膜形成装置及膜形成方法

专利名称：膜形成装置及膜形成方法
技术领域：
本发明涉及一种膜形成装置及膜形成方法，尤其是涉及一种在太阳能电池板的受光面形成抗反射膜的膜形成装置及膜形成方法。
背景技术：
太阳能电池具有积层着η型硅与P型硅而成的半导体构造，如果对该半导体照射特定波长的光，那么因光电效应而产生电。该太阳能电池为了高效地吸收太阳光等光，通常以抗反射膜覆盖其板(称为太阳能电池板)的受光面。以往，作为在太阳能电池板上形成抗反射膜的方法，例如，如专利文献I所揭示，已知利用等离子CVD (Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)法而在所述板上形成含有氢的氮化硅膜的技术等。[背景技术文献][专利文献][专利文献I]日本专利特开2005-340358号公报

发明内容
[发明要解决的问题]然而，在利用等离子CVD法形成抗反射膜的情况下，需要真空排气设备等，而导致设备成为大规模，因此，存在成本增大的课题。

作为解决所述课题的方法，存在以下方法，S卩，通过对太阳能电池板涂布特定的涂布液，且煅烧涂布膜，而形成抗反射膜。根据该方法，即便不是真空环境，也可在板上形成抗反射膜，从而可降低成本。作为通过所述涂布膜形成而在板上形成抗反射膜的装置，本申请案申请人以往一直使用如图11所示的布局构成的膜形成装置50。在图11的膜形成装置50中，首先利用载入器(loader) 51，将作为被处理基板的例如长方形的玻璃基板G每I片地供给至旋转送入装置52。旋转送入装置52(例如以短边侧成为前后方向的方式)改变由载入器51供给的玻璃基板G的朝向，且将玻璃基板G搬入至擦洗单元53。利用刷洗对搬入至擦洗单元53的玻璃基板G进行清洗处理，之后，实施利用具有加热器的干燥单元54而使残留在基板面的清洗液干燥的处理。其次，利用搬送机器人55而将玻璃基板G搬入至涂布处理单元56，在该涂布处理单元56中，通过具有沿基板宽度方向延伸的狭缝状的喷嘴口的喷嘴56a在基板G的被处理面上进行扫描，而在所述被处理面上涂布形成抗反射膜用的涂布膜。利用搬送机器人57，将形成着涂布膜的玻璃基板G从涂布处理单元56中搬出，并且搬入至减压干燥单元58。在减压干燥单元58中，玻璃基板G收纳在腔室(未图示)内，通过使所述腔室内减压至特定压力，而除去大部分溶剂。实施减压干燥处理后的玻璃基板G由搬送机器人59取出并交付给路径单元60，利用输送机搬送而被搬入至热处理单元61。在热处理单元61中，例如一面对玻璃基板G进行辊搬送，一面利用加热器(未图示)将玻璃基板G加热至特定温度，来煅烧被处理面上的涂布膜，从而形成抗反射膜。而且，如果将玻璃基板G搬出热处理单元，那么立即利用冷却单元62将其冷却至特定温度，利用输送机搬送而将其交付给旋转送入装置63，利用旋转送入装置63而使玻璃基板G返回至载入器51。然而，在图11所示的膜形成装置50中，当实施所述一系列的处理时，需要3台搬送机器人，其结果，存在占地面积(footprint)增大、且处理线的全长变长的课题。而且，由于处理线的全长变长，且在涂布处理单元56及减压干燥单元58中，必须由搬送机器人55、57、59每I片地进行玻璃基板G的搬入搬出操作，所以节拍时间(TactTime)变长，而存在生产率降低的课题。此外，以往当在热处理单元61中煅烧基板G上的涂布膜时，干燥从涂布膜的表面开始进行，而存在膜内部的煅烧不完全、或用来使膜整体完全煅烧所需的热处理单元的长度变长的课题。本发明是鉴于如上所述的背景技术的问题而完成的，其提供一种在对太阳能电池板的受光面形成抗反射膜的膜形成装置中可缩小装置的占地面积并且缩短处理线的长度、且可实现装置成本的降低及生产率的提升的膜形成装置及膜形成方法。