转印箔的制作方法

转印箔的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种转印箔，其特征在于，是在基材上依次层叠有转印层、中间层和功能层的转印箔，上述中间层含有具有酰胺键的树脂和氨基树脂。
【专利说明】转印箔

【技术领域】
[0001] 本发明涉及转印箔，详细而言，涉及在转印层与功能层之间形成有中间层、该中间 层含有特定的化合物的转印箔。
[0002] 本申请基于2012年6月5日在日本申请的特愿2012-128415号主张优先权，并将 其内容援引于此。

【背景技术】
[0003] 将在基材上设置有具有图案、耐擦伤性、抗静电性等特性的层的转印箔通过真空 转印法或模内转印法转印到塑料制品、金属制品的立体形状的表面，实施图样印刷或者赋 予各种特性。
[0004] 由于作为要转印转印箔的被转印物的塑料制品等具有立体的深拉伸形状，所以对 转印箔也要求能够追随那样的形状的柔软性。
[0005] 转印箔具有在基材上层叠有剥离层或者脱模层、转印层、粘接层等的结构，该转印 层由图案层等印刷层、用于表面保护的硬涂层等构成（例如，参照专利文献1和2)。作为构 成各层的组合物，已知各种组合物，例如，作为构成硬涂层的组合物，已知聚硅氧烷系的有 机无机复合体（例如，参照专利文献3)。
[0006] 另外，像专利文献1?3记载的那样，这种转印箔通常在基材上涂布构成各层的组 合物的溶液并使其干燥，重复该操作而形成。
[0007] 现有技术文献
[0008] 专利文献
[0009] 专利文献1:日本专利第3996152号公报
[0010] 专利文献2:日本专利第3963555号公报
[0011] 专利文献3:国际公开第2009/004821号


【发明内容】

[0012] 然而，将形成某层的组合物的溶液涂布在正下方的层上时，有如下所谓的"溶剂攻 击"的问题，即该溶液中含有的溶剂使正下方的层中含有的组合物溶解或者溶胀，溶液的涂 布变得困难而无法进行该层的形成或者丧失正下方的层的功能的问题。
[0013] 该问题在含有以能够良好地追随塑料制品等成形品的深拉伸形状的程度具有柔 软性的组合物的转印箔的情况下也成为问题。这是因为这种具有柔软性的组合物没有完全 固化，所以容易被溶剂攻击。
[0014] 另外，除了上述问题之外，还出现不完全固化的具有柔软性的组合物在涂布后、卷 取时的卷膜中残留粘性，发生粘连（该涂膜与薄膜背面贴付）的问题。
[0015] 本发明的课题在于提供抑制溶剂攻击，进而也能够抑制粘连的转印箔。
[0016] 本发明人等为了解决上述的课题进行了深入研究，结果发现通过在容易受溶剂攻 击和粘连的影响的层（例如转印层）与在其上涂布含有该溶剂的溶液而形成的功能层（例 如粘接层）之间，设置含有特定的化合物的层，能够解决上述的课题，从而完成了本发明。
[0017] SP，本发明是
[0018] (1) 一种转印箔，是在基材上依次层叠有转印层、中间层和功能层的转印箔，上述 中间层含有具有酰胺键的树脂和氨基树脂。
[0019] (2)优选上述中间层中，上述具有酰胺键的树脂的至少一部分与上述氨基树脂的 至少一部分交联，
[0020] (3)优选上述中间层中，上述具有酰胺键的树脂与上述氨基树脂的含有比例以质 量比计为具有酰胺键的树脂：氨基树脂=90:10?60:40的范围，
[0021] (4)优选上述具有酰胺键的树脂为聚酰胺树脂，
[0022] (5)优选上述氨基树脂为三聚氰胺树脂或者其衍生物，
[0023] (6)优选上述功能层为粘接层，
[0024] (7)优选上述转印层是含有有机无机复合体、上述有机无机复合体含有半固化物 的层，该有机无机复合体含有a)下述式（1)表示的有机硅化合物和/或其缩合物、和b)紫 外线固化性化合物。
[0025] RnSiX4_n (1)
[0026] (式中，R表示碳原子与式中的Si直接键合的有机基团，X表示羟基或者水解性基 团。n表不1或者2，n为2时，2个R可以相同也可以不同，（4_n)为2以上时，多个X可以 相同也可以不同。）
[0027] (8)另外，优选上述中间层进一步含有酸性化合物。
