电子照相感光体、电子照相盒及电子照相装置的制作方法

专利名称：电子照相感光体、电子照相盒及电子照相装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及适用于电子照相成像的电子照相感光体、电子照相盒和电子照相装置。
背景技术：
能够实现高速和高印刷质量的电子照相法已应用到诸如复印机或激光打印机的电子照相装置中。
在该电子照相装置中所使用的电子照相感光体主要是使用有机光电导材料的有机电子照相感光体，可以改变该电子照相感光体的结构以使其成为功能分离型的电子照相感光体，从而改善其性能，所述功能分离型的电子照相感光体具有分散在各层中的电荷传输材料和电荷产生材料。
目前，该功能分离型的电子照相感光体通常由如下方法形成在铝基板上形成底涂层并在其上形成包括电荷产生层和电荷传输层的感光层。
在该电子照相感光体中，对于感光体反复使用中的稳定性及其环境稳定性的改善，不但显著地依赖于电荷产生层和电荷传输层，而且还依赖于底涂层，因此，需要在反复使用过程中能够表现出低电荷积累的底涂层。
底涂层还在防止图像缺陷中具有重要作用，并在抑制由于基体中的缺陷或污点或者由于诸如电荷产生层等上层中的缺陷或不平而导致的图像缺陷方面发挥重要的作用。
特别是在近年来的电子照相装置中，使用了减少臭氧生成的接触式充电设备来替代电晕管，但是在接触充电过程中，施加到电子照相感光体局部损坏部分的局部高电场可能产生导致图像缺陷的导电针孔。
该针孔漏电可以由电子照相感光体中自身的上述缺陷所产生，但是针孔漏电另外可以由如下事实而产生产生于电子照相装置中的导电物质与电子照相感光体保持接触或渗透入电子照相感光体中，从而促进了接触式充电设备与电子照相感光体的基板间导电通道的形成。在极端情况下，在电子照相装置中由其他部件混入的异物或混入电子照相装置中的粉尘会粘附在电子照相感光体上而成为来自接触式充电设备的漏电点。
为克服上述问题，已经采用的方法是在基板上形成含有导电性细粉的层，由此形成更厚的底涂层以掩盖该基板的缺陷并稳定基板的电学特性。
用于实现该目的的一种方法是在铝基板上形成导电粉末分散体的导电层，并在导电层上形成底涂层。在此情况下，导电层可以掩盖基板的缺陷并调节电阻，并且底涂层可以发挥阻断(电荷注入控制)功能。
而在另一个方法中，将具有阻断(电荷注入控制)功能和电阻调节功能的导电性粉末分散体涂布在基板上，并用作同时具有阻断(电荷注入控制)层功能和电阻调节层功能的底涂层。
与形成底涂层的前一种方法相比，形成底涂层的后一种方法可以省去一个层，从而简化了电子照相感光体的制备过程并降低了它的成本。
然而，对于后者的底涂层，由于要求在单一的底涂层中同时具有电阻调节功能和电荷注入-控制功能，因此显著制约了对材料的设计。
从防止泄露的观点来看，底涂层的厚度越大则越有效，因此要求膜的厚度为大于或等于10μm，并且在厚的层中，为了得到令人满意的电学特性就必须降低电阻，但是，在此情况下，该层显示出更低的电荷阻断能力，从而增加了作为图像缺陷的图像背景灰雾(fog)。
因此，将由导电的氧化钛粉末等获得的后一种底涂层的膜厚限制在1微米到数微米的范围内，同时，使用任何已知材料，均无法提供能够满足电子照相感光体所需要的所有特性的底涂层，这些特性例如为厚层中抗漏电性的改善、电学特性的稳定化和灰雾程度的降低。
特别是最近，由于日益增长的对环境问题的关注，迫切期望具有更长使用寿命的电子照相感光体，同时在长期的反复使用中，电学特性的改善和图像质量的稳定性也是必不可少的。
另一种已经提出的方法是向底涂层中加入诸如电子受体材料和电子传输材料等添加剂(例如日本特许文献特开平7-175249、特开平8-44097和特开平9-197701)。
然而，即便使用这些方法，也无法提供能够满足电子照相感光体所需要的所有特性的底涂层，这些特性例如为厚层中抗漏电性的改善、电学特性的稳定化和灰雾程度的降低。

发明内容
考虑到上述问题，本发明提供一种具有优异电学特性的电子照相感光体、以及使用该电子照相感光体的电子照相盒和电子照相装置，该电子照相感光体即使在反复使用后也在电学特性上变化很小、几乎不产生图像缺陷，不会产生诸如针孔漏电等图像缺陷。
本发明在第一方面中提供一种电子照相感光体，所述电子照相感光体含有导电基板，并至少含有位于所述导电基板上的底涂层和感光层，其中所述底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒。
本发明在第二方面中提供一种至少包括电子照相感光体及与电子照相感光体保持接触用于对其进行充电的接触式充电装置的电子照相盒。所述电子照相感光体含有导电基板并至少含有位于所述导电基板上的底涂层和感光层，其中所述底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒。
本发明在第三方面中提供一种至少含有电子照相感光体及与电子照相感光体保持接触用于对其进行充电的接触式充电设备的电子照相装置，所述电子照相感光体含有导电基板并至少含有位于所述导电基板上的底涂层和感光层，其中所述底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒。
本发明在第四方面中提供一种至少含有电子照相感光体及用于转印形成在电子照相感光体上的图像的中间转印装置的电子照相装置，所述电子照相感光体含有导电基板并至少含有位于所述导电基板上的底涂层和感光层，其中所述底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒。


图1是本发明的电子照相感光体的示意性截面图；图2是本发明的电子照相装置的示意图；图3是本发明的另一种电子照相装置的示意图；图4是本发明的又一种电子照相装置的示意图；和图5是本发明的电子照相盒的示意图。
具体实施例方式
作为深入研究的结果，本发明人发现上述缺点可以通过在基板上至少具有底涂层和感光层的电子照相感光体来解决，其中所述底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒。
更具体地，即使是在长期使用时，本发明的含有位于基板上的底涂层的电子照相感光体也可以提供稳定的电学特性，并且，即使是当电子照相感光体被其周围部件所产生的异物或从电子照相装置外部混入的灰尘所粘附时，也可以有效地防止漏电的产生，所述底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒。因此，可以长期获得充分令人满意的图像质量。
在发明中产生上述效果的原因还不清楚，但本发明人估计原因如下。
当含有金属氧化物颗粒的底涂层被做得较厚时，即使是当电子照相感光体被其周围部件所产生的异物或从电子照相装置外部混入的灰尘所粘附时，也可防止漏电的产生，但是在长期使用时无法充分保证电学特性的恒定性。这可能是归因于在长期反复使用过程中电荷在底涂层中或在底涂层与上层的界面处的积累。
当底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒时，据估计在底涂层中附着在金属氧化物微粒上的电子受体化合物有助于在底涂层与上层间界面上的电荷转移，并可以防止电荷在底涂层中的蓄积，从而在长期使用中避免残留电位的增加。
本发明人在这些发现的基础上完成了本发明。
下面，通过其优选实施方案，对本发明进行清楚详细的说明，有时将参考相关附图。在附图中，相同或类似的部件用相同的数字来表示，并且不作重复解释。
(电子照相感光体)图1是本发明的电子照相感光体的示意性截面图。电子照相感光体7具有层状结构，其中，将底涂层2、中间层4、感光层3和保护层5依次层压在导电基板1上。如图1所示的电子照相感光体7是功能分离型的感光体，其中，感光层3由电荷产生层31和电荷传输层32构成。
导电基板1包括诸如铝、铜、铁、不锈钢、锌或镍等的金属鼓；其上沉积有诸如铝、铜、金、银、铂、钯、钛、镍-铬、不锈钢或铟等金属或诸如氧化铟或氧化锡等导电金属化合物的诸如纸片、塑料片或玻璃片等基材；层压有金属箔的上述基材或通过涂布分散在粘结剂用树脂中的炭黑、氧化铟、氧化锡、氧化锑粉末、金属粉末或碘化铜以赋予其导电性的上述基材。
导电基板1并不限于鼓形，也可以为片状或板状。当导电基板1是金属管时，其表面可以是未经处理的表面或预先用例如镜面研磨、蚀刻、阳极氧化、粗研磨、无心磨削、喷砂或湿珩磨等适当处理过的表面。
底涂层2是由附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒所形成。
只要是能够获得所需的性能，该电子受体化合物就可以任意地选择，但优选使用具有醌基的化合物。也可以优选使用具有蒽醌结构的受体化合物。除了蒽醌本身以外，具有蒽醌结构的化合物包括羟基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物和氨基羟基蒽醌化合物，所有这些化合物均可以优选使用。更具体地，特别优选使用蒽醌、茜素、醌茜、蒽绛酚、红紫素等。
只要是能够获得所需的特性，该电子受体化合物的添加量就可以任意选择，但相对于金属氧化物微粒，优选为0.01质量％～20质量％，更优选为0.05质量％～10质量％。电子受体化合物的添加量小于0.01质量％时，将不能提供充分的有助于改善底涂层2中的电荷积累的受体性能，从而在反复使用中经常导致诸如残留电位增加等耐用性的劣化。
而电子受体化合物的添加量超过20质量％，将易于引起金属氧化物间的聚集，因此在形成底涂层2时，金属氧化物无法在底涂层2中形成令人满意的导电通道，从而不仅易于在反复使用中导致诸如残留电位增加等耐用性的劣化，而且易于产生诸如黑点等图像缺陷。
利用高剪切力的搅拌器等保持对金属氧化物微粒的搅拌，滴加溶解在有机溶剂中的电子受体化合物，并将其与干燥空气或氮气一起喷雾，由此可以将电子受体化合物均匀地附着在金属氧化物微粒上。
电子受体化合物的添加或喷雾优选在低于溶剂沸点的温度下进行，因为在溶剂沸点或高于溶剂沸点下进行喷雾，将会在实现均匀搅拌之前引起溶剂的蒸发，从而导致电子受体化合物的局部固化，并妨碍了处理的均匀性。在添加或喷雾之后，可在等于或高于溶剂沸点的温度下进行干燥。同样，均匀附着也可通过如下处理而得到对溶剂中的金属氧化物微粒进行搅拌，利用超声波、砂磨机或球磨机将其分散，然后加入电子受体化合物在有机溶剂中的溶液，进行回流，或者在低于有机溶剂沸点的温度下进行搅拌或分散，并除去溶剂。可以通过过滤、蒸馏或加热干燥将溶剂除去。
由于底涂层2需要具有适当的电阻以获得抗漏电性，因此附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒需要具有约102Ω·cm～1011Ω·cm的粉末电阻(体积电阻率)。金属氧化物微粒的电阻低于前述范围的下限，将不能提供足够的抗漏电性，然而电阻高于前述范围的上限，将导致残留电位的增加。