[解决问题的技术手段]为了解决所述课题，本发明`的膜形成装置通过对构成太阳能电池板的被处理基板涂布特定的涂布液，且煅烧所形成的涂布膜，而形成抗反射膜，该膜形成装置的特征在于包括涂布处理机构，沿水平方向搬送所述被处理基板，并且从具有在所述基板的宽度方向上较长的喷出口的喷嘴喷出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；第I加热处理机构，在第I加热温度下加热形成着所述涂布膜的所述基板；及第2加热处理机构，在高于所述第I加热温度的第2加热温度下加热由所述第I加热处理机构加热过的所述基板。另外，较为理想的是包括干燥缓冲机构，收纳利用所述涂布处理机构而形成着涂布膜的被处理基板，并且通过对所述涂布膜喷附特定的气流，而促进涂布膜中的溶剂的蒸发；且依序由所述第I加热处理机构及所述第2加热处理机构对利用所述干燥缓冲机构而使涂布膜中的溶剂蒸发的所述基板进行加热处理。而且，优选所述干燥缓冲机构包括缓冲部，上下多段地设置着可收纳被处理基板的架部；及气流形成机构，从所述缓冲部的一侧面侧朝对向的另一侧面侧形成特定的气流。如此，通过在对被处理基板形成涂布膜时，一面平流搬送所述基板一面进行涂布处理，可省略像以往那样利用搬送机器人对涂布处理单元进行的基板搬入搬出操作。而且，为了使涂布膜中的溶剂蒸发，而设为在暂时收纳基板的缓冲部喷附特定的气流的构成，因此，可省略现有的减压干燥处理。S卩，由于搬送机器人的数量减少，且不需要像减压干燥单元那样的大型的装置，所以，可缩小占地面积，且降低成本，并且可缩短节拍时间，而提升生产率。此外，为了煅烧基板上的涂布膜，而设为进行第I加热温度、及更高的第2加热温度的两个阶段的加热处理的构成，因此，可完全煅烧至涂布膜内部，而不会不完全煅烧。而且，较为理想的是在所述第I加热处理机构及所述第2加热处理机构中，分别上下多段地设置着可平流搬送被处理基板的处理架，且一面将搬入至所述各处理架的所述基板从所述第I加热处理机构沿水平方向搬送至所述第2加热处理机构，一面依序对所述基板实施加热处理。通过以如上方式构成，可对多个被处理基板同时进行煅烧处理，而可使生产率提升。而且，为了解决所述课题，本发明的膜形成方法通过对构成太阳能电池板的被处理基板涂布特定的涂布液，且煅烧所形成的涂布膜，而形成抗反射膜，且该膜形成方法的特征在于包括以下步骤沿水平方向搬送所述被处理基板，并且从具有在所述基板的宽度方向上较长的喷出口的喷嘴喷出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；在第I加热温度下加热形成着所述涂布膜的所述基板；及在高于所述第I加热温度的第2加热温度下加热在所述第I加热温度下经过加热处理的所述基板。

通过实施如上步骤，而减少搬送机器人的数量，且不需要像减压干燥单元那样的大型的装置，因此可缩小占地面积，且降低成本，并且可缩短节拍时间，且提升生产率。此外，为了煅烧基板上的涂布膜，而设为进行第I加热温度、及更高的第2加热温度的两个阶段的加热处理的构成，因此，可完全煅烧至涂布膜内部，而不会不完全煅烧。而且，较为理想的是在所述被处理基板上形成涂布膜的步骤、与在第I加热温度下加热所述基板的步骤之间包括以下步骤收纳形成着所述涂布膜的被处理基板，并且通过对所述涂布膜喷附特定的气流，而促进涂布膜中的溶剂的蒸发。如此，通过在第I加热处理之前，通过喷附特定的气流来进行涂布膜中的溶剂的蒸发促进处理，可在更短的时间内进行完全的煅烧处理。[发明的效果]根据本发明，可获得一种在对太阳能电池板的受光面形成抗反射膜的膜形成装置中可缩小装置的占地面积并且缩短处理线的长度、且可实现装置成本的降低及生产率的提升的膜形成装置及膜形成方法。