[0028] 根据本发明的转印箔，在转印层与功能层之间设置上述中间层，由此能够有效地 抑制来自形成功能层时使用的溶液的溶剂攻击，而且能够使涂布后卷取时的卷膜的耐粘连 性变得良好。

【专利附图】

【附图说明】
[0029] 图1表示本发明的一个实施方式的转印箔的截面示意图。

【具体实施方式】
[0030] 以下，基于附图所示的实施方式说明本发明。
[0031] (转印箔 10)
[0032] 如图1所示，本发明的一个实施方式的转印箔10具有层叠结构，在基材2的一侧 的面上设有转印层4,在其上设有中间层6,进一步在其上设有作为功能层的粘接层8。在本 实施方式中，中间层6形成在转印层4与粘接层8之间。
[0033] (中间层6)
[0034] 在本实施方式中，中间层6含有具有酰胺键的树脂和氨基树脂。通过中间层6含 有上述的化合物，即便用于形成粘接层8的组合物溶液被涂布在中间层6上时，也能够阻挡 该溶液中含有的溶剂到达转印层4所含有的组合物。其结果，能够有效地抑制转印层4中 含有的组合物的溶解或者溶胀（溶剂攻击）。并且，转印层4与中间层6之间的层间粘接性 和中间层6与粘接层8之间的层间粘接性均得到良好地维持。
[0035] 在本实施方式中，优选具有酰胺键的树脂的至少一部分与氨基树脂的一部分交 联。中间层6中，由于上述化合物交联而固化，能够进一步提高阻挡溶剂的效果。具有酰胺 键的树脂与氨基树脂的交联结构例如通过伴随脱醇等的缩合反应来形成。
[0036] 作为具有酰胺键的树脂，没有特别限制，可以优选地例示聚酰胺树脂，更具体而 言，可以例示尼龙6、尼龙12等尼龙n，尼龙6, 6、尼龙6, 10等尼龙n，m等。另外，为了使与 氨基树脂的交联变得容易，具有酰胺键的树脂在不损害其特性的程度优选被改性。
[0037] 作为氨基树脂，没有特别限制，为了使与具有酰胺键的树脂的交联变得容易，例 如，可以例示三聚氰胺树脂、苯胺树脂、胍胺树脂、脲树脂等。
[0038] 中间层6中，具有酰胺键的树脂与氨基树脂的含有比例以质量比计优选为95:5? 50:50的范围，更优选为90:10?60:40的范围。通过使含有比例为上述的范围内，具有抑 制溶剂攻击和粘连的优点。
[0039] 中间层6可以进一步具有酸性化合物。在本实施方式中，该酸性化合物优选作为 用于具有酰胺键的树脂与氨基树脂交联的固化催化剂起作用。
[0040] 作为酸性化合物，具体而言，可以例示具有酸性基团的有机化合物、无机酸类，更 具体而言，可以例示乙酸、甲酸、草酸、柠檬酸、酒石酸、苯甲酸等羧酸类，对甲苯磺酸、十二 烷基苯磺酸、三氟甲磺酸、樟脑磺酸等磺酸类，盐酸，硝酸，硼酸，磷酸等，其中优选有机酸。 这样的酸性化合物可以单独使用1种或者组合2种以上使用。应予说明，使用有机化合物 作为酸性化合物时，干燥用于形成中间层6而涂布的溶液时，该有机化合物有时挥发。该有 机化合物全部挥发的情况下，在制成的转印箔10的中间层6不残存酸性化合物。
[0041] 中间层6中的酸性化合物的含量，只要是作为交联催化剂起作用的量，就没有特 别限制，在本实施方式中，相对于具有酰胺键的树脂和氨基树脂等的固体成分100质量％， 优选为5?15质量％。
[0042] 中间层6是通过将用上述的溶剂溶解上述的树脂等而成的溶液涂布在转印层4上 并干燥而形成的。作为形成中间层6时使用的溶液（中间层形成用组合物溶液）中含有的 溶剂，只要良好地溶解上述的树脂等，并且不使后述的转印层4中含有的组合物溶解或者 溶胀，就没有特别限制。在本实施方式中，例如，可举出醇类、多元醇衍生物类等溶剂。
[0043] 中间层6的厚度只要是能得到上述的效果的厚度，就没有特别限制，通常为0. 5? 2. 5iim左右。另外，中间层6可以由多个层构成。
[0044] (转印层4)
[0045] 转印层4是在从转印箔10剥离的同时密合于被转印物表面并固定于被转印物的 层。作为转印层4的作用，没有特别限定，可以根据被转印物的材质、用途等决定。在本实 施方式中，例示转印层4为作为被转印物的表面保护膜的硬涂层的情况。
