专利名称：一种通过加曝图形制作掩模板的方法
技术领域：
本发明属于掩模板制造技术领域，尤其涉及一种通过加曝图形制作掩模板的方法。
背景技术：
随着智能手机，平板电脑等便携式产品的广泛应用，人们对于高端TFT - LCD产品、LTPS - IXD产品及AM - OLED产品的需求日益增加，对平板显示产品的关键制作材料一掩模板的需求也越来越高，对掩模板图形制作的均一性和对线条精细度的要求也会逐步提 闻。目前掩模板制作的一般工艺流程是数据设计一一数据曝光格式转换一一原材料投入一一曝光一一显影一一刻蚀一一光刻胶剥离一一清洗一一测量一一检查一一修补贴膜包装出货。对于普通的掩模板产品，在对其曝光时，通常是对掩模板上的图形只进行一次扫描曝光即可完成。以这种方式对表面光刻胶层不均匀的原材料掩模板曝光时就会发现有曝不透的现象，这样生产出来的掩模板的图形就会不完整或是丢失，进而就达不到客户的品质要求，以致成了一张没有使用价值的掩模板。此外，对于高精度平板电脑等便携式产品来说，产品线条的精细度是评价一款产品性能的重要指标之一，因而也就会对其关键材料——掩模板的线条精度要求高些，所以对要求精密线条图形区域加曝也是制作高精度掩模板的一种方法。
发明内容
本发明提出一种通过加曝图形制作掩模板的方法，解决了掩模板边缘胶厚曝不透的问题，并且可制作精细线条图形的高精度掩模板。本发明的技术方案是这样实现的一种通过加曝图形制作掩模板的方法，包括以下步骤(I)设计数据图形，所述数据图形放置于第一图层中，再将需要加曝的数据图形置于另外的图层中；(2)设置曝光数据参数及曝光格式转换；(3)投入掩模材料。优选地，掩模材料包括光刻胶膜层，所述光刻胶膜层也可选用其他合适的材料。(4)开始曝光，采用步骤(I)所述的第一图层的数据图形进行一次曝光；(5)采用步骤(I)所述另外图层中的需要加曝的数据图形进行重复曝光；(6)显影、刻蚀；(7)光刻胶剥离、掩模板清洗、测量、检查修复、贴膜、包装出货。作为优选，所述需要加曝的数据图形靠近掩模板边缘。作为优选，所述需要加曝的数据图形为高精度图像。
作为优选，所述需要加曝的数据图形包括第二图形和靠近掩模板边缘的第一图形，所述第一图形置于第二图层中，所述第二图形置于第三图层中。进一步，将所述第二图形置于第四图层中。作为优选，在所述另外的图层中，对不需要加曝的图形进行遮盖。作为优选，在设计加曝的数据图形时，将需要加曝的数据图形原位置复制到另外的图层中。作为优选，在设计加曝的数据图形时，也可以将需要加曝的数据图形原位置复制，经过反效果处理后到另外的图层中。作为优选，在进行曝光格式参数设置时，对于放置于另外图层中的需要加曝的图 形，增加新的曝光参数设置界面，在新增加的曝光参数设置界面中对需加曝的图形进行参数设置。作为优选，在进行曝光格式参数设置时，对于需要加曝的图形，增加若干曝光参数设置界面，在对应的所述增加的曝光参数设置界面中，确定需要加曝的图形区域的座标位置，并进行曝光参数设置。本发明的有益效果是(I)通过采用本发明的二次(或多次)重复曝光的工艺，解决了掩模板边缘胶厚曝不透的问题；(2)通过采用本发明的二次(或多次)重复曝光的工艺，可制作精细线条图形的高精度掩模板。
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图I为掩模板的整体数据图形；图2为放置于另一图层的加曝图形(字符图形)；图3为放置于另一图层的加曝图形(高精度线条图形)；图4为放置于另一图层的加曝图形(高精度线条图形)；图5为放置于另一图层的加曝图形(字符图形和高精度线条图形)；图6为经过覆盖的掩模板数据图形；图7为通过反效果设计于另一图层的加曝图形(字符图形)。
