图案转移基板装置及其图案转移基板的制作方法
【专利摘要】本发明为一种图案转移基板装置及其图案转移基板。图案转移基板装置包括环形治具以及图案转移基板。环形治具具有中空部。图案转移基板设置于中空部且由环形治具夹持，并具有本体部及凸部。凸部与本体部一体成型并位于本体部的外缘。环形治具夹持凸部。本发明的图案转移基板形成于环形治具内，且通过凸部可增加两者的连结强度，并且本发明的图案转移基板在环形治具夹持的情况下进行制造程序，因而能避免操作者触摸图案转移基板而避免污损。
【专利说明】图案转移基板装置及其图案转移基板【技术领域】
[0001]本发明关于一种图案转移基板装置，特别关于一种图案转移基板装置及其图案转移基板。
【背景技术】
[0002]在微影制造工艺中，每当曝光步骤结束后，都需要移动光罩以调整位置，而在移动过程中操作者就会直接碰触光罩表面，使光罩的表面产生污染与毁损，以致光线穿透光罩时会产生散射与折射，进而影响曝光后的尺寸与形状上误差，而无法制作出纳米等级的光阻结构。并且当光罩被污染时，就需要进行清洗，随着清洗的次数越多，光罩的寿命就越缩短。
[0003]此外，欲将光罩与基板上的光阻层表面作接触平贴时，由于直接贴合过程中是两个表面随机一处先开始作贴合，这样会有部分空气被限制在两个平面之间并形成气泡，以致光罩与光阻层之间产生不确定的空隙与间距。结果，曝光光线穿透光罩时会产生散射与绕射现象，造成光阻层部分侧向曝光范围扩大，而无法制作出所要的光阻结构。
[0004]因此，如何提供一种具有新式结构的图案转移基板装置及其图案转移基板，能够避免产生沾污及气泡，进而能制作出精确的微结构并延长使用寿命，实为当前重要课题之
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【发明内容】
[0005]有鉴于上述课题，本发明的目的为提供一种具有新式结构的图案转移基板装置及其图案转移基板，与光阻层表面作接触平贴时其能避免产生沾污及气泡。
[0006]为达上述目的，依据本发明的一种图案转移基板装置包括环形治具以及图案转移基板。环形治具具有中空部。图案转移基板设置于中空部且由环形治具夹持，并具有本体部及凸部。凸部与本体部一体成型并位于本体部的外缘。
[0007]在一实施例中，环形治具包括公环及母环，两者相互连接而形成中空部。
[0008]在一实施例中，图案转移基板在由环形治具夹持的状态下进行制造程序。
[0009]在一实施例中，图案转移基板为光罩或模仁。
[0010]在一实施例中，凸部为渐扩部或渐缩部。
[0011]在一实施例中，凸部的剖面为多边形、弧形、圆形或其组合。
[0012]在一实施例中，凸部为环形或包括多个间隔设置的凸结构。
[0013]在一实施例中，图案转移基板的材质包括硅氧树脂、UV树脂、硅橡胶、聚氨酯树脂或其组合。
[0014]在一实施例中，本体部的表面具有图案化层。
[0015]为达上述目的，依据本发明的一种图案转移基板具有本体部及凸部。凸部与本体部一体成型并位于本体部的外缘。
[0016]承上所述，在本发明的图案转移基板装置中，图案转移基板形成于环形治具内，且通过图案转移基板的凸部可使图案转移基板轻易嵌入环形治具而达到自锁夹持功效，并能增加两者的连结强度。并且本发明的图案转移基板可在环形治具夹持的情况下进行制造程序，因而能避免操作人员触摸图案转移基板，而避免基板被污损。此外，由于凸部的设计与图案转移基板的自重下，使得图案转移基板形成凸面状(convex)，因此当本发明的图案转移基板与基板的表面接触时，会由图案转移基板的中央开始与基板的表面接触并逐渐向外接触而将空气挤出，进而达到大面积无气泡残留的高贴附效果。藉此，本发明的图案转移基板装置及其图案转移基板能够避免产生沾污及气泡，因而能制作出精确的纳米微结构并延长产品的使用寿命。
【专利附图】
【附图说明】