[0046] 转印层4为硬涂层时，如果在转印箔被转印到被转印物前的时刻转印层固化，则 例如进行模内转印时，有时转印层4的形状不能充分追随成形体的深拉伸形状。因此，在本 实施方式中，在转印箔10被转印前，不使转印层4完全固化而为半固化的状态。接着，在转 印箔被转印于被转印物后，使转印层4完全固化，得到硬涂层。
[0047] 在本实施方式中，只要没有特别说明，转印层4意味着转印前的转印层。该转印层 4含有下述所示的有机无机复合体的半固化物。
[0048] 应予说明，"半固化"是指固化至无粘性、成形时追随模具而不产生裂纹的程度的 状态。另外，"固化"是指固化至用钢丝绒擦过不易带伤的程度的状态。并且，"有机无机复 合体的半固化物"是指有机无机复合体中的有机硅化合物和/或紫外线固化性化合物发生 部分缩合的化合物。缩合物主要是有机硅化合物的缩合物。
[0049] (有机无机复合体）
[0050] 在本实施方式中，有机无机复合体含有：
[0051] a)下述的式（1)表示的有机硅化合物和/或其缩合物，以及
[0052] RnSiX4_n (1)
[0053] (式中，R表示碳原子与式中的Si直接键合的有机基团，X表示羟基或者水解性基 团。n表示1或者2，n为2时，R可以相同也可以不同。另外，（4-n)为2以上时，X可以相 同也可以不同）
[0054] b)紫外线固化性化合物。
[0055] 上述有机无机复合体可以根据需要含有硅烷醇缩合催化剂。
[0056] 以下，对a)有机硅化合物、b)紫外线固化性化合物以及c)硅烷醇缩合催化剂进行 详细说明。应予说明，c)硅烷醇缩合催化剂为金属催化剂时，a)与c)彼此为非键合状态， 可以一方分散在另一方中，也可以彼此化学键合。这样的金属催化剂中有例如具有Si-O-M 键的催化剂（M表示硅烷醇缩合催化剂中的金属原子）、由其混合状态构成的催化剂。
[0057] a)有机硅化合物和/或其缩合物
[0058] 在本实施方式中，上述的式（1)表示的有机硅化合物中，R和X优选为下述所示的 基团。
[0059] R表示碳原子与上述的式（1)中的Si直接键合的有机基团。作为这样的有机基 团，可以举出可以具有取代基的烃基、或者由可以具有取代基的烃的聚合物构成的基团等。
[0060] 作为"可以具有取代基的烃基"的烃基，优选碳原子数1?30的烷基、链烯基、炔 基、芳基等，更优选碳原子数1?10的烷基、碳原子数2?10的链烯基或者碳原子数1? 10的环氧烧基。
[0061] 这里，作为烷基，可举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、 戊基、异戊基、叔戊基、己基、环己基、环己基甲基、环己基乙基、庚基、异庚基、叔庚基、正辛 基、异辛基、叔辛基、2-乙基己基等，优选碳原子数1?10的烷基。
[0062] 作为链烯基，可举出乙烯基、1-甲基乙烯基、2-甲基乙烯基、2-丙烯基、1-甲 基-3-丙烯基、3- 丁烯基、1-甲基-3- 丁烯基、异丁烯基、3-戊烯基、4-己烯基、环己烯基、 二环己烯基、庚烯基、辛烯基、癸烯基、十五碳烯基、二十碳烯基、二十三碳烯基等，优选碳原 子数2?10的链烯基。
[0063] 作为"可以具有取代基的烃基"的取代基，可举出卤素原子、烷氧基、链烯氧基、链 稀基撰基氧基、环氧基等。具体而目，可举出以下所不的基团。
[0064] 作为卤素原子，可举出氟、氯、溴、碘等。
[0065] 作为烷氧基，可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、 仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、异戊氧基、新戊氧基、1-甲基丁氧基、正己氧基、异己氧基、 4_甲基戊氧基等，优选碳原子数1?10的烷氧基。
[0066] 作为链烯氧基，可举出在任1处以上具有碳_碳双键的链烯基和烷基介由氧原子 键合的基团。具体而目，例如，可举出乙稀基氧基、2-丙稀基氧基、3_ 丁稀基氧基、4_戊稀基 氧基等，优选碳原子数2?10的链烯氧基。
[0067] 作为链烯基羰基氧基，是链烯基与羰基氧基键合的基团，可举出丙烯酰氧基、甲基 丙稀醜氧基、稀丙基撰基氧基、3_丁稀基撰基氧基等，优选碳原子数2?10的链稀基撰基氧 基。