图1是表示本发明的膜形成装置的第I实施方式的布局构成的方块图。图2是图1的膜形成装置所包括的干燥缓冲单元的平面图。图3是图2的干燥缓冲单元的C-C向视剖视图。图4是表示图1的膜形成装置所包括的预烘烤单元、烘烤单元、及冷却单元的概略构成的剖视图。图5是表示图4的预烘烤单元及烘烤单元所包括的处理架的概略构成的剖视图。图6是表示图4的冷却单元所包括的处理架的概略构成的剖视图。图7是表示图1的膜形成装置的动作的流程的流程图。图8是表示本发明的膜形成装置的第2实施方式的布局构成的方块图。图9是表示本发明的膜形成装置的第3实施方式的布局构成的方块图。图10是表示图9所示的第3实施方式的变形例的方块图。
图11是表示现有的膜形成装置的布局构成的方块图。[符号的说明]I制程台2载入器3旋转送入装置4擦洗单元5干燥处理单元6涂布处理单元(涂布处理机构)7干燥缓冲单元(干燥缓冲机构)8搬送机器人9搬送机器人10升运器 11预烘烤单元(第I加热处理机构)12烘烤单元(第2加热处理机构)13冷却单元14升运器15旋转送入装置16罩壳(缓冲部)16a架部17支撑棒18气体喷出部(气流形成机构)19气体抽吸部(气流形成机构)20输送机装置21路径单元22处理架23处理架24搬送辊25加热器26处理架27冷却板31干燥缓冲部(干燥缓冲机构)100膜形成装置101膜形成装置102膜形成装置G玻璃基板(被处理基板)
具体实施例方式以下，根据图对本发明的实施方式进行说明。图1是表示本发明的膜形成装置的第I实施方式的布局构成的方块图。
该膜形成装置100设置在无尘室中，且以太阳能电池板用的例如玻璃基板(称为基板G)为被处理基板，而进行用来在基板上形成抗反射膜的一系列的处理。在膜形成装置100中配置着横向较长的制程台I，且在制程台I的长度方向(X方向)的一端部配置着载入器2。载入器2包括多个以多层堆叠的方式收纳多片基板G的盒子(cassette)(未图示)，且是将基板G搬入搬出各盒子的端口。在沿制程台I的长度方向(X方向)延伸的平行且反向的一对线A、B上按照步骤顺序配置各处理。具体来说，线A上配置着旋转送入装置3，从载入器2接收基板G ;擦洗单元4，进行基板清洗；干燥处理单元5，用来除去基板清洗液；及涂布处理单元6 (涂布处理机构)，对基板G涂布用来形成抗反射膜的特定的涂布膜。而且，在载入器2的相反侧的端部、且线A、B之间，设置着促进所述涂布膜中的溶剂的蒸发的干燥缓冲单元7 (干燥缓冲机构)，在干燥缓冲单元7的前后分别配备着搬送机器人8、9。而且，在线B上配置着升运器(lift conveyer) 10，使基板G升降移动至特定高度，并且搬送基板G ;预烘烤单元11 (第I加热处理机构)，构成为多段，且在各段一面搬送基板G —面进行第I加热处理；及烘烤单元12 (第2加热处理机构)，接着进行第2加热处理。此外，在烘烤单元12的后段配置着冷却单元13，同样构成为多段，且将基板G冷却至特定温度；升运器14，接收 升降移动至特定高度且经冷却单元13冷却的基板G，并交付给后段；及旋转送入装置15，使从升运器14接收的基板G朝特定方向旋转而返回至载入器2。另外，在所述各单元间视需要而配备着用于基板搬送的输送机装置20及路径单元21。所述涂布处理单元6包括辊搬送部6a，用来接着在使处理面水平的状态下沿水平方向搬送利用输送机搬送而被搬入的基板G(以下记作平流搬送)；及喷嘴6b，针对由辊搬送部6a平流搬送的基板G，从在基板宽度方向上较长的狭缝状的喷出口(未图示)对基板面喷出特定的涂布液。S卩，构成为从由辊搬送部6a平流搬送的基板G的前端侧至后端侧相对地扫描喷嘴6b,而在基板面将涂布液以特定的I吴厚涂布。而且，如图2(平面图)及图3(图2的C-C向视剖视图)示意性地所示那样，干燥缓冲单元7包括上下多段(图中为8段)地设置着可收纳基板的架部16a的罩壳(casing) 16 (缓冲部)，可将基板G收纳在各段中。