一种掩模板的制作方法
【专利摘要】本发明涉及到显示装置制造的【技术领域】，公开了一种掩模板。该掩模板包括：透明基板，多个间隔设置在所述透明基板一个表面上的遮光条，且所述透明基板上背离所述遮光条的一表面设置有与所述遮光条设置位置一一对应且将照射到遮光条上的光线折射到相邻的遮光条之间间隙的透镜结构。在上述技术方案中，通过采用透镜结构将原来照射到遮光条上的光线折射到遮光条之间的间隙上，使得更多的光线能够照射到被曝光的基板上，参与曝光，从而提高了光线的利用率。
【专利说明】一种掩模板
【技术领域】
[0001] 本发明涉及到显示装置制造的【技术领域】，尤其涉及到一种掩模板。
【背景技术】
[0002] 如图1所示，目前掩模板主要是由石英玻璃1和一层有着特定图形设计的铬层2 组成，假定铬层2的图形宽度为L 2，铬层2之间的间隙宽度为U。曝光时，曝光灯光线先从 掩模板无铬的那一侧进入，到达有铬的那一侧时，对应L2宽度的光线被铬层2图形挡住从 而不能透过，其余光线从L1宽度的间隙中透过，到达涂有光刻胶的玻璃基板3后形成图案。
【权利要求】
1. 一种掩模板，其特征在于，包括：透明基板，多个间隔设置在所述透明基板一个表面 上的遮光条，且所述透明基板上背离所述遮光条的一表面设置有与所述遮光条设置位置 一一对应且将照射到遮光条上的光线折射到相邻的遮光条之间间隙的透镜结构。
2. 如权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述透明基板上背离所述遮光条的一表 面上设置有与所述遮光条设置位置一一对应的凹槽，所述凹槽与所述透明基板形成所述透 镜结构。
3. 如权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述凹槽为弧形凹槽，且所述弧形凹槽的 长度方向与所述遮光条的长度方向相同。
4. 如权利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述弧形凹槽的宽度不大于所述遮光条 的宽度。
5. 如权利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述弧形凹槽的宽度等于所述遮光条的 览度。
6. 如权利要求5所述的掩模板，其特征在于，所述弧形凹槽为圆弧形凹槽。
7. 如权利要求6所述的掩模板，其特征在于，所述圆弧形凹槽的圆弧角满足以下关系： 沒<2A + 2tan i#，其中，Θ为圆弧角，圆弧端部的入射光线的折射角，、为遮光条 与被曝光的基板上需要保留的金属条的重叠宽度，d为透明基板与被曝光的基板之间的间 距。
8. 如权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述凹槽为V型凹槽，且所述V型凹槽的 长度方向与所述遮光条的长度方向相同。
9. 如权利要求1?8任一项所述的掩模板，其特征在于，所述遮光条为铬条。
【文档编号】G03F1/26GK104142611SQ201410340364
【公开日】2014年11月12日 申请日期:2014年7月16日 优先权日:2014年7月16日
【发明者】张思凯 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司