[0068] 另外，作为具有环氧基作为取代基的烃基，可举出环氧基乙基、1，2-环氧基丙基、 环氧丙氧基烷基、环氧基环己基乙基等。
[0069] R为由聚合物构成的基团时，作为可以具有取代基的烃的聚合物，例如，可以举出 将选自以下化合物中的乙烯基系化合物共聚而成的乙烯基系聚合物，即（甲基）丙烯酸甲 酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸2-乙基己酯、（甲基）丙烯 酸环己酯等（甲基）丙烯酸酯；
[0070] (甲基）丙烯酸、衣康酸、富马酸等羧酸以及马来酸酐等酸酐；
[0071] (甲基）丙烯酸缩水甘油酯等环氧基化合物；
[0072] (甲基）丙烯酸二乙基氨基乙酯、氨基乙基乙烯基醚等氨基化合物；
[0073] (甲基）丙烯酰胺、衣康酸二酰胺、a _乙基丙烯酰胺、巴豆酰胺、富马酸二酰胺、马 来酸二酰胺、N-丁氧基甲基（甲基）丙烯酰胺等酰胺化合物；
[0074] 丙烯腈、苯乙烯、a -甲基苯乙烯、氯乙烯、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等。
[0075] 另外，碳原子与上述的式（1)中的Si直接键合的有机基团可以含有硅原子，也可 以是含有聚硅氧烷、聚乙烯基硅烷、聚丙烯酸硅烷等聚合物的基团。
[0076] 上述的式（1)中，n表示1或者2,优选n为1。n为2时，R彼此可以相同也可以 不同。
[0077] X在上述的式（1)中表示羟基或者水解性基团。式（1)的（4-n)为2以上时，X彼 此可以相同也可以不同。
[0078] 水解性基团是指例如通过无催化剂、过量的水的共存下在25?100°C加热能水解 并生成硅烷醇基的基团，能够形成硅氧烷缩合物的基团。具体而言，可以举出烷氧基、酰氧 基、卤素原子、异氰酸酯基等。优选为碳原子数1?4的烷氧基或者碳原子数1?4的酰氧 基。
[0079] 作为碳原子数1?4的烷氧基，具体而言，可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙 氧基、正丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基等。作为碳原子数1?4的酰氧基，具体而言，可举出 甲酰氧基、乙酰氧基、丙酰氧基等。
[0080] 根据以上，作为具体的有机硅化合物，可以举出甲基三氯硅烷、甲基三甲氧基硅 烧、甲基二乙氧基娃烧、甲基二丁氧基娃烧、乙基二甲氧基娃烧、乙基二异丙氧基娃烧、乙基 三丁氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、五氟苯基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、九氟丁基 乙基三甲氧基硅烷、三氟甲基三甲氧基硅烷、二甲基二氨基硅烷、二甲基二氯硅烷、二甲基 二乙酰氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二丁基二甲氧基硅烷、三甲 基氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、3-(甲基）丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、Y-环氧丙氧基 丙基三甲氧基硅烷、3-(3-甲基-3-氧杂环丁烷甲氧基）丙基三甲氧基硅烷、氧杂环己基三 甲氧基硅烷、甲基三（甲基）丙烯酰氧基硅烷、甲基[2-(甲基）丙烯酰氧基乙氧基]硅烷、 甲基-三缩水甘油氧基硅烷、甲基三（3-甲基-3-氧杂环丁烷甲氧基）硅烷。
[0081] 另外，该有机硅化合物可以单独使用1种或者组合2种以上使用。组合2种以上的 有机硅化合物使用时，例如，可以优选地例示乙烯基三甲氧基硅烷和3-甲基丙烯酰氧基丙 基三甲氧基硅烷的组合、乙烯基三甲氧基硅烷和3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷的组合。 [0082] 式（1)表示的有机硅化合物的缩合物，具体而言，例如，可举出上述的有机硅化合 物水解缩合而形成硅氧烷键的2倍体等。
