专利名称：光分解型配向膜的制备方法、液晶显示基板和装置的制作方法
技术领域：
本发明属于液晶显示配向膜技术领域，具体涉及一种光分解型配向膜的制备方法、液晶显示基板和装置。
背景技术：
配向膜是液晶显示装置中的重要结构，其分别设在阵列基板和彩膜基板的相对侧面上，用于使与其接触的液晶材料发生特定取向(即使液晶分子按特定方向排布)，从而用于显示。为使配向膜产生所需的配向效果，传统做法是用带绒毛的摩擦布沿特定方向摩擦(Rubbing)配向膜,使配向膜产生特定方向的沟槽，从而与其接触的液晶分子会沿沟槽的方向取向。但是，摩擦过程中会产生大量的碎屑(如配向膜碎屑、摩擦布碎屑)而污染液晶、弓I起缺陷，且摩擦中的机械力、静电等作用还可能破坏基板上的显示结构，同时摩擦的均匀度也难以保证；因此，摩擦取向法效果不佳，达不到高像素液晶显示装置的要求。由于摩擦取向的缺点，故光配向技术受到了越来越高的重视。光配向材料中包括具有配向性的光敏基团，在经过线偏振光(通常为紫外光)照射后，光配向膜中部分方向的光敏基团会发生反应而失去配向性，从而剩余的光敏基团沿特定方向分布(即光配向膜产生各向异性)，可使液晶分子沿所需方向取向。根据受到光照后所发生反应的不同，光配向膜可分为光分解型配向膜、光异构型配向膜、光聚合型配向膜等类型，其中光分解型配向膜因具有制备工艺简单等特点而受业内人士推崇。光分解型配向膜通常包括聚酰亚胺类物质，其受到光照后会发生分解，这些分解产物整体上失去配向性，但其对液晶分子的取向仍有影响。为此，对经过光照的光分解型配向膜，还要对其进行加热，使分解产物挥发或转变为对取向无影响的物质，以消除分解产物对液晶分子取向的影响。发明人发现现有技术中至少存在如下问题:对于部分分解产物(尤其是分子较大的分解产物)，加热不能使其挥发或转变，即加热后仍可能有分解产物残存；而且，即使分解产物发生转变，也不能保证其反应产物就对液晶分子的取向完全不产生任何影响；总之，即使经过加热，现有的光分解型配向膜中仍可能残存有会影响液晶分子取向的杂质，从而导致液晶显示装置出现对比度低、漏光、残像等不良。
发明内容
本发明所要解决的技术问题包括，针对现有的光分解型配向膜会导致液晶显示装置出现对比度低、漏光、残像等不良的问题，提供一种可使液晶显示装置的对比度高、无漏光、无残像的光分解型配向膜的制备方法。解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种光分解型配向膜的制备方法，包括:在基板上形成光分解型配向材料的膜层；
用线偏振光照射所述膜层使部分光分解型配向材料分解，得到形成有光分解型配向膜的基板；用清洗剂清洗所述基板上的光分解型配向膜。本发明的光分解型配向膜制备方法中，是通过清洗剂以清洗的方法除去分解产物，故其清除效果好，即使对大分子的分解产物也可彻底除去，由此制得的光分解型配向膜中的杂质少，配向效果好，从而可保证液晶显示装置的显示质量好，对比度高，无漏光、残像等不良。优选的是，所述清洗剂包括强氧化剂。进一步优选的是,所述强氧化剂为臭氧、氟气、氯气、溴气、碘蒸气中的任意一种或多种。进一步优选的是，清洗剂为所述强氧化剂；或清洗剂为所述强氧化剂与惰性载气的混合气体，所述强氧化剂在混合气体中的含量为lg/m3飞00g/m3 ;或清洗剂为所述强氧化剂的水溶液，所述强氧化剂在水溶液中的浓度为lmg/L 1000mg/L。进一步优选的是，所述强氧化剂为过氧化氢。进一步 优选的是，所述清洗剂为过氧化氢；或所述清洗剂为过氧化氢的水溶液，所述过氧化氢的水溶液中，过氧化氢与水的质量比为(广70): 100。进一步优选的是，所述清洗时间为3秒小时。优选的是，用清洗剂清洗所述基板上的光分解型配向膜包括:将所述形成有光分解型配向膜的基板置于液态清洗剂中，在超声波作用下清洗所述基板；其中，所述清洗剂包括能溶解光分解型配向材料的分解产物的溶解剂。进一步优选的是，所述溶解剂为异丙醇、丙二醇甲醚醋酸酯、N-甲基吡咯烷酮、Y-丁内酯、丙酮中的任意一种或多种。进一步优选的是，清洗剂为所述溶解剂；或清洗剂为所述溶解剂的水溶液，所述溶解剂在水溶液中的质量百分含量为109Γ99.99%。进一步优选的是，所述超声波的频率为5kHz IOOOkHz，功率密度为0.05W/cnT5W/
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cm ο进一步优选的是，所述清洗时间为3秒小时。优选的是，所述清 洗剂的温度为5°C 60°C。本发明所要解决的技术问题还包括，针对现有的液晶显示基板存在对比度低、漏光、残像等不良的问题，提供一种对比度高、无漏光、无残像的液晶显示基板。解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种液晶显示基板，其包括由上述方法制备的光分解型配向膜。本发明的液晶显示基板中的光分解型配向膜是由上述方法制备的，故其对比度闻，无漏光、残像等问题。本发明所要解决的技术问题还包括，针对现有的液晶显示装置存在对比度低、漏光、残像等不良的问题，提供一种对比度高、无漏光、无残像的液晶显示装置。解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种液晶显示装置，其包括上述的液晶显不基板。本发明的液晶显示装置中包括上述的液晶显示基板，故其对比度高，无漏光、残像等问题。本发明提供的光分解型配向膜的制备方法及液晶显示基板、液晶显示装置适用于垂直取向(VA, Vertical Alignment)模式，平面转换(IPS，In-Plane Switching)模式,边缘场开关(FFS,Fringe Field Switching)模式等各类显示装置中，特别适用于具有分解产物分子较大的光分解型配向膜的液晶显示装置。
具体实施例方式为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合具体实施方式