[0017]图1为本发明较佳实施例的一种图案转移基板装置的示意图；
[0018]图2为本发明较佳实施例的图案转移基板装置的环形治具的公环的示意图；
[0019]图3为本发明较佳实施例的图案转移基板装置的环形治具的母环的示意图；
[0020]图4为本发明较佳实施例的图案转移基板装置的环形治具的示意图；
[0021]图5为本发明较佳实施例的图案转移基板装置通过转印模仁形成图案化层的示意图；以及
[0022]图6A至图6G为本发明较佳实施例的图案转移基板的不同态样的示意图。
[0023]【主要元件符号说明】
[0024]1:图案转移基板装置
[0025]11:环 形治具
[0026]111:中空部
[0027]112:公环
[0028]113:母环
[0029]12、12a~12e:图案转移基板
[0030]121:本体部
[0031]122、122a ~122e:凸部
[0032]123:图案化层
[0033]Dl:第一厚度
[0034]D2:第二厚度
[0035]M:转印模仁
【具体实施方式】
[0036]以下将参照相关附图，说明依本发明较佳实施例的一种图案转移基板装置及其图案转移基板，其中相同的元件将以相同的参照符号加以说明。
[0037]图1为本发明较佳实施例的一种图案转移基板装置I的示意图。请参照图1所示，图案转移基板装置I包括环形治具11以及图案转移基板12。环形治具11具有中空部111，而图案转移基板12设置于中空部111。本发明不限制环形治具11的形状，其可依据图案转移基板12的形状而变化。在本实施例中，环形治具11包括公环112 (如图2所示)及母环113 (如图3所示)，两者相互连接而形成中空部111。[0038]图案转移基板12设置于中空部111且由环形治具11夹持，并具有本体部121及凸部122。图6A为本发明较佳实施例的一种图案转移基板12的示意图，图6B为图案转移基板12的上视示意图，请参照图6A及图6B所示，凸部122与本体部121为一体成型，且凸部122位于本体部121的外缘。在本实施例中，本体部121与凸部122具有不同的目的，于此，本体部121用以曝光或转印，而凸部122用以连结，例如被环形治具11所夹持。在本实施例中，本体部121以圆形为例，但不限于此，其亦可为其他几何图形，例如正方形、矩形、椭圆形、多边形等等。
[0039]本实施例的凸部122亦为环形，且其剖面例如为渐扩部(如图6A所示)，渐扩部的定义为凸部122距离本体部121外缘较近的位置具有第一厚度D1，距离外缘较远的位置具有第二厚度D2，且第二厚度D2大于第一厚度D1。另外，凸部122的剖面可例如为渐缩部，其定义与渐扩部的定义相反。另外，凸部122的剖面亦可为多边形(例如方形、矩形、菱形、平行四边形、梯形)、弧形、圆形或其组合。
[0040]图6C为另一态样的图案转移基板12a的上视不意图,其中，凸部122a包括多个间隔设置的凸结构。此外，图案转移基板还可有多种变化态样，以下举例说明。
[0041]图6D至图6G为不同态样的图案转移基板的剖面示意图。如图6D所示，图案转移基板12b的凸部122b的剖面为渐缩部；如图6E所示，图案转移基板12c的凸部122c的剖面为方形；如图6F所示，图案转移基板12d的凸部122d的剖面为弧形；如图6G所示，图案转移基板12e的凸部122e的剖面为多边形与弧形的组合。
[0042]在本实施例中，图案转移基板的材质可包括高分子聚合物，例如硅氧树脂、UV树月旨、硅橡胶、聚氨酯树脂或其组合。请参照图1、图6A及图6D至图6G，图案转移基板的表面可具有图案化层123，图案化层123例如为图案化金属层或图案化微结构层，图案化金属层指在图案转移基板的表面形成图案化的金属层，而图案化微结构层指将图案转移基板的表面形成微结构层。通过图案化层123，图案转移基板可作为光罩或模仁，其中，光罩可例如用于微影制造工艺，模仁可例如用于压印制造工艺。并且图案转移基板在由环形治具11夹持的状态下进行制造。
