技术特征：
技术总结
本发明提供一种尤其在使用有机系显影液形成微细化(例如，30nm节点以下)图案的负型图案形成技术中，可减少粒子的产生的图案形成方法及电子元件的制造方法，此方法包括：用化学增幅型抗蚀剂组合物来形成膜、对膜进行曝光、以及用有机系显影液对经曝光的膜进行显影的步骤。有机系显影液的制造方法包括：使含有有机溶剂的液体在具有液体入口部、液体出口部、及设置在将液体入口部与液体出口部加以连接的流路内的过滤过滤器膜的过滤装置中通过的步骤。液体入口部处的液体的温度(TI)与液体出口部处的液体的温度(To)的差的绝对值(|TI‑To|)为3℃以下，过滤装置中的液体的过滤速度为0.5L/min/m2以上，过滤装置中的液体的过滤压力为0.1MPa以下。
技术研发人员：山中司;川本崇司;井口直也
受保护的技术使用者：富士胶片株式会社
技术研发日：2014.03.24
技术公布日：2017.11.10