[0083] 另外，上述的式（1)表示的有机硅化合物和/或其缩合物中R的碳原子数为3以 下的物质，相对于式（1)表示的有机硅化合物和/或其缩合物100摩尔％优选为30摩尔％ 以上，更优选为50摩尔％以上。R的碳原子数为4以上的物质，相对于式（1)表示的有机硅 化合物和/或其缩合物100摩尔％优选为5摩尔％以上。
[0084] S卩，优选R的碳原子数为3以下的物质为30?95摩尔％、R的碳原子数为4以上 的物质为5?70摩尔％，更优选R的碳原子数为3以下的物质为50?95摩尔％、R的碳 原子数为4以上的物质为5?50摩尔％。
[0085] b)紫外线固化性化合物
[0086] 在本实施方式中，紫外线固化性化合物是通过活性能量线的照射而聚合的化合 物。特别优选具有在光聚合引发剂的存在下通过紫外线的照射引起聚合反应的官能团的化 合物或者树脂，可例示（甲基）丙烯酸酯系化合物、环氧树脂、除了丙烯酸酯系化合物之外 的乙烯基化合物等。官能团的个数只要为一个以上，就没有特别限定。
[0087] 作为丙烯酸酯系化合物，具体而言，可举出聚氨酯（甲基）丙烯酸酯、聚酯（甲基） 丙烯酸酯、环氧（甲基）丙烯酸酯、聚酰胺（甲基）丙烯酸酯、聚丁二烯（甲基）丙烯酸酯、 聚苯乙烯（甲基）丙烯酸酯、聚碳酸酯二丙烯酸酯、三丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、己二醇 二（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、 具有（甲基）丙烯酰氧基的硅氧烷聚合物等。优选为聚酯（甲基）丙烯酸酯、聚氨酯（甲 基）丙烯酸酯、环氧（甲基）丙烯酸酯，更优选为聚氨酯（甲基）丙烯酸酯。
[0088] 丙烯酸酯系化合物的分子量只要与转印层中含有的其它组合物具有相溶性，就没 有限制，通常以质均分子量计优选为500?50000,优选为1000?10000。
[0089] 环氧（甲基）丙烯酸酯，例如可以低分子量的双酚型环氧树脂或酚醛清漆环氧树 脂的环氧乙烷环与丙烯酸的酯化反应而得到。
[0090] 聚酯（甲基）丙烯酸酯，例如是通过用丙烯酸将由多元羧酸与多元醇的缩合得到 的、在两末端具有羟基的聚酯低聚物的羟基酯化而得到的。或者是将对多元羧酸加成环氧 烷而得到的低聚物的末端的羟基用丙烯酸酯化而得到的。
[0091] 聚氨酯（甲基）丙烯酸酯是使多元醇和二异氰酸酯反应而得到的异氰酸酯化合物 与具有羟基的丙烯酸酯单体的反应生成物，作为多元醇，可举出聚酯多元醇、聚醚多元醇、 聚碳酸酯二醇。
[0092] 在本实施方式中，作为聚氨酯（甲基）丙烯酸酯的市售品，例如，可举出以下所示 的市售品。可以举出
[0093] 荒川化学工业株式会社制商品名：BEAMSET102、502H、505A-6、510、550B、55IB、 575、575CB、EM-90、EM92 ;
[0094] Sannopco 株式会社制商品名：PH0T0MER6008、6210 ;
[0095] 新中村化学工业株式会社制商品名：NK 01igoU-2PPA、U-4HA、U-6HA、H-15HA、 UA-32PA、U-324A、U-4H、U-6H ;
[0096] 东亚合成株式会社制商品名：AR0NIX M-1100、M-1200、M-1210、M-1310、M-1600、 M-1960 ；
[0097] 共荣社化学株式会社制商品名：AH-600、AT606、UA-306H ;
[0098] 日本化药株式会社制商品名：KAYARAD UX-2201，UX-2301，UX-3204, UX-3301， UX-4101, UX-6101, UX-7101 ；
[0099] 日本合成化学工业株式会社制商品名：紫光UV-1700B、UV-3000B、UV-6100B、 UV-6300B、UV-7000、UV-7600B、UV-2010B、UV-7610B、UV-7630B、UV-7550B ;