优选使用具有前述电阻的诸如氧化钛、氧化锌、氧化锡或氧化锆等金属氧化物微粒，使用氧化锌是特别优选的。金属氧化物微粒还可以作为两种或多种诸如表面处理或粒径等不同的氧化物的混合物而使用。
金属氧化物微粒优选具有大于或等于10m2/g的比表面积。那些比表面积小于10m2/g的金属氧化物微粒容易产生更低的充电性能，因此常常导致不良的电子照相特性。
在附着电子受体化合物之前，可以对金属氧化物微粒进行表面处理。可以使用任何能够提供所需性能的选自已知材料的表面处理剂。例如，可使用硅烷偶联剂、钛酸盐类偶联剂、铝类偶联剂或表面活性剂。特别地，由于硅烷偶联剂能够提供良好的电子照相特性，因此优选使用硅烷偶联剂。此外，由于具有氨基的硅烷偶联剂能够提供具有良好阻断性能的底涂层2，因此优选使用具有氨基的硅烷偶联剂。
可以使用任何能够提供具有所需特性的电子照相感光体的具有氨基的硅烷偶联剂，具体例子包括γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷和N，N-二(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷，但这些例子并不是限定性的。
可以使用两种或多种硅烷偶联剂的混合物。可以与具有氨基的硅烷偶联剂组合使用的硅烷偶联剂的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷，但这些例子并不是限定性的。
可以使用任何已知的方法进行表面处理，并且可以通过干法或湿法来进行表面处理。
当使用干法进行表面处理时，利用高剪切力的搅拌器等维持对金属氧化物微粒的搅拌，并直接滴加硅烷偶联剂或滴加溶于有机溶剂的硅烷偶联剂，并将其与干燥空气或氮气一起喷雾，从而完成均匀的表面处理。添加或喷雾优选在低于溶剂沸点的温度下进行，因为在溶剂沸点或高于溶剂沸点的温度下进行喷雾，将会在实现均匀搅拌之前引起溶剂的蒸发，从而导致硅烷偶联剂的局部固化，并妨碍了处理的均匀性。在添加或喷雾之后，可以在100℃或100℃以上的温度进行煅烧。所述煅烧可以在能够提供所需电子照相特性的任意温度和时间范围内进行。
湿法的表面处理可以这样完成通过用搅拌器、超声发生器、砂磨机、磨光器或球磨机等将金属氧化物微粒分散在溶剂中，然后加入硅烷偶联剂在有机溶剂中的溶液，进行搅拌或分散，并除去溶剂。可通过过滤或蒸馏来除去溶剂。在除去溶剂后，可以在100℃或100℃以上的温度进行煅烧。所述煅烧可以在能够提供所需电子照相特性的任意温度和时间范围内进行。在湿法中，还可以在加入表面处理剂之前除去金属氧化物微粒中所含有的水分，例如通过对用于表面处理的溶剂中的颗粒在搅拌下进行加热或通过与溶剂共沸蒸馏除去水分。
只要是能够获得所需的电子照相特性，在底涂层2中，硅烷偶联剂相对于金属氧化物微粒的量可以自由选择。
作为底涂层2中所含有的粘结剂用树脂，可以使用任何能够形成满意的膜并能提供所需特性的已知树脂，例如，已知聚合物树脂化合物包括诸如聚乙烯醇缩丁醛等缩醛树脂、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨基甲酸酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、酚树脂、酚醛树脂、三聚氰胺树脂和聚氨酯树脂；具有电荷传输基团的电荷传输树脂；诸如聚苯胺等导电树脂。
在这些树脂中，优选使用不溶于上层所使用的涂布溶剂的树脂，特别是酚树脂、酚醛树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂或环氧树脂。
在用于形成底涂层2的涂布液中，附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒与粘结剂用树脂的比例，可在能够为电子照相感光体提供所需特性的范围内任意选择。
用于形成底涂层2的涂布液还可以含有旨在改善电学特性、环境稳定性和图像质量的各种添加剂。
该添加剂包括电子传输材料，所述电子传输材料包括诸如氯醌或溴醌的醌类化合物，四氰基对苯醌二甲烷化合物，诸如2，4，7-三硝基芴酮或2，4，5，7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物，诸如2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、2，5-二(4-萘基)-1，3，4-噁二唑或2，5-二(4-二乙基氨基苯基)-1，3，4-噁二唑等噁二唑化合物，呫吨酮化合物，噻吩化合物或诸如3，3′，5，5′-四叔丁基二苯酚合苯醌等二苯酚合苯醌化合物；稠合多环型或偶氮型的电子传输颜料；锆螯合物；钛螯合物；铝螯合物；钛醇盐；有机钛化合物；硅烷偶联剂和其他已知材料。
硅烷偶联剂可以用于氧化锌的表面处理，但也可以用作涂布液中的添加剂。这里使用的硅烷偶联剂的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷。
并且锆螯合物的例子包括丁醇锆、乙基乙酰乙酸锆、三乙醇胺合锆、乙酰丙酮·丁醇合锆、乙基乙酰乙酸·丁醇合锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸·丁醇合锆、硬脂酸·丁醇合锆和异硬脂酸·丁醇合锆。
钛螯合物的例子包括钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯的二聚体、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮合钛、多乙酰丙酮钛、亚辛基乙醇酸钛、乳酸铵钛盐、乳酸钛、乳酸钛乙基酯、三乙醇胺合钛和多羟基钛二硬脂酸酯。
铝螯合物的例子包括异丙醇铝、二异丙醇单丁氧基铝、丁酸铝、二乙基乙酰乙酸·二异丙醇合铝和三(乙基乙酰乙酸)铝。
这些化合物可以单独使用或作为多种化合物的混合物或缩聚物而使用。
用于形成底涂层的涂布液中所使用的溶剂可以从已知的有机溶剂中自由选择例如醇、芳香族溶剂、卤代烃、酮、酮醇、醚和酯。例如可以使用诸如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲乙酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯或甲苯等普通溶剂。
并且这些用于分散的溶剂可单独使用或以作为两种或多种溶剂的混合物来使用。当为混合物时，可以使用任何能够使粘结剂用树脂溶解在混合溶剂中的溶剂。
为了分散金属氧化物微粒，可以使用任何已知的可利用方法，例如辊磨机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨和油漆混和器。对于底涂层2的涂布，可以使用诸如刮板涂布、线绕棒涂布(wired barcoating method)、喷涂、浸涂、涂边涂布(bead coating method)、气刀刮涂或幕涂等常规方法。
在导电基板1上，使用如此制得的用于形成底涂层的涂布液来形成底涂层2。
底涂层2的维氏(Vickers)强度优选为大于或等于35。并且底涂层2的厚度为大于或等于15μm，更优选为20μm～50μm。
若底涂层2的厚度小于15μm将不能提供足够的抗漏电性，而厚度大于50μm则在长期使用中容易出现残留电位，从而导致反常的图像浓度。
为了防止莫尔图像，可以对底涂层2进行调节，使其表面粗糙度调为1/4n(n代表上层的折射率)～1/2λ(λ为所使用的曝光激光的波长)。为了调节粗糙度，例如，可以在底涂层2中加入树脂颗粒。树脂颗粒可以是，例如硅酮树脂颗粒或交联的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)树脂颗粒等。
并且为了调节表面粗糙度，可以对底涂层2进行抛光处理。为了进行抛光处理，可以使用抛光轮抛光、喷砂、湿珩磨或研磨处理。
在底涂层2和感光层3间，可以使用中间层4来改善电学特性、图像质量、图像质量的恒定性和感光层的附着力。
可以使用如下的聚合物树脂化合物来形成中间层4，诸如聚乙烯醇缩丁醛等缩醛树脂、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨基甲酸酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、酚醛树脂或三聚氰胺树脂，或含有锆、钛、铝、锰或硅原子的有机金属化合物。
这些化合物可以单独使用，或者作为多种化合物的混合物或缩聚物来使用。其中，含有锆或硅的有机金属化合物表现出了诸如更低的残余电位、由环境所引起的电位波动更小以及由反复使用所引起的电位波动更小等优异性能。
硅化合物的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷。
其中，特别优选的硅化合物是硅烷偶联剂，例如乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基硅烷)、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三乙氧基硅烷或3-氯丙基三甲氧基硅烷。
有机锆化合物的例子包括丁醇锆、乙基乙酰乙酸锆、三乙醇胺合锆、乙酰丙酮·丁醇合锆、乙基乙酰乙酸·丁醇合锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸·丁醇合锆、硬脂酸·丁醇合锆和异硬脂酸·丁醇合锆。
有机钛化合物的例子包括钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯的二聚体、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮合钛、多乙酰丙酮钛、亚辛基乙醇酸钛、乳酸铵钛盐、乳酸钛、乳酸钛乙基酯、三乙醇胺合钛和多羟基钛二硬脂酸酯。
有机铝化合物的例子包括异丙醇铝、二异丙醇单丁氧基铝、丁酸铝、二乙基乙酰乙酸·二异丙醇合铝和三(乙基乙酰乙酸)铝。
除了可以改善上层的涂布性能以外，中间层4还具有作为电阻断层的功能，但是在厚度过大的情况下，可能会出现过强的电阻断，从而在重复使用中导致感光度降低或电位增加。因此，在具有中间层4的情况下，以0.1μm～5μm的厚度来形成中间层4。
通过电荷产生材料进行的真空沉积，或通过将这些电荷产生材料与有机溶剂和粘结剂用树脂一起分散并涂布，从而形成构成感光层3的电荷产生层31。
在通过分散体涂布来形成电荷产生层31的情况下，可以通过将电荷产生材料与有机溶剂、粘结剂用树脂和添加剂一起分散，并涂布所得到的分散体来形成电荷产生层31。
在本发明中，可以使用任何已知的电荷产生材料。