[0043]请参照图2至图5以说明图案转移基板装置I的制造方法。首先，将如图2所示的公环112及图3所示的母环113组合而形成图4所示的环形治具11。再如图5所示，将高分子材料溶液浇铸填充环形治具11的模穴(即中空部111)，并加热烘烤，并利用转印模仁M (其上具有转印图案)将图案转印至图案转移基板12上而形成图案化层123。再移除转印模仁M即可得到图案转移基板装置I (如图1所示)。上述制造方法仅为举例，并非用以限制本发明。
[0044]综上所述，在本发明的图案转移基板装置中，图案转移基板形成于环形治具内，且通过图案转移基板的凸部可使图案转移基板轻易嵌入环形治具而达到自锁夹持功效，并能增加两者的连结强度。并且本发明的图案转移基板可在环形治具夹持的情况下进行制造程序，因而能避免操作者触摸图案转移基板，而避免基板被污损。此外，由于凸部的设计与图案转移基板的自重下，使得图案转移基板形成凸面状(convex)，因此当本发明的图案转移基板与基板的表面接触时，会由图案转移基板的中央开始与所述基板的表面接触并逐渐向外接触而将空气挤出，进而达到大面积无气泡残留的高贴附效果。藉此，本发明的图案转移基板装置及其图案转移基板能够避免产生沾污及气泡，因而能制作出精确的纳米微结构并延长产品的使用寿命。
[0045]以上所述仅为举例性，而非为限制性者。任何未脱离本发明的精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包括于权利要求中。
【权利要求】
1.一种图案转移基板装置，包括: 环形治具，具有中空部；以及 图案转移基板，设置于所述中空部且由所述环形治具夹持，并具有: 本体部；及 凸部，与所述本体部一体成型并位于所述本体部的外缘，所述环形治具夹持所述凸部。
2.如权利要求1所述的图案转移基板装置，其中所述环形治具包括公环及母环，两者相互连接而形成所述中空部。
3.如权利要求1所述的图案转移基板装置，其中所述图案转移基板在由所述环形治具夹持的状态下进行制造程序。
4.如权利要求1所述的图案转移基板装置，其中所述图案转移基板为光罩或模仁。
5.如权利要求1所述的图案转移基板装置，其中所述凸部为渐扩部或渐缩部。
6.如权利要求1所述的图案转移基板装置，其中所述凸部的剖面为多边形、弧形、圆形或其组合。
7.如权利要求1所述的图案转移基板装置，其中所述凸部为环形或包括多个间隔设置的凸结构。
8.如权利要求1所述的图案转移基板装置，其中所述图案转移基板的材质包括硅氧树月旨、UV树脂、硅橡胶、聚氨酯树脂或其组合。
9.如权利要求1所述的图案转移基板装置，其中所述本体部的表面具有图案化层。
10.一种图案转移基板，包括: 本体部；以及 凸部，与所述本体部一体成型并位于所述本体部的外缘。
11.如权利要求10所述的图案转移基板，其为光罩或模仁。
12.如权利要求10所述的图案转移基板，其中所述凸部为渐扩部或渐缩部。
13.如权利要求10所述的图案转移基板，其中所述凸部的剖面为多边形、弧形、圆形或其组合。
14.如权利要求10所述的图案转移基板，其中所述凸部为环形或包括多个间隔设置的凸结构。
15.如权利要求10所述的图案转移基板，其材质包括硅氧树脂、UV树脂、硅橡胶、聚氨酯树脂或其组合。
16.如权利要求10所述的图案转移基板，其中所述本体部的表面具有图案化层。
【文档编号】G03F7/00GK103676472SQ201310418304
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2013年9月13日 优先权日:2012年9月20日
【发明者】李永春, 张哲玮, 谢易达, 颜志男 申请人:李永春