各基板G在各段中载置在多个并列配置的支撑棒17上。所述罩壳16的分别临向搬送机器人8、9的一侧开口，机械臂(未图示)经由该开口而进退，从而可对所需的段进行基板G的搬入搬出。而且，在所述罩壳16的左右两侧的面上设置着例如与基板面平行地形成的狭缝、或多个连通孔(未图示)。而且，在一侧面设置着以特定速度喷出特定温度的惰性气体的气体喷出部18，在另一侧面设置着抽吸从所述气体喷出部18喷出的惰性气体的气体抽吸部19。如此,通过在一面设置气体喷出部18，在另一面设置气体抽吸部19，而在气体喷出部18与气体抽吸部19之间形成稳定流速的气流(即，利用气体喷出部18、气体抽吸部19来构成气流形成机构)。另外，更优选的是在所述罩壳16的一侧面侧、及与该一侧面侧对向的另一侧面侧均设置气体喷出部18及气体抽吸部19，且例如每隔特定时间便切换形成的气流的方向。通过以如上方式构成，可对载置在各段的基板G上的涂布膜更均匀地喷附气流。而且，利用所述气体喷出部18及气体抽吸部19形成的气流的温度越接近周围的环境温度(室温，例如25°C)越好，由此，可防止涂布膜表面的急剧的干燥，而可从涂布膜内部有效地使溶剂蒸发。而且，如图4示意性地所示那样，在依序配置在升运器10、14之间的预烘烤单元11、烘烤单元12、及冷却单元13中，分别沿上下方向多段(图中为4段)地设置着可平流搬送基板G的处理架。 预烘烤单元11中，沿基板前进方向配置着两列单元I la、I lb,前段的单元I Ia在第I加热温度(例如100°c 150°C )下加热基板G，直至基板温度成为特定温度为止，后段的单元Ilb维持升温后的基板的温度。此处，在将基板G的处理温度例如设为100°C的情况下，将后段的单元Ilb设定为100°C。而且，将前段的单元Ila设定为高于100°C的150°C，以使基板G在短时间内达到100°C。而且，烘烤单元12中，沿基板前进方向配置着4列单元12a、12b、12c、12d。最前端的单元12a 进一步在第2加热温度(例如200°C 300°C )下加热基板G，直至基板温度成为特定温度为止。而且，后段的单元12b、12c、12d是为了维持升温后的基板的温度、且完全煅烧涂布膜而设。此处，在将基板G的处理温度设为例如250°C的情况下，将后段的单元12b、12c、12d设定为250°C。而且，将最前端的单元12a设定为高于250°C的300°C，以使基板G在短时间内达到250°C。如图5所示，预烘烤单元11中的单元I la、12b的各处理架22、及烘烤单元12中的单元12a 12d的各处理架23例如是设为可利用搬送辊24搬送基板G的构造。在各处理架22、23的沿着基板搬送方向的前表面及后表面设置着基板G可通过的开口 22a、23a及开口 22b、23b。由此，在预烘烤单元11的单元Ila中，可从升运器10将基板G搬入至各处理架22。而且，可利用辊搬送将基板G搬入搬出其他各处理架22、23。而且，构成为在基板G的上方及下方配备多个在基板宽度方向上较长的带状的加热器25，且利用该加热器25的热来加热辊搬送的基板G。另外，构成为加热器25的驱动控制至少可在预烘烤单元11与烘烤单元12中独立地进行。冷却单元13是为了将在烘烤单元12中经加热的基板G冷却至特定温度(例如50°C以下)而设。如图6所示，在冷却单元13的各处理架26的沿着基板搬送方向的前表面及后表面设置着基板G可通过的开口 26a及开口 26b。而且，在各处理架26中与预烘烤单元11及烘烤单元12同样地包括多个搬送辊24。根据该构成，可直接接收从烘烤单元12利用辊搬送而来的基板G。而且，可利用升运器14将基板G从各处理架26搬出。而且，在各处理架26中，在基板G的上方及下方设置着冷却板27。构成为在该冷却板27上形成着多个空气喷出孔27a，且将从那些空气喷出孔27a喷出的特定温度的空气喷附至基板G的上下表面。