对于红外光，可以使用酞菁颜料、方形酸次甲基化合物(squarilium)、双偶氮化合物、三偶氮颜料、苝或二硫酮基吡咯并吡咯(sithioketopyrrolopyrrole)，并且，对于可见光，可以使用稠合多环颜料、双偶氮化合物、苝、三角硒化合物或染料敏化的氧化锌微粒。
这些化合物中，作为优选的能够提供特别优异性能的电荷产生材料，可以使用酞菁颜料或偶氮颜料。使用酞菁颜料可以得到感光性特别高且在反复使用中稳定性优异的电子照相感光体7。
酞菁颜料和偶氮颜料通常具有多种晶型，只要是可以得到所需的电子照相特性，则可以使用其任何一种晶型。特别优选的酞菁颜料包括氯化镓酞菁、二氯化锡酞菁、羟基镓酞菁、不含金属的酞菁、羟基钛(oxytitanyl)酞菁和氯化铟酞菁。
酞菁颜料晶体可以通过酞菁颜料的干法粉碎制备，该酞菁颜料可以通过已知机械方法用自动研钵、行星磨、振动磨、CF(离心)磨、辊磨机、砂磨机、捏合机等制备；或在干法粉碎后与溶剂一起用球磨机、研钵、砂磨机或捏合机通过湿法粉碎来制备。
在上述方法中所使用的溶剂可以是芳香族溶剂(例如甲苯或氯苯)、酰胺(例如二甲基甲酰胺或N-甲基吡咯烷酮)、脂肪醇(例如甲醇、乙醇或丁醇)、脂肪族多元醇(例如乙二醇、丙三醇或聚乙二醇)、芳香醇(例如苄醇或苯乙醇)、酯(例如乙酸乙酯或乙酸丁酯)、酮(例如丙酮或甲乙酮)、二甲亚砜、醚(例如二乙醚或四氢呋喃)以及多种溶剂的混合物或水与上述有机溶剂的混合物。
相对于1质量份的颜料晶体，所使用的溶剂的用量为1质量份～200质量份，优选为10质量份～100质量份。处理在-20℃至溶剂沸点温度的范围内进行，优选为-10℃～60℃。并且在粉碎时，可以使用诸如盐或硫酸钠等研磨助剂。相对于颜料，研磨助剂的用量为0.5倍～20倍，优选为1倍～10倍。
可以通过酸糊化法或通过将酸糊化法与上述干法或湿法粉碎组合使用，来对通过已知方法制得的酞菁颜料晶体进行晶体控制。在酸糊化法中所使用的酸优选是浓度为70％～100％的硫酸，优选为95％～100％，且优选的溶解温度是-20℃～100℃，优选为-10℃～60℃。相对于酞菁颜料晶体的质量，浓硫酸的用量在1倍～100倍的范围内选择，优选为3倍～50倍。作为结晶溶剂，可以使用任意量的水或水与有机溶剂的混合物。对于结晶温度没有特别限制，但是为了避免产生热量，优选用冰等进行冷却。
电荷产生层31中所使用的粘结剂用树脂可以广泛地选自绝缘树脂。它也可以选自诸如聚N-乙基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘或聚硅烷等有机光导电性聚合物。
优选的粘结剂用树脂的例子包括诸如聚乙烯醇缩醛树脂、聚芳酯树脂(例如双酚A与邻苯二甲酸的缩聚物)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧基树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺树脂、丙烯酸树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯基吡啶树脂、纤维素树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯基醇树脂或聚乙烯基吡咯烷酮树脂等绝缘树脂，但这些例子并不是限定性的。这些粘结剂用树脂可以单独使用或者作为两种或多种树脂的混合物使用。在这些化合物中，特别优选使用聚乙烯醇缩醛树脂。
在用于形成电荷产生层的涂布液中，电荷产生材料与粘结剂用树脂的组成比例(质量比)优选为10∶1～1∶10。用于调节涂布液的溶剂可以在已知的有机溶剂中任意选择，例如醇、芳香族溶剂、卤代烃、酮、酮醇、醚和酯。可以使用诸如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲乙酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯或甲苯等普通有机溶剂。
并且这些用于分散的溶剂可以单独使用或者作为两种或多种溶剂的混合物使用。当为混合物时，可以使用任何能够使粘结剂用树脂溶解在混合溶剂中的溶剂。
为了分散电荷产生材料，可使用任何已知方法，例如使用辊磨机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨或油漆混和器。并且对于形成电荷产生层所使用的涂布方法，可以使用诸如刮板涂布、线绕棒涂布、喷涂、浸涂、涂边涂布、气刀刮涂或幕涂等普通方法。
在分散体中，粒径为小于或等于0.5μm，优选为小于或等于0.3μm，更优选为小于或等于0.15μm的颗粒能有效地得到高感光度和高稳定性。
可以对电荷产生物质的表面进行稳定性和电学特性的附加处理以防止出现图像质量缺陷。表面处理可以使用偶联剂来完成，但并不局限于此。
在表面处理中使用的偶联剂的例子包括硅烷偶联剂，例如乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷。
其中，特别优选的硅烷偶联剂是乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基硅烷)、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三乙氧基硅烷或3-氯丙基三甲氧基硅烷。
还可以使用有机锆化合物，例如丁醇锆、乙基乙酰乙酸锆、三乙醇胺合锆、乙酰丙酮·丁醇合锆、乙基乙酰乙酸·丁醇合锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸·丁醇合锆、硬脂酸·丁醇合锆和异硬脂酸·丁醇合锆。
还可以使用有机钛化合物，例如钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯的二聚体、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮合钛、多乙酰丙酮钛、亚辛基乙醇酸钛、乳酸铵钛盐、乳酸钛、乳酸钛乙基酯、三乙醇胺合钛和多羟基钛二硬脂酸酯。或使用有机铝化合物，例如异丙醇铝、二异丙醇单丁氧基铝、丁酸铝、二乙基乙酰乙酸·二异丙醇合铝和三(乙基乙酰乙酸)铝。
在电荷产生层所使用的涂布液中，可以加入各种添加剂以改善电学特性和图像质量。
该添加剂包括电子传输材料，例如，诸如氯醌、溴醌或蒽醌等醌类化合物，四氰基对苯醌二甲烷化合物，诸如2，4，7-三硝基芴酮或2，4，5，7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物，诸如2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、2，5-二(4-萘基)-1，3，4-噁二唑或2，5-二(4-二乙基氨基苯基)-1，3，4-噁二唑等噁二唑化合物，呫吨酮化合物，噻吩化合物或诸如3，3′，5，5′-四叔丁基二苯酚合苯醌等二苯酚合苯醌化合物；稠合多环型或偶氮型的电子传输颜料；锆螯合物；钛螯合物；铝螯合物；钛醇盐；有机钛化合物；硅烷偶联剂和其他已知材料。
硅烷偶联剂的例子包括乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-二(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和γ-氯丙基三甲氧基硅烷。
锆螯合物的例子包括丁醇锆、乙基乙酰乙酸锆、三乙醇胺合锆、乙酰丙酮·丁醇合锆、乙基乙酰乙酸·丁醇合锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸·丁醇合锆、硬脂酸·丁醇合锆和异硬脂酸·丁醇合锆。
钛螯合物的例子包括钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯的二聚体、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮合钛、多乙酰丙酮钛、亚辛基乙醇酸钛、乳酸铵钛盐、乳酸钛、乳酸钛乙基酯、三乙醇胺合钛和多羟基钛二硬脂酸酯。
铝螯合物的例子包括异丙醇铝、二异丙醇单丁氧基铝、丁酸铝、二乙基乙酰乙酸·二异丙醇合铝和三(乙基乙酰乙酸)铝。
这些化合物可以单独使用或作为多种化合物的混合物或缩聚物而使用。
并且为形成电荷产生层31，可以使用诸如刮板涂布、线绕棒涂布、喷涂、浸涂、涂边涂布、气刀刮涂或幕涂等普通方法。
在电荷传输层32中的电荷传输材料可以是任何已知的电荷传输材料，其例子包括空穴传输材料，所述空穴传输材料包括诸如2，5-二(对二乙基氨基苯基)-1，3，4-噁二唑等噁二唑衍生物，诸如1，3，5-三苯基-吡唑啉或1-[吡啶基-(2)]-3-(对二乙基氨基苯乙烯基)-5-(对二乙基氨基苯乙烯基)吡唑啉等吡唑啉衍生物，诸如三苯基胺、三(对甲基)苯胺、N，N′-二(3，4-二甲基苯基)-联苯基-4-胺、二苄基苯胺或9，9-二甲基-N，N′-二(对甲苯基)芴酮-2-胺等芳香族叔胺化合物，诸如N，N′-二苯基-N，N′-二(3-甲基苯基)-[1，1-联苯基]-4，4′-二胺等芳香族叔二胺化合物，诸如3-(4′-二甲基氨基苯基)-5，6-二-(4-甲氧基苯基)-1，2，4-三嗪等1，2，4-三嗪衍生物，诸如4-二乙基氨基苯甲醛基-1，1-二苯基腙、4-二苯基氨基苯甲醛基-1，1-二苯基腙或[对(二乙基氨基)苯基](1-萘基)苯基腙等腙衍生物，诸如2-苯基-4-苯乙烯基-喹唑啉等喹唑啉衍生物，诸如6-羟基-2，3-二(对甲氧基苯基)-苯并呋喃等苯并呋喃衍生物，诸如对(2，2-二苯基乙烯基)-N，N′-二苯基苯胺等α-茋衍生物，烯胺衍生物，诸如N-乙基咔唑等咔唑衍生物，聚-N-乙烯基咔唑及其衍生物；和电子传输材料，例如包括诸如氯醌、溴醌或蒽醌等醌类化合物，四氰基对苯醌二甲烷化合物，诸如2，4，7-三硝基芴酮或2，4，5，7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物，诸如2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-噁二唑、2，5-二(4-萘基)-1，3，4-噁二唑或2，5-二(4-二乙基氨基苯基)-1，3，4-噁二唑等噁二唑化合物，呫吨酮化合物，噻吩化合物或诸如3，3′，5，5′-四叔丁基二苯酚合苯醌等二苯酚合苯醌化合物；或在主链或铡链上具有由上述化合物所形成的基团的聚合物。
这些电荷传输物质可以单独使用或者两种或两种以上组合使用，但考虑到迁移率，优选是由如下结构式(A)～(C)所表示的物质。