[0100] 根上工业株式会社制商品名：Art Resin UN-1255、UN-5200、HDP-4T、HMP-2、 UN-901T、UN-3320HA、UN-3320HB、UN-3320HC、UN-3320HS、H-61、HDP-M20 ;
[0101] Daicel UCB 株式会社制商品名：Ebecryl 6700、204、205、220、254、1259、1290K、 1748、2002、2220、4833、4842、4866、5129、6602、8301 ;
[0102] Daicel-Cytec 株式会社制商品名：ACA200M、ACAZ230AA、ACAZ250、ACAZ300、 ACAZ320 ;等。
[0103] 作为除了丙烯酸酯系化合物之外的乙烯基化合物，可举出N-乙烯基吡咯烷酮、 N-乙烯基己内酰胺、乙酸乙烯酯、苯乙烯、不饱和聚酯等。
[0104] 作为环氧树脂，可以举出氢化双酚A二缩水甘油基醚、3, 4-环氧基环己基甲 基-3,4-环氧基环乙烷羧酸酯、2-(3,4_环氧基环己基-5,5-螺-3,4-环氧基）环己 烷-间-二曰恶烷、双（3, 4-环氧基环己基甲基）己二酸酯等。
[0105] 作为光聚合引发剂，可以举出通过光照射产生阳离子种的化合物和通过光照射产 生活性自由基种的化合物等。
[0106] 作为通过光照射产生阳离子种的化合物，例如，可以举出具有下述式（2)所示的 结构的翁t.盐。该4翁.盐是受到光而放出路易斯酸的化合物。
[0107] [R1aR2bR3cR4dW] +e[MLe+f]'.. (2)
[0108] 式⑵中，阳离子为鏔离子，W为S、Se、Te、P、As、Sb、Bi、0、I、?、Cl、或者N与N 的三键（N = N-)，R1、R2、R3以及R4是相同或者不同的有机基团，a、b、c以及d分别为0? 3的整数，（a+b+c+d)与W的价数相等。M为构成卤化物配合物[MLe+f]的中心原子的金属或 者准金属，例如，为 B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co 等。L 例如 为F、Cl、Br等卤素原子，e为卤化物配合物离子的净电荷，f为M的原子价。
[0109] 作为上述式（2)中的阴离子（MLe+f)的具体例，可以举出四氟硼酸根（BF 4O、六氟磷 酸根（PF6O、六氟锑酸银（SbF6O、六氟砷酸根（AsFfT)、六氯锑酸根（SbCV)等。
[0110] 另外，可以使用具有式〔MLf(0Hr〕所示的阴离子的餐脅.盐。并且，也可以是具有高 氯酸根离子（C10〇、三氟甲磺酸离子（CF3SO3O、氟磺酸离子（FSO3O、甲苯磺酸离子、三硝基 苯磺酸阴离子、三硝基甲苯磺酸阴离子等其它阴离子的傭盐。它们可以单独使用1种或组 合2种以上使用。
[0111] 作为通过光照射产生活性自由基种的化合物，例如，可以举出苯乙酮、苯乙酮苄 基缩酮、1-羟基环己基苯基酮、2, 2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮、咕吨酮、芴酮、 苯甲醛、芴、蒽醌、三苯基胺、咔唑、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4, 4'-二甲氧基二苯甲 酮、4, 4'-二氨基二苯甲酮、苯偶姻丙醚、苯偶姻乙醚、苯偶酰二甲基缩酮、1-(4-异丙基苯 基）-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、噻吨酮、二乙基 噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基）苯基]-2-吗啉代-丙 烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基）-丁酮-1，4-(2-羟基乙氧基）苯 基-(2-羟基-2-丙基）酮、2, 4, 6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦、双-(2, 6-二甲氧基苯甲 酰）-2, 4, 4-三甲基戊基氧化膦、低聚（2-羟基-2-甲基-1-(4-(1-甲基乙烯基）苯基）丙 酮）等。