接着，按照图7的流程对利用该膜形成装置100对基板G形成抗反射膜的一系列的动作进行说明。首先，从载入器2接收到长方形状的基板G的旋转送入装置3以基板G的长边侧成为前后方向的方式使基板G旋转，且将基板G搬入至擦洗单元4。另外，如此将基板G的长边侧设为前后方向的目的在于缩短处理线的全长。在擦洗单元4中，一面在水平状态下搬送基板G—面利用清洗刷(未图示)擦洗基板G，而除去附着在基板表面的灰尘等(图7的步骤SI)。将经擦洗的基板G平流搬入至干燥单元5中，利用加热器而干燥残留在基板表面的清洗液(图7的步骤S2)。基板G经输送机搬送而被搬入至涂布处理单元6中，在涂布处理单元6中利用辊搬送而通过喷嘴6b的下方。此时，从喷嘴6b将用来形成抗反射膜的特定的涂布液喷出至基板G上，而在基板G的上表面(被处理面)形成特定厚度的涂布膜(图7的步骤S3)。如此，在涂布处理单元6中，一面搬送基板G —面进行涂布液的涂布，因此，不需要像以往(图11)那样的用来搬入基板的搬送机器人，而且，节拍时间缩短。利用输送机搬送等将形成着涂布膜的基板G交付给搬送机器人8，且搬入至干燥缓冲单元7暂时进行收纳。在该干燥缓冲单元7中，如图3所示，收纳着多个基板G，例如在基板G的上下表面形成与周围的环境温度大致相等的温度的气流。由此，高效地促进形成在基板G上的涂布膜中的溶剂的蒸发(图7的步骤S4)。为了进行溶剂蒸发而收纳在干燥缓冲单元7中特定时间的基板G由搬送机器人9取出，经由路径单元21而被交付给升运器10。升运器10将基板G搬入至预烘烤单元11中的单元Ila的处理架22上。另外，如图4所示，由于预烘烤单元11构成为多`段(图中为4段)，所以升运器10从干燥缓冲单元7陆续地接收基板G，且不间隔时间地将基板G搬入至空的处理架22上。在预烘烤单元11中，在单元Ila中在第I加热温度(例如100°C 150°C )下加热基板G，直至基板温度成为特定温度，在后段的单元I Ib中，维持升温后的基板的温度(图7的步骤S5)。由此，不是从基板G上的涂布膜的表面开始进行煅烧，而是从涂布膜内部开始进行煅烧。如果将经辊搬送的基板G从预烘烤单元11搬入至烘烤单元12，那么首先在单元12a中，在高于所述第I加热温度的第2加热温度(例如200°C 300°C)下加热基板G，而使基板G升温至特定温度。而且，在搬送至单元12b 12d的期间，维持所述加热温度，完全煅烧基板G上的涂布膜，而形成抗反射膜(图7的步骤S6)。另外，如果将基板G从烘烤单元12搬入至冷却单元13，那么将基板G冷却至特定温度(例如50°C以下)，且由升运器14取出(图7的步骤S7)。而且，将基板G从升运器14交付给旋转送入装置15，以基板G的短边成为基板搬送方向的前后的方式使基板G旋转，从而基板G返回至载入器2。如上所述，根据本发明的膜形成装置的第I实施方式，在对基板G形成涂布膜时，通过一面平流搬送基板G—面进行涂布处理，可省略像以往那样利用搬送机器人对涂布处理单元进行的基板G的搬入搬出操作。而且，为了使涂布膜中的溶剂蒸发，而设为在暂时收纳基板G的缓冲部喷附特定的气流的构成，因此，可省略现有的减压干燥处理。S卩，由于搬送机器人的数量减少，且不需要像减压干燥单元那样的大型的装置，所以可缩小占地面积，且降低成本，并且可缩短节拍时间，且提升生产率。此外，为了煅烧基板G上的涂布膜，而设为进行第I加热温度、及更高的第2加热温度的两个阶段的加热处理的构成，因此，可完全煅烧至涂布膜内部，而不会不完全煅烧。接着，对本发明的膜形成装置的第2实施方式进行说明。