2进行刻蚀，从而得到所需要的液晶面板基板。利用该液晶面板基板，可以在后续步骤中形成所需要的薄膜晶体管等元件。
[0044]本实施例例中，由于遮光层102包括光阻层102a和第一隔离层102b，因此在步骤S201中形成遮光层102时，首先在玻璃基片101上形成光阻层102a，随后在光阻层102a上形成第一隔离层102b。
[0045]在形成主动层103时，本实施例所提供的方法首先在遮光层102上形成非晶硅层，随后对该非晶硅层进行激光退火，以使得该非晶硅层转化为多晶硅层，从而形成所需要的王动层103。
[0046]本实施例中，在对非晶硅层进行激光退火时所采用的工艺为薄激光方向性结晶工艺。当然，在本发明的其他实施例中，在对非晶硅层进行激光退火时所采用的工艺也可以为其他合理工艺，例如准分子激光退火工艺或连续侧向固化激光退火工艺等，本发明不限于此。此外，在本发明的其他实施例中，还可以采用其他合理工艺来在遮光层102上形成其他材质的主动层，本发明同样不限于此。
[0047]本实施例所提供的方法在步骤S203中采用同一道光照制程来实现对遮光层102和主动层103的刻蚀，从而使得遮光层102和主动层103具有相同的图案。这种刻蚀方式不仅能够减少刻蚀过程中所使用的光罩数，还能够简化刻蚀流程，降低基板的生产难度及成本。
[0048]当然，在本发明的其他实施例中，根据实际需要，也可以采用不同的光罩来对遮光层102和主动层103进行刻蚀，以在遮光层102和主动层103上形成所需要的图案，本发明不限于此。
[0049]从上述描述中可以看出，本实施例所提供的液晶面板基板在玻璃基片与主动层之间设置遮光层，该遮光层能有有效遮蔽非必要性光源对主动层的影响。相较于现有技术，该液晶面板基板的这种结构能够大幅降低非必要性光源的干扰，使得基板的光漏电流的问题得到改善，从而保证了液晶面板基板本身的性能，避免了液晶显示器发生画面闪烁或是相互干扰等问题。
[0050]由于在实际生产工艺中，玻璃基片101中会不可避免地掺杂有杂质(例如金属颗粒等)，而这些金属杂质在高温时会向其他层(例如遮光层102和主动层103等)扩散，从而对其他层产生影响。因此，为了克服该问题，如图3所示，在本发明的一个实施例中，还可以在上述液晶面板基板的玻璃基片101与遮光层102之间设置第二隔离层104。第二隔离层104能有效阻挡玻璃基片101中的杂质向遮光层102和主动层103进行扩散，从而避免了杂质对遮光层102和主动层103的干扰，保证了液晶面板基板的良好性能。
[0051]第二隔离层104所采用的材料为氧化硅和氮化硅的混合物。当然，在本发明的其他实施例中，第二隔离层104可以采用其他材料，例如仅采用氮化硅或仅采用氧化硅等，本发明不限于此。
[0052]相应地，制造该含有第二隔离层104的液晶面板基板的方法与图2所示的方法类似，但是在形成遮光层102前，需要先在玻璃基片101上形成第二隔离层104，随后再在第二隔尚层104上形成遮光层102。
[0053]需要指出的是，在对遮光层102和主动层103进行刻蚀的过程中，如图3所示，第二隔离层104并未被刻蚀。这种结构部仅能够减少刻蚀时间，从而提高生产速度，还减少阶梯深度，从而使得下一层膜层的阶梯覆盖性更好，可以有效保证良品率。此外，第二隔离层104未被刻蚀还能够保证第二隔离层104能够最大限度地对玻璃基片101所含有的离子和水汽等杂质的阻挡作用，从而避免了遮光层102和主动层104受到的影响，提高元件可靠度。
[0054]本实施例中，液晶面板基板中的主动层、遮光层(包括光阻层和第一隔离层)和第二隔离层是通过等离子增加化学气象沉积的方式一次性连续成膜形成的。其中，本实施例所提供的液晶面板基板中的主动层、光阻层和第一隔离层形成了 a-si/S1x/a-Si这种特有的结构，而这种结构则有利于连续成膜。第一隔离层(其材质为S1x)能够使得上层a-si结晶时不会受到下层a-Si的影响，从而使得上层a-si的结晶效果更好。而结晶后的上层a-si则变成多晶硅层(即主动层)，下层a-Si形成光阻层，从而为PECVD的连续成膜提供了便利。