其中，在结构式(A)中，R14表示甲基；n′表示0～2的整数；Ar6和Ar7各自表示带取代基的或未带取代基的芳基、-C(R18)＝C(R19)(R20)或-CH＝CH-CH＝C(Ar)2，其中取代基是卤原子、具有1个～5个碳原子的烷基、具有1个～5个碳原子的烷氧基或具有含1个～3个碳原子的烷基取代基的取代氨基，Ar表示带取代基或未带取代基的芳基，R18、R19和R20各自表示氢原子、带取代基的或未带取代基的烷基或者带取代基的或未带取代基的芳基；[化学式2] 其中，在结构式(B)中，R15和R15′可以彼此相同或不同且各自表示氢原子、卤原子、具有1个～5个碳原子的烷基或具有1个～5个碳原子的烷氧基；R16、R16′、R17和R17′可以彼此相同或不同且各自表示氢原子、卤原子、具有1个～5个碳原子的烷基、具有1个～5个碳原子的烷氧基、具有含1个～2个碳原子的烷基取代基的氨基、带取代基的或未带取代基的芳基、-C(R18)＝C(R19)(R20)、或-CH＝CH-CH＝C(Ar′)2，其中Ar′表示带取代基的或未带取代基的芳基，R18、R19和R20各自表示氢原子、带取代基的或未带取代基的烷基或带取代基的或未带取代基的芳基；m′和n′各自表示0～2的整数；和[化学式3] 其中，在结构式(C)中，R21表示氢原子、具有1个～5个碳原子的烷基、具有1个～5个碳原子的烷氧基、带取代基的或未带取代基的芳基、或-CH＝CH-CH＝C(Ar″)2，其中Ar″表示带取代基的或未带取代基的芳基；R22和R23可以彼此相同或不同，且各自表示氢原子、卤原子、具有1个～5个碳原子的烷基、具有1个～5个碳原子的烷氧基、具有含1个～2个碳原子的烷基取代基的氨基或带取代基的或未带取代基的芳基。
电荷传输层32的粘结剂用树脂可以是任何的已知树脂，但优选为能形成电绝缘膜的树脂。
例如可以采用绝缘树脂，如聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚丙烯酸酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物、丙烯腈-丁二烯共聚物、聚乙酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、硅酮树脂、硅酮醇酸树脂、酚醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-N-咔唑、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇缩甲醛、聚砜、酪蛋白、明胶、聚乙烯醇、乙基纤维素、酚树脂、聚酰胺、聚丙烯酰胺、羧甲基纤维素、偏二氯乙烯类聚合物蜡或聚氨酯，或者诸如聚乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘、聚硅烷等聚合物电荷传输材料或在JP-A-8-176293和JP-A-8-208820中所公开的聚酯类聚合物电荷传输材料。
这些粘结剂用树脂可以单独使用，或者以两种或多种树脂的混合物使用。考虑到与电荷传输材料的互溶性、在溶剂中的溶解性及强度，可以单独使用或者以两种或多种树脂的混合物使用的这些粘结剂用树脂，特别优选为聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂或丙烯酸树脂。粘结剂用树脂与电荷传输物质的组成比例(质量比)在任何情况下均可任意选择，但是应该注意电学特性和膜强度的降低。
聚合物电荷传输材料也可以单独使用。作为聚合物电荷传输材料，可以使用诸如聚-N-乙烯基咔唑或聚硅烷等具有电荷传输性能的任何已知材料。特别地，特别优选公开于JP-A 8-176293和8-208820中的具有高电荷传输性能的聚酯聚合物电荷传输材料。聚合物电荷传输材料可以单独用作电荷传输层，但它可以与上述的粘结剂用树脂在混合物中形成膜。
当电荷传输层32是电子照相感光体的表面层(即在感光层中离电导基板最远的层)时，为了提供润滑性能，从而减缓表面层的磨损或避免擦刮，并改善沉积在感光体上的显影剂的清洁性能，电荷传输层优选含有润滑颗粒(例如二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒、诸如聚四氟乙烯(PTFE)等氟化树脂颗粒或硅酮树脂颗粒)。该润滑颗粒可以作为两种或两种以上颗粒的混合物而使用。特别地，优选使用氟化树脂颗粒。
对于氟化树脂颗粒，优选一种或多种颗粒选自四氟乙烯树脂、三氟氯乙烯树脂、六氟丙烯树脂、氟乙烯树脂、偏二氟乙烯树脂、二氟二氯乙烯树脂及其共聚物，四氟乙烯树脂或偏二氟乙烯树脂是特别优选的。
上述氟化树脂的一次粒子的平均粒径优选为0.05μm～1μm，更优选为0.1μm～0.5μm。一次粒子的平均粒径小于0.05μm，则在在分散操作时或分散操作之后易于产生聚集。粒径超过1μm则易于产生图像缺陷。
在含有氟化树脂的电荷传输层中，相对于电荷传输层的总质量，氟化树脂在电荷传输层中的含量优选为0.1质量％～40质量％，特别优选为1质量％～30质量％。若含量小于1质量％，则已分散的氟化树脂颗粒的调节效果不足，而若含量大于40质量％则光透射率将会恶化，且会导致在反复使用中残余电位的增加。
电荷传输层32可以通过涂布并干燥用于电荷传输层的涂布液来制备，所述涂布液通过在合适的溶剂中溶解电荷传输材料、粘结剂用树脂和其它材料来制备。
用于形成电荷传输层32的溶剂可以是诸如甲苯或氯苯的芳香烃溶剂，诸如甲醇、乙醇或正丁醇的脂肪醇溶剂，诸如丙酮、环己酮或2-丁酮的酮类溶剂，诸如二氯甲烷、氯仿或氯乙烯的卤代脂肪烃溶剂，诸如四氢呋喃、二噁烷、乙二醇或二乙醚等环状醚或线型醚，或其混合溶剂。电荷传输材料与粘结剂用树脂的组成比例优选为10∶1～1∶5。
在用于形成电荷传输层的涂布液中，为了改善涂布膜的平滑度，可加入少量的诸如硅油等均化剂。
例如可以使用辊磨机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、高压均化器、超声分散器、胶体磨、碰撞型无介质分散器或渗透型无介质分散器将氟化树脂分散到电荷传输层32中。
用于形成电荷传输层32的涂布液例如可以通过在溶液中分散氟化树脂颗粒来制备，所述溶液通过将粘结剂用树脂和电荷传输材料等溶解在溶剂中来制备。
在制备用于形成电荷传输层32的涂布液体的过程中，优选将涂布液体控制在0℃～50℃的温度范围内。
为了在涂布液的制造过程中将涂布液的温度控制在0℃～50℃，可以采用水冷法、风冷法、冷却剂冷却法、在制造工艺中调节室温法、用温水保温法、用热空气保温法、用加热器保温法、采用不容易产生热量的材料制造涂布液制造设备的方法、采用易于散热的材料制造涂布液制造设备的方法或采用易于积累热量的材料制造涂布液制造设备的方法。
加入少量辅助分散剂也可以有效改善分散液的分散稳定性并可以在形成涂布膜时防止聚集。辅助分散剂可以是氟化表面活性剂、氟化聚合物、硅酮聚合物或硅油。这样一种方法也是有效的在少量分散溶剂中预先将氟化树脂和上述辅助分散剂分散、搅拌并混合，然后将如此得到的分散体与通过将电荷传输材料、粘结剂用树脂和分散溶剂混合并溶解所形成的溶液一起搅拌并混合，然后采用上述方法进行分散。
用于形成电荷传输层32的涂布方法可以是，例如，浸渍涂布法、喷水器(fountain)挤出涂布方法、喷涂法、辊涂法、线绕棒涂布法、凹版涂布法、涂边涂布法、幕涂法、刮板涂布法或气刀刮涂法。
电荷传输层32的膜厚优选为5μm～-50μm，更优选为10μm～45μm。
此外，在本发明的电子照相感光体中，可以将诸如抗氧剂或光稳定剂等添加剂加入至感光层3中，其目的是为了防止由电子照相装置中所产生的臭氧或氧化性气体所导致的电子照相感光体的劣化，或由光或热所导致的劣化。
抗氧剂可以是，例如，受阻酚、受阻胺、对苯二胺、芳基烷烃、对苯二酚、螺苯并呋喃(spirocumaron)、螺二氢茚酮(spiroindanone)、以及上述化合物的衍生物、有机硫化合物或有机磷化合物。
在酚抗氧剂中，抗氧剂的具体例子包括2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、苯乙烯化苯酚、正十八烷基-3-(3′，5′-二叔丁基-4′-羟基苯基)丙酸酯、2，2′-亚甲基-二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2-叔丁基-6-(3′-叔丁基-5′-甲基-2′-羟基苄基)-4-甲基苯基丙烯酸酯、4，4′-亚丁基-二-(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、4，4′-硫-二-(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、1，3，5-三(4-叔丁基-3-羟基-2，6-二甲基苄基)异氰脲酸酯、四-[亚甲基-3-(3′，5′-二叔丁基-4′-羟基苯基)丙酸酯]-甲烷、和3，9-二[2-[3-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙酰氧基]-1，1-二甲基乙基]-2，4，8，10-四氧杂螺[5，5]十一烷。
受阻胺化合物包括二(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、二(1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、1-[2-[3-(3，5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰氧基]乙基]-4-[3-(3，5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰氧基]-2，2，6，6-四甲基哌啶、8-苄基-7，7，9，9-四甲基-3-辛基-1，3，8-三氮杂螺[4，5]十一烷-2，4-二酮、4-苯甲酰氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶、二甲基琥珀酸酯-1-(2-羟乙基)-4-羟基-2，2，6，6-四甲基哌啶缩聚物、聚[{6-(1，1，3，3-四甲基丁基)亚氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二戊基}]{(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚氨基}六亚甲基{(2，3，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚氨基}]、2-(3，5-二叔丁基-4-羟基苄基)-2-正丁基丙二酸酯二(1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基)和N，N′-二(3-氨基丙基)乙二胺-2，4-二[N-丁基-N-(1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基)氨基]-6-氯-1，3，5-三嗪缩合物。