图8是表示该第2实施方式中的膜形成装置的布局构成的方块图。另外，图8所示的膜形成装置101与在所述第I实施方式中图1所示的膜形成装置100只有一部分布局构成不同，因此，以相同的符号表示具有相同功能的每个单元等，并省略其详细的说明。与第I实施方式同样地，在沿制程台I的长度方向(X方向)延伸的平行且反向的一对线A、B上按照步骤顺序配置各处理。与图1同样地，在线A上依序配置着旋转送入装置3、擦洗单元4、干燥处理单元5、及涂布膜形成单元6。而且，在线A上，在涂布膜形成单元6的下游侧配置着升降机缓冲单元30。该升降机缓冲单元30包括构成为多段且可升降移动的干燥缓冲部31、及配置在干燥缓冲部31前后的辅助输送机机构32。干燥缓冲部31的各段包括可搬送基板G的输送机机构(未图示)。而且，辅助输送机机构32构成为固定在前后单元的基板搬送路的高度位置，且如果干燥缓冲部31升降移动而使特定的段与辅助输送机机构32的高度吻合，那么可利用输送机搬送对该段进行基板G的搬入搬出。而且，与图1所示的干燥缓冲单元7同样地，干燥缓冲部31构成为在其左右侧面设置着空气喷出部18及空气抽吸部19，且对收纳在各段的基板G喷附特定的气流。而且，在线A上，在升降机缓冲单元30的下游侧配置着横向输送机(crossconveyor)33。该横向输送机33将以长边侧为前后方向被搬入的基板G以使其短边侧为前后方向的方式搬出。另一方面，在线B中配置着将以短边侧为前后方向被搬入的基板G以使其长边侧为前后方向的方式搬出的横向输送机34、升运器10、预烘烤单元11、烘烤单元12、冷却单元13、升运器14、及旋转送入装置15。根据该膜形成装置101，通过在涂布膜形成单元6的下游设置升降机缓冲单元30，可省略所有对缓冲部进行基板G的搬入搬出的搬送机器人。即，根据该第2实施方式，通过省略所有搬送机器人，可进一步缩小占地面积，且可降低成本。接着，对本发明的膜形成装置的 第3实施方式进行说明。图9是表示该第3实施方式中的膜形成装置的布局构成的方块图。另外，图9所示的膜形成装置102与在所述第I实施方式中图1所示的膜形成装置100只有一部分布局构成不同，因此，以相同的符号表示具有相同功能的每个单元等，并省略其详细的说明。与第I实施方式同样地，在沿制程台I的长度方向(X方向)延伸的平行且反向的一对线A、B上按照步骤顺序配置各处理。
与图1同样地，在线A上依序配置着旋转送入装置3、擦洗单元4、干燥处理单元5、及涂布膜形成单元6。而且，在线A上，在涂布膜形成单元6的下游设置着旋转送入装置35、搬送机器人36、及干燥缓冲单元7。旋转送入装置35将以长边侧为前后方向被搬入的基板G旋转，而使短边侧为前后方向。搬送机器人36接收所述旋转后的基板G，且将基板G搬入至干燥缓冲单元7，或从干燥缓冲单元7接收基板G，且将基板G交付给线B侧的路径单元21。另一方面，在线B上，在所述路径单元21的下游侧配置着升运器10、预烘烤单元11、烘烤单元12、冷却单元13、升运器14、及旋转送入装置15。根据以如上方式构成的膜形成装置102，可利用I台搬送机器人36对干燥缓冲单元7进行基板G的搬入搬出。S卩，根据该第3实施方式，与第I实施方式的构成(图1)相比，可进一步减少搬送机器人的数量，可缩小占地面积，且可降低成本。另外，图10表示第3实施方式的变形例。图10的布局是将图9的搬送机器人36及干燥缓冲单元7配置在线B侧。在该情况下，可进一步减少路径单元21、输送机装置20等，可进一步缩小占地面积，且可缩短处理线的长度。另外，在所述第I至第3实施方式中，为了缩短处理线的长度，而使基板G的长边侧为前后方向，但并不限于此，使基板G的短边侧为前后方向而构成所对应的各单元也可充分获得本发明的效果。而且，在干燥缓冲单元7中设置着气体喷出部18，也可不设置气体喷出部18，而在干燥缓冲单元7上装上抽吸周围的环境而形成降流(down flow)的风扇过滤单元(FFU，FanFilter Units)。而且，也可设为如下构成，即，将由FFU形成的降流供给至干燥缓冲单元7内，从气体抽吸部19抽 吸干燥缓冲单元7内的环境气体。而且，也可构成为在干燥缓冲单元7中包括气体喷出部18、气体抽吸部19、风扇过滤单元中的任一者。