具体实施例方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。本发明采用的原材料是具有光刻胶层的掩模板，其制作工艺流程是数据设计一一设置数据曝光参数及曝光格式转换一一原材料投入一一曝光一一重复曝光一一显影一一刻蚀一一光刻胶剥离一一清洗一一测量一一检查一一修补一一贴膜一一包装一一出货。实施例I在开始曝光前，首先进行数据设计，如图I所示，图中图形为制做一张掩模板的数据(包括线条图形2 (高精度精细图形)，菱形图形，字符图形1)，在设计软件中为图层1，完成数据设计后，因图I中字符图形I靠近掩模板边缘，为避免掩模板此区域光刻胶膜层厚，在曝光时能量保持不变的情况下，此位置字符会有曝不透光刻胶的情况发生。所以在设计时，如图2所示，将图I中的字符图形I原位置复制，再将复制后的图形放置于图2所示的另一图层，例如，将字符放置于图层2中。另外，图I中的线条图形2为客户所需制作的高精度精细图形。如图3所示，为了能制作出更精密更均匀的高精度图形，将所需的高精度精细图形原位置复制放置于图层3。在进行数据曝光参数设置时，当完成图I整板区域图形参数设置后，需再增加两个曝光参数设置界面，将设计时放置于图层2的加曝的字符图形I放置于新增加的一个曝·光参数设置界面中进行参数设置。再将设计时放置于图层3的需加曝的高精度图形(线条图形2)放置于另一个新增加的曝光参数设置界面中进行参数设置。等所有曝光的数据图形均完成参数设置后，开始将其转换成曝光设备接受的格式，开始曝光。这样，在曝光时，曝光设备会将图I的整版图形整体先进行一次曝光。当完成一次曝光动作后，光刻机会对图2中的字符图形I进行再次曝光。而其他图形因为不在图层2，光刻机不会对其他位置图形进行曝光。当对图2也完成曝光动作后，光刻机再继续对图3中的线条图形2进行加曝。所以对于最终掩模板上的图形的曝光情况是菱形图形曝光一次，字符图形I和高精度图形各曝光两次。当完成曝光工序后，再进行显影，刻蚀，测量，检查，修补贴膜等工序，进而包装，出货至客户端。当然，有时为了得到更精密的高精度图形，或为了使板边缘的光刻胶厚区域的图形曝光后的效果更好些，也会对其采取更多次重复加曝操作。例如，图4所示，在设计时将图I中的高精度图形(线条图形2)再放置于图层4中，再增加新的曝光参数设置界面进行参数设置，从而再进行多次重复曝光。实施例2在设计数据图形时，制作一张掩模板的数据图形也可不用放置同一图层中，如图I中的三类图形(高精度图形，菱形图形，字符图形I)分别放置于不同的图层中。对于需要加曝区域的高精度图形和字符图形在设计软件中需要分别将其原位置复制到另一图层，例如，将高精度图形复制到图层5，将字符图形复制到图层6中，这样在曝光参数设置界面中，将图I中没有放置于同一图层中的三类图形合并成同一转换图层，例如为图层7。然后对其进行转换参数设置。然后再增加几个曝光参数设置界面，将设计时放置于图层5，图层6的加曝图形分别对应到增加的曝光参数设置界面中进行曝光参数设置。这样在曝光工序时，光刻机在图层7完成整板图形曝光后，光刻机再对需要加曝的图形进行二次，三次或多次重复曝光。实施例3如图I所示，在设计数据图形时，而对于需要加曝区域的图形在设计软件中无需进行任何操作，也就是不需要将加曝的图形进行原位置复制及重新放置于另一图层的操作。
但在进行曝光参数设置时，首先在一个曝光参数设置界面中对整版图形进行曝光参数设置，然后对需要加曝的图形，根据加曝的次数增加一个或几个曝光参数设置界面，再将整版的图形对应的放置于新增加的各个曝光参数设置界面中，在每个曝光参数设置界面中以座标方式确定加曝区域，待均完成曝光参数设置后，进行曝光格式转换，开始曝光。光刻机在完成整版图形曝光一次后，会继续对需要加曝的图形进行二次，三次或多次曝光。实施例4在设计数据图形时，将需要加曝区域的图形(字符图形和高精度线条图形)原位置复制后也可同时放置于另一图层中。如图5所示，为避免在同时加曝图5中的两组图形时，对掩模板上不需要加曝的图形也进行了再次曝光操作，所以在设计时，将不需要加曝的图形区域，在这个图层进行遮盖设计，如图6所示。