有机含硫抗氧剂的例子包括二月桂基-3，3′-硫代二丙酸酯、二肉豆蔻基-3，3′-硫代二丙酸酯、二硬脂基-3，3′-硫代二丙酸酯、季戊四醇-四(β-月桂基-硫代丙酸酯)、双十三烷基-3，3′-硫代二丙酸酯和2-巯基苯并咪唑。
并且有机含磷抗氧剂的例子包括三壬基苯基亚磷酸酯、亚磷酸三苯酯和三(2，4-二叔丁基苯基)亚磷酸酯。
有机含硫抗氧剂或有机含磷抗氧剂被称为辅助抗氧剂，它可以与酚型或胺型主抗氧剂结合使用以获得倍增效果。
光稳定剂可以是二苯甲酮、苯并三唑、二硫代氨基甲酸酯或四甲基哌啶的衍生物。
二苯甲酮类光稳定剂的例子包括2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-辛氧基二苯甲酮和2，2′-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮。
苯并三唑类光稳定剂的例子包括2-(2′-羟基-5′-甲基苯基)-苯并三唑、2-[2′-羟基-3′-(3″，4″，5″，6″-四-氢邻苯二甲酰亚胺甲基)-5′-甲基苯基]-苯并三唑、2-(2′-羟基-3′-叔丁基-5′-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑、2-(2′-羟基-3′，5′-二叔丁基苯基)-苯并三唑、2-(2′-羟基-5′-叔辛基苯基)-苯并三唑和2-(2′-羟基-3′，5′-二叔戊基苯基)-苯并三唑。
其它化合物包括2，4-二叔丁基苯基-3′，5′-二叔丁基-4′-羟基苯甲酸酯和二叔丁基-二硫代氨基甲酸镍。
为了改善感光度，降低残余电位并降低由反复使用所产生的疲劳，至少还可以包括电子受体物质。
该电子受体物质可以是，例如，琥珀酸酐、马来酸酐、二溴马来酸酐、邻苯二甲酸酐、四溴邻苯二甲酸酐、四氰基乙烯、四氰基对苯醌二甲烷、邻二硝基苯、间二硝基苯、氯醌、二硝基蒽醌、三硝基芴酮、苦味酸、邻硝基苯甲酸、对硝基苯甲酸或邻苯二甲酸。其中，特别优选的是芴酮化合物、醌化合物和具有诸如Cl、CN或NO2等吸电子取代基的苯衍生物。
为了防止充电时在电荷传输层中的化学变化，以及为了改善感光层的机械强度，在层状结构的电子照相感光体中使用了保护层5，从而进一步增强了表面层的耐磨性和耐划性。
可以由作为含有可固化树脂和电荷传输化合物的树脂固化膜来形成保护层5，或者由包含在合适的粘结剂用树脂中的导电材料所构成的膜来形成保护层5，但更优选采用含有电荷传输化合物的膜。
可固化树脂可以是任何已知的树脂，但考虑到强度、电学特性和图像质量的恒定性，优选是具有交联结构的树脂，例如酚醛树脂、聚氨脂树脂、三聚氰胺树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂或硅氧烷树脂。
其中，含有硅氧烷树脂的保护层5是更优选的，该硅氧烷树脂含有具有电荷传输潜力的结构单元和交联结构。
保护层5优选是包括由如下通式(I-1)或(I-2)所表示的化合物的固化膜·通式(I-1) F-[D-Si(R2)(3-a)Qa]b其中，在通式(I-1)中，F表示衍生自光功能化合物的有机基团；D表示柔性亚单元；R2表示氢原子、烷基或取代的或未取代的芳基；Q表示可水解的基团；a表示1～3的整数；b表示1～4的整数；·通式(I-2) F-[(X)nR1-ZH]m其中，在通式(I-2)中，F表示衍生自光功能化合物的有机基团；R1表示亚烷基；Z表示氧原子、硫原子、NH、CO2或COOH；m表示1～4的整数；X表示氧原子或硫原子；n表示0或1。
在通式(I-1)或(I-2)中，F表示具有光电性质的单元，更具体地是具有光载流子传输性质的单元，并且可以应用作为电荷传输材料的已知结构。更具体地，可以采用具有空穴传输性能的化合物的骨架，例如三芳基胺化合物、联苯胺化合物、芳基烷烃化合物、具有芳基取代基的乙烯化合物、茋化合物、蒽化合物或腙化合物，及具有电子传输性能的化合物的骨架，例如醌化合物、芴酮化合物、呫吨酮化合物、二苯甲酮化合物、氰基乙烯基化合物或乙烯化合物。
在通式(I-1)中，-Si(R2)(3-a)Qa表示含有可水解基团的带取代基的硅基团，其中带取代基的硅原子可以引起与Si基团的相互的交联反应，由此形成三维Si-O-Si键。因此，带取代基的硅基团用于在保护层5中形成所谓的无机玻璃状网络。
在通式(I-1)中，D表示柔性亚单元，更具体地是有机基团，该有机基团用于将用来实现光电性质的F部分与带取代基的硅基团相连接，该带取代基的硅基团直接与三维无机玻璃状网络相连接，并为既硬且脆的无机玻璃状网络提供适当的挠性并改善膜的韧性。
更具体地，单元D可以是由-CnH2n-、-CnH(2n-2)-或-CnH(2n-4)-表示的二价烃基(其中n表示1～15的整数)、-COO-、-S-、-O-、-CH2-C6H4-、-N＝CH-、-(C6H4)-(C6H4)-、通过将这些基团任意组合所形成的特征基团或其中的结构原子具有另一种取代基的特征基团。
在通式(I-1)中，b优选大于或等于2。在b大于或等于2的情况下，由通式(I-1)表示的光功能硅酮化合物含有两个或两个以上的Si原子，因此更容易形成无机玻璃状网络并增大其机械强度。
在通式(I-1)和(I-2)中，其中具有由如下通式(I-3)所表示的有机基团F的化合物是特别优选的。由通式(I-3)所表示的化合物是具有空穴传输性能的化合物(空穴传输材料)，对于保护层5的光电性质和机械性能的改善来说，保护层5中含有该化合物是优选的。
通式(I-3)在通式(I-3)中，Ar1～Ar4各自独立地表示带取代基的或未带取代基的芳基；Ar5表示带取代基的或未带取代基的芳基或亚芳基，其中Ar1～Ar5中的两个到四个含有由-D-Si(R2)(3-a)Qa表示的键合基团；D表示柔性亚单元；R2表示氢原子、烷基、或带取代基的或未带取代基的芳基；Q表示可水解的基团；a表示1～3的整数。
在通式(I-3)中，Ar1～Ar5优选由下列通式(I-4)～(I-10)表示。
在(I-4)～(I-10)中，各个R5独立地表示选自氢原子、含有1个～4个碳原子的烷基、具有1个～4个碳原子的烷基取代基或1个～4个碳原子的烷氧基取代基的苯基、未带取代基的苯基和含有7个～10个碳原子的芳烷基等基团；R6表示选自氢原子、含有1个～4个碳原子的烷基、含有1个～4个碳原子的烷氧基和卤原子等基团；X表示具有由-D-Si(R2)(3-a)Qa表示的结构的特征基团；m和s各自表示0或1；t表示1～3的整数。
在通式(I-10)中，Ar优选为由如下通式(I-11)～(I-12)表示的基团。
在通式(I-11)和(I-12)中，R6具有与前述R6相同的含义；t表示1～3的整数。
在通式(I-10)中，Z′优选为由如下通式(I-13)～(I-14)所表示的基团。
并且，在通式(I-4)～(I-10)中，各个X表示具有由上述-D-Si(R2)(3-a)Qa表示的结构的特征基团。在这样的特征基团中，D表示由-C1H21-、-CmH(2m-2)-或-CnH(2n-4)-表示的二价烃基(其中l表示1～15的整数，m表示2～15的整数和n表示3～15的整数)、-N＝CH-、-O-、-COO-、-S-、-(CH)β-(β表示1～10的整数)、或由上述通式(I-11)或(I-12)或如下通式(I-13)和(I-14)表示的特征基团。
在通式(I-14)中，y和z各自表示1～5的整数；t表示1～3的整数；如上所述，R6表示选自氢原子、含有1个～4个碳原子的烷基、含有1个～4个碳原子的烷氧基和卤原子的基团。
在通式(I-3)中，Ar5表示带取代基的或未带取代基的芳基或亚芳基，并且在k＝0的情况下，优选具有与如表4所示的任一通式(I-15)～(I-19)相应的基团，和在k＝1的情况下，优选具有与如表5所示的任一通式(I-20)～(I-24)相应的基团。
在通式(I-15)～(I-24)中，各个R5独立地表示选自氢原子、含有1个～4个碳原子的烷基、具有含有1个～4个碳原子的烷基取代基或含有1个～4个碳原子的烷氧基取代基的苯基、未带取代基的苯基和含有7个～10个碳原子的芳烷基的原子或基团。R6表示选自氢原子、含有1个～4个碳原子的烷基、含有1个～4个碳原子的烷氧基和卤原子的原子或基团。s是0或1；t是1～3的整数。
并且在通式(I-3)中，当Ar5假定为如表4中的通式(I-15)～(I-19)和表5中的(I-20)～(I-24)所示的任意一种结构时，通式(I-19)和(I-24)中的Z′优选是选自如下通式(I-25)～(I-32)所表示的基团。

在通式(I-31)和(I-32)中，各个R7表示选自氢原子、含有1个～4个碳原子的烷基、含有1个～4个碳原子的烷氧基和卤原子的基团；W表示二价基团；q和r各自表示1～10的整数；t′表示1～2的整数。
在通式(I-31)和(I-32)中，W优选是由如下通式(I-33)～(I-41)表示的任意一种二价基团。在通式(I-40)中，s′表示0～3的整数。
-CH2- (I-33)-C(CH3)2-(I-34)-O- (I-35)-S- (I-36)-C(CF3)2-(I-37)-Si(CH3)2- (I-38)[表7]
由通式(I-3)表示的化合物的具体例子还在JP-A-2001-83728中，由表1-55中所示的化合物Nos.1-274所给出。
由通式(I-1)表示的电荷传输化合物可以单独使用或两种或两种以上组合使用。
为了进一步改善固化膜的机械强度，可以采用由如下通式(II)表示的化合物与由通式(I-1)表示的电荷传输化合物相组合。
·通式(II) B-(Si(R2)(3-a)Qa)2在通式(II)中，B表示二价有机基团；R2表示氢原子、烷基或者带取代基的或未带取代基的芳基；Q表示可水解的基团；a表示1～3的整数。
由通式(II)表示的化合物优选为由如下通式(II-1)～(II-5)表示的化合物，但本发明并不局限于该结构。
在通式(II-1)～(II-5)中，T1和T2各自独立地表示可以被枝化的二价或三价烃基；A表示如上所述的具有可水解性能的带取代基的硅基团；h、i和j各自独立地表示1～3的整数。如此选择由通式(II-1)-(II-5)表示的化合物，使得分子中A的数目大于或等于2。

下面，由通式(II)表示的化合物的优选的具体例子如表9和表10中的下列通式(III-1)～(III-19)所示。在表9和表10中，Me、Et和Pr各自表示甲基、乙基和丙基。


可以采用能够进行交联反应的另一种化合物与由通式(I-1)或(I-2)表示的化合物组合使用。该化合物可以是硅烷偶联剂，或市售的硅酮硬涂布剂。
硅烷偶联剂可以是乙烯基三氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-β(氨乙基)γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷或二甲基二甲氧基硅烷。
