器与数个第二超声波频率发生器，该第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器的频率不同；步骤2、玻璃基板输入传送机传送待清洗的玻璃基板进入清洗槽；步骤3、待清洗的玻璃基板浸没在清洗槽的清洗液内；步骤4、该第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器产生的不同频率超声波施加给清洗液对玻璃基板进行超声波清洗；步骤5、玻璃基板输出传送机将清洗过的玻璃基板从清洗槽运送出来。
文档编号B08B3/12GK102601074SQ20121007289
公开日2012年7月25日 申请日期2012年3月19日 优先权日2012年3月19日
发明者寇浩 申请人:深圳市华星光电技术有限公司