在完成曝光参数设置后开始曝光，这样光刻机在完成整版图形一次曝光后，进行加曝，虽然光刻机也是对整版图形进行扫描的操作，但是因为设计时，对于不需要加曝的区域进行了遮盖保护，所以光刻机只是对高精度图形或是字符图形进行再次或多次曝光。 实施例5在设计加曝数据的图形时，也可以将如上所述的几种实施例中需要加曝的数据图形原位置复制，在将其经过反效果处理到另外的图层中。如图7所示，字符图形11为图I的字符图形I在原位置复制，并且通过反效果设计于另一图层的加曝图形。然后在曝光参数设置时，将字符图形11放置于另一个新增加的曝光参数设置界面中进行参数设置，再将其转换成曝光设备接受的格式，进行曝光。以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种通过加曝图形制作掩模板的方法，其特征在于包括以下步骤 (1)设计数据图形，所述数据图形放置于第一图层中，再将需要加曝的数据图形置于另外的图层中； (2)设置曝光数据参数及曝光格式转换； (3)投入掩模材料； (4)开始曝光，采用步骤(I)所述的第一图层的数据图形进行一次曝光； (5)采用步骤(I)所述另外图层中的需要加曝的数据图形进行重复曝光； (6)显影、刻蚀； (7)光刻胶剥离、掩模板清洗、测量、检查修复、贴膜、包装出货。
2.如权利要求I所述的通过加曝图形制作掩模板的方法，其特征在于，所述需要加曝的数据图形靠近掩模板边缘。
3.如权利要求I所述的通过加曝图形制作掩模板的方法，其特征在于，所述需要加曝的数据图形为高精度图像。
4.如权利要求I所述的通过加曝图形制作掩模板的方法，其特征在于，所述需要加曝的数据图形包括第二图形和靠近掩模板边缘的第一图形，所述第一图形置于第二图层中，所述第二图形置于第三图层中。
5.如权利要求4所述的通过加曝图形制作掩模板的方法，其特征在于，进一步将所述第二图形置于第四图层中。
6.如权利要求I所述的通过加曝图形制作掩模板的方法，其特征在于，在所述另外的图层中，对不需要加曝的图形进行遮盖。
7.如权利要求I所述的通过加曝图形制作掩模板的方法，其特征在于，在设计加曝的数据图形时，将需要加曝的数据图形原位置复制到另外的图层中。
8.如权利要求I所述的通过加曝图形制作掩模板的方法，其特征在于，在设计加曝的数据图形时，也可以将需要加曝的数据图形原位置复制，经过反效果处理后到另外的图层中。
9.如权利要求I所述的通过加曝图形制作掩模板的方法，其特征在于，在进行曝光格式参数设置时，对于放置于另外图层中的需要加曝的图形，增加新的曝光参数设置界面，在新增加曝光参数设置界面中对需加曝的图形进行参数设置。
10.如权利要求I所述的通过加曝图形制作掩模板的方法，其特征在于，在进行曝光格式参数设置时，对于需要加曝的图形，增加若干曝光参数设置界面，在对应的所述增加的曝光参数设置界面中，确定需要加曝的图形区域的座标位置，并进行曝光参数设置。
全文摘要
本发明公开了一种通过加曝图形制作掩模板的方法，包括以下步骤(1)设计数据图形，所述数据图形放置于第一图层中，再将需要加曝的数据图形置于另外的图层中；(2)设置曝光数据参数及曝光格式转换；(3)投入掩模材料；(4)开始曝光，采用步骤(1)所述的第一图层的数据图形进行一次曝光；(5)采用步骤(1)所述另外图层中的需要加曝的数据图形进行重复曝光；(6)显影、刻蚀；(7)光刻胶剥离、掩模板清洗、测量、检查修复、贴膜、包装出货。通过采用本发明的二次(或多次)重复曝光的工艺，解决了掩模板边缘胶厚曝不透的问题，并且可制作精细线条图形的高精度掩模板。
文档编号G03F7/00GK102890432SQ20121038470
公开日2013年1月23日 申请日期2012年10月11日 优先权日2012年10月11日
发明者李春兰 申请人:深圳清溢光电股份有限公司