市售的硬涂布剂可以是KP-85、CR-39、X-12-2208、X-40-9740、X-41-1007、KNS-5300、X-40-2239(由Shin-etsu Chemical Co.制造)、AY42-440、AY42-441和AY49-208(由Dow Corning Toray Silicone Co.制造)。
在保护层5中，可以加入含氟原子的化合物，其目的是为了提供表面润滑性能。表面润滑性能的增加可以降低与清洁元件的摩擦系数并且可以改善耐磨性。它还具有可以防止放电产物、显影剂和纸粉尘沉积到电子照相感光体表面上的效果，由此延长了其使用寿命。
作为含氟化合物的具体例子，可以直接加入诸如聚四氟乙烯等含氟原子的聚合物，或加入该聚合物的微粒。
当保护层5是由通式(I)表示的化合物所形成的固化膜时，优选加入能够与烷氧基硅烷反应的含氟化合物，由此构成部分交联膜。
该含氟原子化合物的具体例子包括(十三氟-1，1，2，2-四氢辛基)三乙氧基硅烷、(3，3，3-三氟丙基)三甲氧基硅烷、3-(七氟异丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟烷基三乙氧基硅烷、1H，1H，2H，2H-全氟癸基三乙氧基硅烷和1H，1H，2H，2H-全氟辛基三乙氧基硅烷。
含氟化合物的加入量优选是小于或等于20质量％。过量则会导致交联固化膜成膜性能的缺陷。
上述的保护层5具有足够的抗氧化性能，但可以加入抗氧剂以获得更强的抗氧化性能。
抗氧剂优选是受阻酚型或受阻胺型，但也可以采用已知抗氧剂，例如有机硫类抗氧剂、亚磷酸酯抗氧剂、二硫代氨基甲酸酯抗氧剂、硫脲抗氧剂或苯并咪唑抗氧剂。抗氧剂的加入量优选是小于或等于15质量％，更优选小于或等于10质量％。
受阻酚型抗氧剂的例子包括2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2，5-二叔丁基对苯二酚、N，N′-六亚甲基二(3，5-二叔丁基-4-羟基氢化肉桂酰胺)、3，5-二叔丁基-4-羟基-苄基膦酸酯二乙基酯、2，4-二[(辛基硫代)甲基]-邻甲酚、2，6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2，2′-亚甲基二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2′-亚甲基二(4-乙基-6-叔丁基苯基)、4，4′亚丁基二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，5-二叔戊基对苯二酚、2-叔丁基-6-(3-丁基-2-羟基-5-甲基苄基)-4-甲基苯基丙烯酸酯和4，4′-亚丁基二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)。
在保护层5中，可以加入用于形成膜的其它已知的添加剂，例如均化剂、紫外吸收剂、光稳定剂和表面活性剂等。
通过在感光层上涂布上述材料与其它添加剂的混合物，随后加热而形成保护层5。以此方式诱发三维交联固化反应以形成牢固的固化膜。只要不影响下面的感光层，加热可以在任何温度下进行，但优选在室温至200℃，特别是100℃～160℃的温度下进行。
在保护层5的形成过程中，交联固化反应可以在不采用催化剂或采用合适的催化剂下进行。催化剂可以是诸如盐酸、硫酸、磷酸、甲酸、乙酸或三氟乙酸等酸催化剂；诸如氨水或三乙胺等碱；诸如二乙酸二丁基锡、二辛酸二丁基锡或辛酸亚锡等有机锡化合物；诸如钛酸四正丁酯或钛酸四异丙酯等有机钛化合物；或有机羧酸的铁盐、锰盐、钴盐、锌盐、锆盐或铝螯合物化合物。
在保护层5中，为了便于涂布，如果需要可以加入溶剂。更具体地可以采用水或诸如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲乙酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、二甲醚或二丁基醚等普通有机溶剂。该溶剂可以单独使用或以两种或两种以上的混合物使用。
在保护层5的形成过程中，涂布可以通过诸如刮板涂布、迈耶棒涂布、喷涂、浸涂、涂边涂布、气刀刮涂或幕涂等普通涂布方法进行。
保护层5的厚度为0.5μm～20μm，优选为2μm～10μm。
在电子照相感光体7中，为了获得高分辩率，包括电荷产生层31及其上面部分的功能层的厚度为小于或等于50μm，优选为小于或等于40μm。当功能层较薄时，本发明的颗粒分散底涂层与高强度的保护层5可以特别有效地结合。
电子照相感光体7并不限于上述结构。例如，可以构建没有中间层4和/或保护层5的电子照相感光体7。更具体地，可以采用在导电基板1上具有底涂层2和感光层3的结构，在导电基板1上依次具有底涂层2、中间层4和感光层3的结构，或在导电基板1上依次具有底涂层2、感光层3和保护层5的结构。
电荷产生层31和电荷传输层32还可以采用相反的顺序叠置。感光层3还可具有单层结构。在此情况下，感光层上可以具有保护层，或同时具有底涂层和保护层。如上所述，还可以在底涂层上提供中间层。
(电子照相装置)图2是本发明的电子照相装置的优选实施方案的示意图。如图2所示的电子照相装置100具有以可旋转形式提供的本发明的鼓形(圆筒形)电子照相感光体7。在电子照相感光体7周围，沿其外周面的运动方向具有充电设备8、曝光设备10、显影设备11、转印设备12、清洁设备13和电荷消除器(清除设备)14。
可以使用电晕充电型的充电设备8对电子照相感光体7进行充电。充电设备8可以由电晕管充电器或scorotron充电器构成。将充电设备8与电源9相连接。
曝光设备10对经充电的电子照相感光体7进行曝光，由此在其上形成静电潜像。
显影设备11采用显影剂对静电潜像进行显影以形成调色剂图像。显影剂优选含有通过聚合法获得的体积平均粒径为3μm～9μm的调色剂颗粒。
转印设备12将显影在电子照相感光体7上的调色剂图像转印至转印介质上。
清洁设备13在转印之后除去残留在电子照相感光体7上的调色剂。清洁设备13优选具有在10g/cm～150g/cm的线压下与电子照相感光体7保持接触的叶片组件。
电荷消除器(清除设备)14清除电子照相感光体7上的保留电荷。电子照相装置100具有在转印之后，将调色剂图像定影到转印介质上的定影设备15。
图3是本发明的电子照相装置的另一优选实施方案的示意图。除了配备有以接触法对电子照相感光体7充电的充电设备8′以外，图3所示的电子照相装置110在结构上与图2所示的电子照相装置100相似。在采用与交流电压相迭加的直流电压的接触式充电设备的电子照相装置110中，由于抗漏电性优异，因此可以方便地采用电子照相感光体7。在此情况下，可以不配备电荷消除器14。
在接触充电法中，可以采用辊形、叶片形、带形、刷形或磁刷形等充电组件。特别是在使用辊形或叶片形充电组件的情况下，对于感光体，该充电组件可以以接触状态或以距其特定间隙(100μm或更小)的非接触状态而布置。
辊形、叶片形或带形的充电组件由已调整到适合于充电组件的电阻(103Ω～108Ω)的材料构成，且可以由单个层或多个层构成。
可以用混合有适量的诸如导电性碳、金属氧化物或离子导电性材料等用于提供导电性的材料的弹性体或聚烯烃、聚苯乙烯或聚氯乙烯来形成该充电组件，由此显示出作为充电组件的有效的导电性，所述弹性体由诸如聚氨酯橡胶、硅橡胶、氟化橡胶、氯丁二烯橡胶、丁二烯橡胶、三元乙丙橡胶(EPDM)或表氯醇橡胶等合成橡胶构成。
也可以制备诸如尼龙、聚酯、聚苯乙烯、聚氨酯或聚硅酮等涂料，在其中混合适量的诸如导电性碳、金属氧化物或离子导电性材料等用于提供导电性的材料，并通过诸如浸涂、喷涂或辊涂等任意方法对如此获得的涂料进行层合。
另一方面，可以通过对已被赋予导电性的已知的丙烯酸树脂、尼龙或聚酯的纤维进行氟浸渍处理，然后采用已知方法种植该纤维来制备刷形充电组件。氟浸渍处理可以在将纤维形成为刷形充电组件之后进行。
刷形充电组件在此包括辊形组件和在平板上种植有纤维的充电组件，并且不限于特定的形状。磁刷形充电组件还含有放射性地布置在内含多极磁体的圆筒外周面上的具有磁力的铁氧体或磁铁，且优选在形成为磁刷之前对铁氧体或磁铁进行氟浸渍处理。
图4是本发明的电子照相装置的又一优选实施方案的示意图。电子照相装置200是采用中间转印法的串联式电子照相装置。在外壳220中，将四个电子照相感光体201a～201d(例如201a用于黄色成像，201b用于品红色成像，201c用于青色成像和201d用于黑色成像)沿着中间转印带209相互平行地设置。
对于将可见图像转印到诸如纸等转印片材上，转印鼓法是已知的，其中将诸如纸等转印片材卷绕在转印鼓上，并将感光体上的各个颜色的可见图像转印到该转印片材上。在此情况下，为了将可见图像从感光体转印至转印片材，转印鼓必须旋转多圈，但在串联式中间转印法中，中间转印组件209旋转一圈即可实现从多个感光体201a～201d的转印。由于由此可以得到更高的转印速度，并且具有不必像转印鼓法那样对转印介质进行选择的优点，因此该转印方法在今后是很有前途的。
安装在电子照相装置200中的电子照相感光体201a～201d各自与电子照相感光体7相似。
电子照相感光体201a～201d各自在预定方向上旋转(附图中为逆时针方向)，并且，将充电辊202a～202d、显影设备204a～204d、一次转印辊210a～210d和清洁设备215a～215d沿旋转方向布置。可以将分别容纳于调色剂盒205a～205d中的黄色、品红色、青色和黑色等四种颜色的调色剂分别提供给显影设备204a～204d。一次转印辊210a～210d还可以穿过中间转印带209分别与电子照相感光体201a～201d接触。
在外壳220的预定位置布置激光源(曝光设备)203。如此引导从激光源203发出的激光使其在充电之后照射电子照相感光体201a～201d的表面，由此在电子照相感光体201a～201d的旋转过程中依次进行充电、曝光、显影、初次转印和清洁等步骤，并以叠加的方式将各个颜色的调色剂图像转印到中间转印带209上。
在预定张力下用传动辊206，垫辊208和张力辊207支持中间转印带209，使其可以通过这些辊的旋转而不停滞地旋转。将二次转印辊213穿过中间转印带209与垫辊208接触设置。
当中间转印带209从垫辊208与二次转印辊213中间通过之后，用例如布置在传动辊206附近的清洁叶片216对其进行表面清洁，然后在下一次成像过程中再次使用。
在外壳220中的预定位置提供托盘(转印介质托盘)211，并将容纳在托盘211中的诸如纸等转印介质230，通过传送辊212在中间转印带209和二次转印辊213之间的通路及相互接触的两个定影辊214之间进行传送，然后排出到外壳220的外部。