[0055]从上述描述中还可以看出，本实施例所提供的液晶面板基板的光阻层采用的是非金属材料。这是因为如果光阻层采用金属材料，那么即使光阻层上覆盖上绝缘层，光阻层所产生的金属粒子也会由界面处扩散到主动层，从而使得主动层收到金属污染。为了避免这一问题，现有的液晶面板基板是将金属材料构成的光阻层设置在整面性地第二隔离层与玻璃基片之间。而这种结构将需要两次光照来完成，这显然会增加液晶面板基板的生产难度和成本。
[0056]应该理解的是，本发明所公开的实施例不限于这里所公开的特定结构、处理步骤或材料，而应当延伸到相关领域的普通技术人员所理解的这些特征的等同替代。还应当理解的是，在此使用的术语仅用于描述特定实施例的目的，而并不意味着限制。
[0057]说明书中提到的“一个实施例”或“实施例”意指结合实施例描述的特定特征、结构或特性包括在本发明的至少一个实施例中。因此，说明书通篇各个地方出现的短语“一个实施例”或“实施例”并不一定均指同一个实施例。
[0058]此外，所描述的特征、结构或特性可以任何其他合适的方式结合到一个或多个实施例中。在上面的描述中，提供一些具体的细节，例如材料等，以提供对本发明的实施例的全面理解。然而，相关领域的技术人员将明白，本发明无需上述一个或多个具体的细节便可实现，或者也可采用其它方法、组件、材料等实现。在其它示例中，周知的结构、材料或操作并未详细示出或描述以免模糊本发明的各个方面。
[0059]虽然上述示例用于说明本发明在一个或多个应用中的原理，但对于本领域的技术人员来说，在不背离本发明的原理和思想的情况下，明显可以在形式上、用法及实施的细节上作各种修改而不用付出创造性劳动。因此，本发明由所附的权利要求书来限定。
【主权项】
1.一种液晶面板基板，其特征在于，所述基板包括: 玻璃基片； 遮光层，其设置在所述玻璃基片上； 主动层，其设置在所述遮光层上。
2.如权利要求1所述的基板，其特征在于，所述遮光层包括光阻层，所述光阻层的材料包括非晶硅、多晶硅、有色非金属硅化物或上述材料的任一组合。
3.如权利要求2所述的基板，其特征在于，所述遮光层还包括第一隔离层，所述第一隔离层设置在所述光阻层与主动层之间。
4.如权利要求3所述的基板，其特征在于，所述第一隔离层、光阻层和主动层具有相同的图案。
5.如权利要求1?4中任一项所述的基板，其特征在于，所述基板还包括第二隔离层，第二隔离层设置在所述玻璃基片与遮光层之间。
6.如权利要求5所述的基板，其特征在于，所述第二隔离层、遮光层和主动层是通过一次性连续成膜形成的。
7.一种制作液晶面板基板的方法，其特征在于，所述方法包括: 在玻璃基片上形成遮光层； 在所述遮光层上形成主动层； 对所述主动层和遮光层进行刻蚀，得到所需要的液晶面板基板。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，形成遮光层的步骤包括: 在所述玻璃基片上形成光阻层，所述光阻层的材料包括非晶硅、多晶硅、有色非金属硅化物或上述材料的任一组合； 在所述光阻层上形成第一隔离层。
9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法在玻璃基片上形成遮光层之前，还在玻璃基板上形成第二隔离层。
10.如权利要求7?9中任一项所述的方法，其特征在于，在所述遮光层上形成主动层的步骤包括: 在所述遮光层上形成非晶硅层； 对所述非晶硅层进行退火处理，形成所述主动层。
【专利摘要】本发明公开了一种液晶面板基板及其制造方法，该基板包括：玻璃基片；遮光层，其设置在所述玻璃基片上；主动层，其设置在所述遮光层上。该液晶面板基板的这种结构能够大幅降低非必要性光源的干扰，使得基板的光漏电流的问题得到改善，从而保证了液晶面板基板本身的效能，避免了液晶显示器发生画面闪烁或是相互干扰等问题。
【IPC分类】G02F1-1333, G02F1-1335
【公开号】CN104536192
【申请号】CN201410852369
【发明人】李子健
【申请人】深圳市华星光电技术有限公司
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2014年12月31日