对本发明作进一步详细描述。实施例1:本实施例提供一种光分解型配向膜的制备方法，其包括:在基板上形成光分解型配向材料的膜层；用线偏振光照射所述膜层使部分光分解型配向材料分解，得到形成有光分解型配向膜的基板；用清洗剂清洗所述基板上的光分解型配向膜。本实施例的光分解型配向膜制备方法中，是通过清洗剂以清洗的方法除去分解产物，故其清除效果好，即使对大分子的分解产物也可彻底除去，由此制得的光分解型配向膜中的杂质少，配向效果好，从而可保证液晶显示装置的显示质量好，对比度高，无漏光、残像等不良。实施例2:本实施例提供一种光分解型配向膜的制备方法，其包括以下步骤:S01、在形成有其他显示结构(如薄膜晶体管阵列、彩膜等)的基板(阵列基板或彩膜基板)上涂布光分解型配向材料(配向液)，形成光分解型配向材料的膜层；S02、用线偏振紫外光照射光分解型配向材料的膜层，使其中的部分光分解型配向材料发生分解，得到光分解型配向膜；S03、用清洗剂对基板上的光分解型配向膜进行清洗，除去其中的光分解型配向材料的分解产物，完成光分解型配向膜的制备。其中，在步骤SOl中，光分解型配向液可通过凸版印刷、喷墨打印法等已知方法施加；本实施例中统一采用凸版印刷的方式。作为本实施例中使用的光分解型配向材料的例子，其光分解型配向材料中包括由芳香族二胺与环丁烷四酸二酐(或其衍生物)反应生成的聚酰亚胺。其中，芳香族二胺通式为通式(I广(15)中的任意一种:
权利要求
1.种光分解型配向膜的制备方法，其特征在于，包括: 在基板上形成光分解型配向材料的膜层； 用线偏振光照射所述膜层使部分光分解型配向材料分解，得到形成有光分解型配向膜的基板； 用清洗剂清洗所述基板上的光分解型配向膜。
2.据权利要求1所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述清洗剂包括强氧化剂。
3.据权利要求2所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述强氧化剂为臭氧、氟气、氯气、溴气、碘蒸气中的任意一种或多种。
4.据权利要求3所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 清洗剂的组分全部为所述强氧化剂； 或 清洗剂为所述强氧化 剂与惰性载气的混合气体，所述强氧化剂在混合气体中的含量为lg/m3 500g/m3 ； 或 清洗剂为所述强氧化剂的水溶液，所述强氧化剂在水溶液中的浓度为lmg/L 1000mg/L0
5.据权利要求2所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述强氧化剂为过氧化氢。
6.据权利要求5所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述清洗剂的组分全部为过氧化氢； 或 所述清洗剂为过氧化氢的水溶液，所述过氧化氢的水溶液中，过氧化氢与水的质量比为(I 70): 100。
7.据权利要求2至6中任意一项所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述清洗时间为3秒 I小时。
8.据权利要求1所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于，用清洗剂清洗所述基板上的光分解型配向膜包括: 将所述形成有光分解型配向膜的基板置于液态清洗剂中，在超声波作用下清洗所述基板；其中，所述清洗剂包括能溶解光分解型配向材料的分解产物的溶解剂。
9.据权利要求8所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述溶解剂为异丙醇、丙二醇甲醚醋酸酯、N-甲基吡咯烷酮、Y-丁内酯、丙酮中的任意一种或多种。
10.据权利要求9所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 清洗剂的组分全部为所述溶解剂； 或 清洗剂为所述溶解剂的水溶液，所述溶解剂在水溶液中的质量百分含量为109Γ99.99%ο
11.据权利要求8至10中任意一项所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于，所述超声波的频率为5kHz IOOOkHz，功率密度为0.05W/cnT5W/cm2。
12.据权利要求8至10中任意一项所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述清洗时间为3秒 3小时。
13.据权利要求1至6中任意一项或权利要求8至10中任意一项所述的光分解型配向膜的制备方法，其特征在于， 所述清洗剂的温度为5°C 60°C。
14.种液晶显示基板，其特征在于，包括: 由权利要求1至13中任意一项所述的方法制备的光分解型配向膜。
15.种液晶显示装置，其特征在于，包括: 权利要求14所述的液 晶显不基板。
全文摘要
本发明提供一种光分解型配向膜的制备方法、液晶显示基板和装置，属于液晶显示配向膜技术领域，其可解决现有的光分解型配向膜会导致液晶显示装置出现对比度低、漏光、残像等不良的问题。本发明的光分解型配向膜的制备方法包括在基板上形成光分解型配向材料的膜层；用线偏振光照射所述膜层使部分光分解型配向材料分解，得到形成有光分解型配向膜的基板；用清洗剂清洗所述基板上的光分解型配向膜。本发明的液晶显示基板和装置中包括上述方法制备的光分解型配向膜。本发明可用于各种模式的具有光分解型配向膜的液晶显示装置，尤其是具有分解产物分子较大的光分解型配向膜的液晶显示装置。
文档编号G02F1/1337GK103091903SQ20131000955
公开日2013年5月8日 申请日期2013年1月10日 优先权日2013年1月10日
发明者刘锋, 林准焕, 肖印, 张俊瑞 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 成都京东方光电科技有限公司