在上述内容中，已经对其中将中间转印带209用作中间转印组件的情况进行了解释，但是可以将中间转印组件制成如中间转印带209的带形(例如环形带)，也可以制成豉形。在采用诸如中间转印带209的带形结构作为中间转印组件的情况下，该带的厚度优选为50μm～500μm，更优选为60μm～150μm。带的厚度可以根据材料的硬度适当地选择。在采用鼓形结构作为中间转印组件的情况下，基板优选是由例如铝、不锈钢(SUS)或铜形成的圆筒状基板制成。在该圆筒状基板上，如果需要可以具有弹性层，可以将表面层形成在该弹性层上。
本发明所述的转印介质是可以将电子照相感光体上所形成的调色剂图像转印到其上的任何介质。例如，在从电子照相感光体直接转印到相纸等上的情况下，该纸等即构成转印介质，并且在采用中间转印组件的情况下，该中间转印组件即构成转印介质。
作为构成上述环形带的材料，可以提出诸如聚碳酸酯树脂(PC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚邻苯二甲酸亚烷基酯、PC/聚邻苯二甲酸亚烷基酯(PAT)共混物或乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)等热塑性材料的半导电的环形带。
日本专利特许2560727和JP-A-5-77252也提出了一种中间转印组件，其中将普通炭黑作为导电粉末分散在聚酰亚胺树脂中。
由于具有高扬氏模量的聚酰亚胺树脂在驱动时(在支持辊、清洁叶片等的压力下)变形较小，因此可以获得不容易引起诸如色象差等图像缺陷的中间转印组件。聚酰亚胺树脂通常由四羧酸二酐或其衍生物与二元胺在溶剂中以大约等摩尔量进行聚合反应，并作为聚酰胺酸溶液而获得。四羧酸二酐可以，例如，由如下通式(IV)表示[化学式5] 在通式(IV)中，R表示选自脂肪族直链烃基、脂环族烃基、芳香族烃基和其上键合有取代基的该烃基等四价有机基团。
四羧酸二酐的具体例子包括均苯四酸二酐、3，3′，4，4′-二苯甲酮四羧酸二酐、3，3′，4，4′-联苯四羧酸二酐、2，3，3′，4′-联苯四羧酸二酐、2，3，6，7-萘四羧酸二酐、1，2，5，6-萘四羧酸二酐、1，4，5，8-萘四羧酸二酐、2，2′-二(3，4-二羧基苯基)磺酸二酐、苝-3，4，9，10-四羧酸二酐、二(3，4-二羧基苯基)醚二酐和亚乙基四羧酸二酐。
另一方面，二元胺的具体例子包括4，4′-二氨基二苯基醚、4，4′-二氨基二苯基甲烷、3，3′-二氨基二苯基甲烷、3，3′-二氯联苯胺、4，4′-二氨基二苯基硫醚、3，3′-二氨基二苯基砜、1，5-二氨基萘、间苯二胺、对苯二胺、3，3′-二甲基-4，4′-联苯二胺、联苯胺、3，3′-二甲基联苯胺、3，3′-二甲氧基联苯胺、4，4′-二氨基二苯基砜、4，4′-二氨基二苯基丙烷、2，4-二(β-氨基-叔丁基)甲苯、二(对-β-氨基-叔丁基苯基)醚、二(对-β-甲基-δ-氨基苯基)苯、二-对-(1，1-二甲基-5-氨基戊基)苯、1-异丙基-2，4-苯二胺、间二甲苯二胺、对二甲苯二胺、二(对氨基环己基)甲烷、六亚甲基二胺、七亚甲基二胺、八亚甲基二胺、九亚甲基二胺、十亚甲基二胺、二氨基丙基四亚甲基、3-甲基七亚甲基二胺、4，4-二甲基七亚甲基二胺、2，11-二氨基十二烷、1，2-二-3-氨基丙氧基乙烷、2，2-二甲基亚丙基二胺、3-甲氧基六亚甲基二胺、2，5-二甲基七亚甲基二胺、3-甲基七亚甲基二胺、5-甲基九亚甲基二胺、2，17-二氨基二十烷、1，4-二氨基环己烷、1，10-二氨基-1，10-二甲基癸烷、1，2-二氨基十八烷、2，2-二[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、哌啶、H2N(CH2)30(CH2)20(CH2)NH2、H2N(CH2)3S(CH2)3NH2和H2N(CH2)3N(CH3)2(CH2)3NH2。
考虑到溶解度等，四羧酸二酐与二元胺的聚合反应所使用的溶剂有利地是极性溶剂。极性溶剂优选是N，N-二烷基酰胺，更具体地是低分子量的N，N-二烷基酰胺，例如N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二乙基甲酰胺、N，N-二乙基乙酰胺、N，N-二甲基甲氧基乙酰胺、二甲亚砜、六甲基膦酰基三酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、吡啶、四亚甲基砜和二甲基四亚甲基砜。该溶剂可以单独使用或两种或两种以上组合使用。
中间转印组件在聚酰亚胺树脂中含有经氧化处理的炭黑。经氧化处理的炭黑可以通过对炭黑进行氧化处理而获得，由此向其表面提供含氧官能团(例如羧基、醌基、内酯基或羟基)。
该氧化处理可以通过以下方法来进行例如在高温环境中与空气接触并反应的空气氧化法、在常温下与氧化氮或臭氧接触的方法或在高温下的空气氧化之后再进行低温臭氧氧化的方法。
经氧化的炭的例子包括三菱化学(Mitsubishi Chemical Corp.)的以下产品，例如MA100(pH 3.5，挥发物1.5％)、MA100R(pH 3.5，挥发物1.5％)、MA100S(pH 3.5，挥发物1.5％)、#970(pH 3.5，挥发物3.0％)、MA11(pH 3.5，挥发物2.0％)、#1000(pH 3.5，挥发物3.0％)、#2200(pH 3.5，挥发物3.5％)、MA230(pH 3.0，挥发物1.5％)、MA220(pH3.0，挥发物1.0％)、#2650(pH 3.0，挥发物8.0％)、MA7(pH 3.0，挥发物3.0％)、MA8(pH 3.0，挥发物3.0％)、OIL7B(pH 3.0，挥发物6.0％)、MA77(pH 2.5，挥发物3.0％)、#2350(pH 2.5，挥发物7.5％)、#2700(pH 2.5，挥发物10.0％)、和#2400(pH 2.5，挥发物9.0％)；Degussa AG的以下产品，例如Printex 150T(pH 4.5，挥发物10.0％)、Special Black 350(pH 3.5，挥发物2.2％)、Special Black 100(pH 3.3，挥发物2.2％)、SpecialBlack 250(pH 3.1，挥发物2.0％)、Special Black 5(pH 3.0，挥发物15.0％)、Special Black 4(pH 3.0，挥发物14.0％)、Special Black 4A(pH 3.0，挥发物14.0％)、Special Black 550(pH 2.8，挥发物2.5％)、Special Black 6(pH 2.5，挥发物18.0％)、Color Black FW200(pH 2.5，挥发物20.0％)、Color Black FW2(pH 2.5，挥发物16.5％)、Color Black FW2V(pH 2.5，挥发物16.5％)；和Cabot Corp.的产品，例如Monarch 1000(pH 2.5，挥发物9.5％)、Monarch 1300(pH 2.5，挥发物9.5％)、Monarch 1400(pH 2.5，挥发物9.0％)、Mogul-L(pH 2.5，挥发物5.0％)、和Regal 400R(pH 4.0，挥发物3.5％)。
由此获得的该经氧化处理的炭黑几乎不受由反复施加电压下局部电流过量所引起的氧化作用的影响。存在于表面上的含氧官能团增大了在聚酰亚胺树脂中的分散性以降低电阻的波动和对电场的依赖性，由此降低了由转印电压产生的电场密度。
其结果是，可以获得这样的中间转印介质，该中间转印介质能够防止由转印电压所引起的电阻下降，改善电阻的均匀性，减小对电场的依赖性，减小由环境造成的电阻变化，并提供减少了诸如在纸张的运行部分中图像上的白色条纹等图像缺陷的高质量图像。在含有至少两种经氧化处理的炭黑的情况下，该经氧化处理的炭黑优选具有基本不同的导电率，并且诸如氧化处理的程度、DBP油的吸收或基于氮气吸收的BET比表面积等物理性质也不同。
在加入两种或多种物理性质不同的炭黑的情况下，可以例如首先加入具有高电导率的炭黑，然后加入具有低电导率的炭黑，由此对表面电阻等进行调节。
经氧化处理的炭黑的具体例子包括Special Black 4(由Degussa AG制造，pH 3.0，挥发物14.0％)和Special Black 250(由Degussa AG制造，pH 3.1，挥发物2.0％)。相对于聚酰亚胺树脂，该经氧化处理的炭黑的含量优选为10质量％～50质量％，更优选为12质量％～30质量％。含量小于10质量％可使电阻的均匀性劣化，由此导致在长期使用中表面电阻的大量损失，然而，在含量超过50质量％时，则难以获得所需的电阻并且成型产物变得脆性不佳。
其中分散有经氧化处理的炭黑的聚酰亚胺树脂的中间转印组件可以由如下步骤获得制备其中分散有经氧化处理的炭黑的聚酰胺酸溶液的步骤，在圆筒形模具的内周面上形成膜(层)的步骤，以及进行酰亚胺化的步骤。
为生产其中分散有两种或多种类型的经氧化处理的炭黑的聚酰胺酸溶液，据信可以采用使酸二酐组分和二元胺组分在分散液中溶解并聚合的方法，其中在所述分散液中预先将两种或多种类型的经氧化处理的炭黑分散在溶剂中，也可以采用将两种或多种类型的经氧化处理的炭黑各自分散在溶剂中，由此制备两种或多种炭黑分散液，然后在各个分散液中使酸二酐组分与二元胺组分溶解并聚合，并将聚酰胺酸溶液混合的方法，并且这些方法可以适当地进行选择以获得其中分散有炭黑的聚酰胺酸溶液。
将由此获得的聚酰胺酸溶液施加并展开在圆筒形模具的内周面上以形成膜，然后对膜进行加热以进行聚酰胺酸的酰亚胺化。在该酰亚胺化加热步骤中，通过在使恒定温度保持0.5小时或0.5小时以上的加热条件下进行酰亚胺化，可以获得具有良好的表面平整度的中间转印组件。下面将详细描述该方法。
首先将聚酰胺酸溶液施加到圆筒形模具的内周面上。该施加方法可以适当地进行选择，例如通过分配器或通过模头施加。在此步骤中所采用的圆筒形模具的内周表面优选经过镜面抛光。
然后例如通过加热下的离心成型法、采用弹丸状流槽的成型法或旋转成型法将如此施加的聚酰胺酸溶液形成为厚度均匀的膜。随后在干燥器中将在其内周面上承载有膜的模具加热至可以进行酰亚胺化的温度，或除去溶剂直到膜可以保持带状，然后将膜从模具的内周面剥离，并将膜放置在金属圆筒的外周面上，将膜与金属圆筒一起加热，由此完成酰亚胺化。为了获得外表面具有良好的平整度和精度的中间转印组件，除去溶剂直到膜可以保持带状，然后再将膜放置在金属圆筒的外周面上，并进行酰亚胺化的方法是优选的。
在除去溶剂的步骤中对加热条件不作特别限制，只要是可以除去溶剂即可，但优选是在80℃～200℃加热0.5～5小时。然后将可以保持带状的已成型物质从模具的内周面剥离。在此操作中，可以对模具的内周面施加脱模处理。
然后将经过加热和固化直到可以保持带状的已成型物质，再放置到金属圆筒的外周面上并与该金属圆筒一起加热，由此引起聚酰胺酸的酰亚胺化反应。