权利要求
1.ー种膜形成装置，其通过对构成太阳能电池板的被处理基板涂布特定的涂布液，且煅烧所形成的涂布膜，而形成抗反射膜，该膜形成装置的特征在于包括 涂布处理机构，沿水平方向搬送所述被处理基板，并且从具有在所述基板的宽度方向上较长的喷出口的喷嘴喷出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜； 第I加热处理机构，在第I加热温度下加热形成着所述涂布膜的所述基板；及 第2加热处理机构，在高于所述第I加热温度的第2加热温度下加热由所述第I加热处理机构加热过的所述基板。
2.根据权利要求1所述的膜形成装置，其特征在于包括 干燥缓冲机构，收纳利用所述涂布处理机构而形成着涂布膜的被处理基板，并且通过对所述涂布膜喷附特定的气流，而促进涂布膜中的溶剂的蒸发；且 依序由所述第I加热处理机构及所述第2加热处理机构对利用所述干燥缓冲机构而使涂布膜中的溶剂蒸发的所述基板进行加热处理。
3.根据权利要求2所述的膜形成装置，其特征在干 所述干燥缓冲机构包括缓冲部，上下多段地设置着可收纳被处理基板的架部；及气流形成机构，从所述缓冲部的一侧面侧朝对向的另ー侧面侧形成特定的气流。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的膜形成装置，其特征在于 在所述第I加热处理机构及所述第2加热处理机构中，分别上下多段地设置着可平流搬送被处理基板的处理架，且 一面将搬入至所述各处理架的所述基板从所述第I加热处理机构沿水平方向搬送至所述第2加热处理机构，一面依序对所述基板实施加热处理。
5.ー种膜形成方法，其通过对构成太阳能电池板的被处理基板涂布特定的涂布液，且煅烧所形成的涂布膜，而形成抗反射膜，且该膜形成方法的特征在于包括以下步骤 沿水平方向搬送所述被处理基板，并且从具有在所述基板的宽度方向上较长的喷出口的喷嘴喷出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜； 在第I加热温度下加热形成着所述涂布膜的所述基板；及 在高于所述第I加热温度的第2加热温度下加热在所述第I加热温度下经过加热处理的所述基板。
6.根据权利要求5所述的膜形成方法，其特征在于 在所述被处理基板上形成涂布膜的步骤、与在第I加热温度下加热所述基板的步骤之间包括以下步骤 收纳形成着所述涂布膜的被处理基板，并且通过对所述涂布膜喷附特定的气流，而促进涂布膜中的溶剂的蒸发。
全文摘要
本申请的发明涉及一种膜形成装置及膜形成方法。其目的在于缩小占地面积并且缩短处理线的长度、且实现装置成本的降低及生产率的提升。本发明的膜形成装置包括涂布处理机构(6)，沿水平方向搬送被处理基板(G)，并且从具有在所述基板的宽度方向上较长的喷出口的喷嘴喷出所述涂布液，而在所述基板上形成涂布膜；第1加热处理机构(11)，在第1加热温度下加热形成着所述涂布膜的所述基板；及第2加热处理机构(12)，在高于所述第1加热温度的第2加热温度下加热由所述第1加热处理机构加热过的所述基板。
文档编号C03C17/00GK103043915SQ201210379859
公开日2013年4月17日 申请日期2012年10月9日 优先权日2011年10月12日
发明者坂井　光广, 川口　义广 申请人:东京毅力科创株式会社