[0112] 在本实施方式中，光聚合引发剂的配合量，相对于（甲基）丙烯酸酯系等的紫外线 固化性化合物的固体成分，优选为0. 01?20质量％，进一步优选为0. 1?10质量％。
[0113] 应予说明，本实施方式中，可以根据需要添加敏化剂。例如，可以使用三甲基胺、甲 基二甲醇胺、三乙醇胺、对二甲基氨基苯乙酮、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、对二甲基氨基苯 甲酸异戊酯、N，N-二甲基苄基胺以及4, 4'-双（二乙基氨基）二苯甲酮等。
[0114] c)硅烷醇缩合催化剂
[0115] 作为硅烷醇缩合催化剂，只要将上述的式（1)表示的有机硅化合物中的水解性基 团水解，将硅烷醇缩合而形成硅氧烷键，就没有特别限制，可举出有机金属、有机酸金属盐、 酸、碱、金属螯合物化合物等。硅烷醇缩合催化剂可以单独使用1种或者组合2种以上使用。
[0116] 作为有机金属，具体而言，可举出有机钛化合物、烷氧基铝类等。作为有机钛化合 物，例如，可举出四异丙氧基钛、四丁氧基钛、双乙酰丙酮钛等钛酸烷基酯等。
[0117] 作为有机酸金属盐，可举出羧酸金属盐、羧酸碱金属盐、羧酸碱土金属盐等。具体 而言，例如，可举出辛酸锌、2-乙基己酸铅、二丁基二乙酸锡、二丁基二乳酸锡、辛酸亚锡、环 烷酸锌、辛酸亚铁、辛酸锡以及二丁基二羧酸锡等。
[0118] 作为酸，可举出有机酸、无机酸。具体而言，例如，作为有机酸，可举出乙酸、甲酸、 草酸、碳酸、邻苯二甲酸、三氟乙酸、对甲苯磺酸、甲烷磺酸等，作为无机酸，可举出盐酸、硝 酸、硼酸、氟硼酸等。应予说明，酸中也包括通过光照射产生酸的光酸产生剂，具体而言，二 苯基碘It六氟磷酸盐、三苯基磷|f_六氟磷酸盐等或者固体酸催化剂。使用固体酸催化剂 时，可以将催化剂过滤除去。
[0119] 作为碱，可举出四甲基胍、四甲基胍基丙基三甲氧基硅烷等强碱类；有机胺类，有 机胺的羧酸中和盐，季铵盐等。
[0120] 作为金属螯合物化合物，可举出铝螯合物类，具体而言可举出下述所示的化合物。
[0121] At (acac) 3, At (O-i-Pr) (acac) 2, At (O-i-Pr) 2 (acac),
[0122] At (〇-i-Bu) (acac) 2, At (〇-i~Bu) 2 (acac),

【权利要求】
1. 一种转印箔，其特征在于，是在基材上依次层叠有转印层、中间层和功能层的转印 箔， 所述中间层含有具有酰胺键的树脂和氨基树脂。
2. 根据权利要求1所述的转印箔，其中，在所述中间层中，所述具有酰胺键的树脂的至 少一部分与所述氨基树脂的至少一部分交联。
3. 根据权利要求1或2所述的转印箔，其中，在所述中间层中，所述具有酰胺键的树脂 与所述氨基树脂的含有比例以质量比计为具有酰胺键的树脂：氨基树脂=90:10?60:40 的范围。
4. 根据权利要求1?3中任一项所述的转印箔，其中，所述具有酰胺键的树脂为聚酰胺 树脂。
5. 根据权利要求1?4中任一项所述的转印箔，其中，所述氨基树脂为三聚氰胺树脂或 其衍生物。
6. 根据权利要求1?5中任一项所述的转印箔，其中，所述功能层为粘接层。
7. 根据权利要求1?6中任一项所述的转印箔，其中，所述转印层含有有机无机复合 体， 所述有机无机复合体含有a)式（1)表示的有机硅化合物和/或其缩合物、和b)紫外 线固化性化合物， 所述有机无机复合体为半固化物， RnSiX4_n (1) 式中，R表示碳原子与式中的Si直接键合的有机基团，X表示羟基或者水解性基团，n 表示1或者2, n为2时，2个R可以相同或不同，（4-n)为2以上时，多个X可以相同或不 同。
8. 根据权利要求1?7中任一项所述的转印箔，其中，所述中间层进一步含有酸性化合 物。
【文档编号】B32B27/16GK104334348SQ201380027996
【公开日】2015年2月4日 申请日期:2013年5月31日 优先权日:2012年6月5日
【发明者】长谷川一希 申请人:日本曹达株式会社