在此步骤中所采用的金属圆筒优选具有比聚酰亚胺树脂更大的线性膨胀系数，并将其外径设定为在一定程度上小于聚酰亚胺已成型物质的内径，由此实现热定形并获得厚度均匀的均匀环形带。在此步骤中所采用的金属圆筒在外表面上的表面粗糙度(Ra)优选为1.2μm～2.0μm。在金属圆筒的外表面上的表面粗糙度(Ra)小于1.2μm的情况下，由于金属圆筒本身过度平整，因此所得到的带形中间转印组件不会产生由金属圆筒轴向收缩所引起的滑移，由此在此步骤中会产生延展，导致膜厚度的波动和平整度精度的劣化。
另一方面，在金属圆筒的外表面上的表面粗糙度(Ra)超过2.0μm的情况下，金属圆筒的外表面图案可以转印到带形中间转印组件的内表面上并可以在其外表面上产生不规则性，因此会诱发图像缺陷。如此制备的其中分散有炭黑的聚酰亚胺树脂的带形中间转印组件在外表面上的表面粗糙度(Ra)为小于或等于1.5μm。
表面粗糙度按照JIS B601进行测量。中间转印组件的表面粗糙度(Ra)超过1.5μm会诱发诸如有干扰图象等图像缺陷。据推测这是因为由在转印步骤所施加的电压或由剥离放电产生的电场，在带的突出部局部集中而改变了该部分的表面，由此产生具有更低电阻的新的导电通路并诱发更低的图像浓度，因此在整个图像上具有噪声印记。
进行酰亚胺化的加热步骤优选采用220℃～280℃的加热温度和0.5小时～2小时的加热时间。尽管还取决于聚酰亚胺树脂的组成，但在此范围的加热条件下酰亚胺化时的收缩最大，由此实现带在其轴向上的逐渐收缩，因此避免了膜厚度和平整度精度的劣化。
在该加热步骤之后，中间转印组件的平整度为小于或等于5mm，优选为小于或等于3mm。平整度为小于或等于5mm不会产生噪声且几乎没有颜色间的色差。然而，当带的边缘部分向上或向下卷曲时，平整度为小于或等于5mm的带偶尔会留下与附近组分接触的痕迹，尽管这样的带使用过程中不会显示出损坏。平整度为小于或等于3mm的中间转印组件不会产生与附近部件的接触和很少出现颜色间的色差。
(处理盒)下面将对含有本发明的电子照相感光体的处理盒进行说明。
图5是本发明的处理盒的优选实施方案的示意图。
处理盒300在外壳301中含有电子照相感光体7、充电设备8、显影设备11、清洁设备13和电荷消除器14，这些设备与导轨303相结合并一体化。处理盒300没有配备曝光设备，但在外壳301中含有用于曝光的小孔305。电子照相感光体7是本发明的上述电子照相感光体，该电子照相感光体至少在导电基板上具有底涂层和感光层，其中所述底涂层含有其上附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒。
将该处理盒300可分离地安装在包括转印设备12、定影设备15和未显示的其它组件的电子照相装置的主体上，并与该主体相配合构成电子照相装置。
(实施例)以下将参考实施例详细描述本发明，但应当理解本发明并不局限于这些实施例。
实施例1将100质量份氧化锌(由Teika Corporation制造，平均粒径为70nm，比表面积15m2/g)与500质量份四氢呋喃在搅拌下混合；再加入1.25质量份的硅烷偶联剂(KBM603由Shin-Etsu Chemical制造)；然后将混合物搅拌2小时。然后，在减压下蒸去四氢呋喃，并所得混合物在120℃焙烧3小时，以得到其表面经硅烷偶联剂处理的氧化锌颜料。
将100质量份经表面处理的氧化锌与500质量份四氢呋喃在搅拌下混合，加入将1质量份的茜素溶解于50质量份的四氢呋喃而形成的溶液，在50℃将混合物搅拌5小时。然后，在减压下通过减压过滤分离出附着有茜素的氧化锌，并在60℃减压干燥，以得到附着有茜素的氧化锌颜料。
将13.5质量份的硬化剂(封端异氰酸酯，Sumidur 3173由SumitomoBayer Urethane Co.制造)和15质量份的丁醛树脂(BM-1由SekisuiChemical Co.制造)溶解在85质量份的甲乙酮中制成溶液，将38质量份的该溶液、60质量份附着有茜素的氧化锌颜料和25质量份的甲乙酮在砂磨机中用1mm直径的玻璃珠混合并分散2小时以得到分散液。
向所得的分散液中加入作为催化剂的0.005质量份的二月桂酸二辛基锡和40质量份的硅酮树脂颗粒Tospearl 145(由GE Toshiba Silicones制造)，以得到底涂层涂布液。将所述涂布液通过浸涂法涂布在直径为30mm、长度为340mm和厚度为1mm的铝基板上，并在170℃干燥硬化40min，以得到厚度为25μm的底涂层。
然后，在底涂层上形成感光层。首先，将15质量份作为电荷产生物质的羟基镓酞菁、10质量份作为粘结剂用树脂的氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH，由Nippon Unicar Co.，Ltd制造)与200质量份乙酸正丁酯的混合物在砂磨机中用1mm直径的玻璃珠分散4小时，所述羟基镓酞菁在CuKαX射线衍光谱中至少在7.3°、16.0°、24.9°和28.0°的布拉格角(2θ±0.2°)具有衍射峰。向所得到的分散体中加入175质量份乙酸正丁酯和180质量份甲乙酮，并对混合物进行搅拌以得到用于电荷产生层的涂布液。通过浸涂将用于电荷产生层的涂布液涂布在底涂层并在室温干燥，以得到厚度为0.2μm的电荷产生层。
将4质量份的N，N′-二苯基-N，N′-双(3-甲基苯基)-[1，1′]联苯基-4，4′-二胺和6质量份的双酚Z聚碳酸酯树脂(分子量40,000)溶于80质量份的氯苯中，得到涂布液，将该涂布液涂布到电荷产生层上，并在135℃干燥40分钟，以得到厚度为32μm的电荷传输层，从而制得电子照相感光体。
将如此获得的电子照相感光体装入由Fuji Xerox Co.，Ltd.制造的彩色打印机DocuCentre Color C400中进行打印测试，发现可以提供令人满意的图像质量，所述打印机含有接触型静电充电设备和中间转印设备。
在高温高湿度条件(28℃，40％相对湿度)和低温低湿度条件(15℃，10％相对湿度)下，对该电子照相感光体进行10,000次打印的连续打印测试，结果显示出优异的耐用性，没有产生图像浓度异常或者诸如灰雾或黑点等图像缺陷，也没有产生由漏电缺陷所产生的黑点。结果如表11所示。
实施例2-4除了用如表1所示的化合物来代替实施例1中的附着在用硅烷偶联剂进行了表面处理的氧化锌上的受体化合物以外，采用与实施例1相同的方式制备电子照相感光体，并评价其性能。结果如表11所示。
比较例1除了使用经硅烷偶联剂进行表面处理但未附着有茜素的氧化锌以外用与实施例1相同的方式制备电子照相感光体，并评价其性能。结果如表11所示。
表11

权利要求
1.一种电子照相感光体，所述电子照相感光体包括导电基板，并且在所述导电基板上至少包括底涂层和感光层，其中所述底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒。
2.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中所述电子受体化合物是具有醌基的化合物。
3.如权利要求2所述的电子照相感光体，其中所述具有醌基的化合物是具有蒽醌结构的化合物。
4.如权利要求3所述的电子照相感光体，其中所述具有蒽醌结构的化合物是选自羟基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物和氨基羟基蒽醌化合物中的至少一种化合物。
5.如权利要求3所述的电子照相感光体，其中所述具有蒽醌结构的化合物是选自蒽醌、茜素、醌茜、蒽绛酚、红紫素中的至少一种化合物。
6.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中在所述受体化合物附着之前，用偶联剂对所述金属氧化物微粒进行表面处理。
7.如权利要求6所述的电子照相感光体，其中所述偶联剂是硅烷偶联剂。
8.如权利要求7所述的电子照相感光体，其中所述硅烷偶联剂是具有氨基的硅烷偶联剂。
9.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中所述金属氧化物微粒含有选自氧化钛、氧化锌、氧化锡和氧化锆中的至少一种氧化物。
10.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中所述底涂层的厚度为大于或等于15μm。
11.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中，相对于所述金属氧化物微粒，电子受体化合物的附着量为0.01质量％～20质量％。
12.一种电子照相盒，所述电子照相盒包括电子照相感光体和接触式充电设备，该电子照相感光体至少包括导电基板，并且在所述导电基板上至少包括底涂层和感光层，其中所述底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒，所述接触式充电设备与电子照相感光体保持接触并用于对所述电子照相感光体充电。
13.如权利要求12所述的电子照相盒，其中所述电子受体化合物是具有醌基的化合物。
14.如权利要求13所述的电子照相盒，其中所述具有醌基的化合物是具有蒽醌结构的化合物。
15.一种电子照相装置，所述电子照相装置至少包括电子照相感光体和接触式充电设备，所述电子照相感光体包括导电基板，并且在所述导电基板上至少包括底涂层和感光层，其中所述底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒，所述接触式充电设备与电子照相感光体保持接触并用于对所述电子照相感光体充电。
16.如权利要求15所述的电子照相装置，其中所述电子受体化合物是具有醌基的化合物。
17.如权利要求16所述的电子照相装置，其中所述具有醌基的化合物是具有蒽醌结构的化合物。
18.一种电子照相装置，所述电子照相装置至少包括电子照相感光体和中间转印装置，所述电子照相感光体包括导电基板，并且在所述导电基板上至少包括底涂层和感光层，其中所述底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒，所述中间转印装置用于转印在所述电子照相感光体上形成的图像。
19.如权利要求18所述的电子照相装置，其中所述电子受体化合物是具有醌基的化合物。
20.如权利要求19所述的电子照相装置，其中所述具有醌基的化合物是具有蒽醌结构的化合物。
全文摘要
本发明提供一种电子照相感光体，所述电子照相感光体在导电基板上至少包括底涂层和感光层，其中所述底涂层含有附着有电子受体化合物的金属氧化物微粒。
文档编号G03G5/00GK1722005SQ200510055740
公开日2006年1月18日 申请日期2005年3月18日 优先权日2004年7月16日
发明者额田秀美, 中村博史, 星崎武敏, 齐愉, 胡南星, 何银墉 申请人:富士施乐株式会社