一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示
目.0
【背景技术】
[0002]液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)是目前常用的平板显示器，LCD显示器以其低电压、低功耗、适宜于电路集成、轻巧便携等优点而受到广泛的研宄与应用。
[0003]随着液晶显示技术的发展，对液晶显示面板的响应速度、分辨率以及开口率的要求不断提高。现有技术增大开口率通常采用有机膜层作为钝化层的一部分减低公共电极与源极/漏极线之间的电容。主要目的是减少源极/漏极信号对公共电极的影响，进而减少源极/漏极信号对源极/漏极线附近液晶偏转的影响，从而减少信号线以及扫描线上方黑矩阵的尺寸，进而提高液晶显示面板像素的开口率。
[0004]如图1所示，现有技术的显示面板包括相对设置的阵列基板11和彩膜基板12，以及位于阵列基板11和彩膜基板12之间的液晶层13和封框胶14，具体地，阵列基板11包括依次设置在衬底基板110上的栅极绝缘层111、第一钝化层112、有机膜层113、第一电极层114、第二钝化层115和第二电极层116。从图1中可以看到，封框胶14位于第二钝化层115 上。
[0005]为了验证图1所示的显示面板的显示特性，对图1所示的显示面板进行信赖性测试，即将图1所示的显示面板放入高温、高湿和高压的测试环境中一段时间后，测试显示面板的显示特性是否变化，一般现有技术采用的信赖性测试时的温度为60°C、湿度为80%、压强为两个大气压、时间为240小时。测试结果显示，该显示面板的显示特性变差，主要原因是在进行第二钝化层115镀膜时，由于镀膜时的温度小于200°C，镀膜得到的第二钝化层115的特性较差，因此，实际生产过程中镀膜时的温度大于200°C，而有机膜层113在大于150°C的情况下表面会发生升华，升华的有机膜会参与第二钝化层115镀膜的初期反应，反应影响第二钝化层115与其下面膜层之间的粘附性，在进行信赖性测试条件下，外界水汽很容易从粘附性较差的界面处进入显示面板内部，在显示面板内部形成气泡15，进而使得显示面板的显示特性变差。
[0006]综上所述，现有技术的显示面板在实际使用过程中，外界水汽很容易从粘附性较差的界面进入显示面板内，从而影响显示面板的显示特性，显示面板的信赖性较差。
【发明内容】
[0007]本发明实施例提供了一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置，用以避免外界水汽进入阵列基板内，提高显示面板的信赖性。
[0008]本发明实施例提供的一种阵列基板，包括设置在衬底基板上的栅极绝缘层、第一钝化层、有机膜层和第二钝化层，其中，
[0009]所述第二钝化层设置有镂空区域，所述镂空区域与用于贴合封框胶的区域对应。
[0010]由本发明实施例提供的阵列基板，包括设置在衬底基板上的栅极绝缘层、第一钝化层、有机膜层和第二钝化层，其中，所述第二钝化层设置有镂空区域，所述镂空区域与用于贴合封框胶的区域对应。由于本发明实施例中与用于贴合封框胶的区域对应的区域不设置第二钝化层，与现有技术相比，能够有效避免外界水汽因为第二钝化层界面粘附性问题进入阵列基板内，提高阵列基板的信赖性。
[0011]较佳地，所述第一钝化层设置有镂空区域，该镂空区域与所述第二钝化层设置的镂空区域对应。
[0012]这样，后续贴合的封框胶直接与栅极绝缘层接触，与现有技术相比，能够有效避免外界水汽因为第二钝化层界面粘附性问题进入阵列基板内，提高阵列基板的信赖性。
[0013]较佳地，所述阵列基板包括绝缘设置的第一电极层和第二电极层，其中，
[0014]所述第一电极层为像素电极，所述第二电极层为公共电极；或，
[0015]所述第一电极层为公共电极，所述第二电极层为像素电极。
[0016]较佳地，所述第一电极层为面电极，所述第二电极层为条形电极。
[0017]较佳地，所述栅极绝缘层的材料为氧化硅或氮化硅。
[0018]较佳地，所述第一钝化层的材料为氧化硅或氮化硅。
[0019]较佳地，所述第二钝化层的材料为氧化硅或氮化硅。
[0020]本发明实施例还提供了一种显示面板，包括相对设置的第一基板和第二基板，以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层和封框胶，其中，所述第一基板为上述的阵列基板。
[0021]本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述的显示面板。
[0022]本发明实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，所述方法包括:
[0023]通过构图工艺在衬底基板上依次制作栅极绝缘层、第一钝化层、有机膜层和第二钝化层；
[0024]通过构图工艺去除预设区域的第二钝化层；或，去除预设区域的第二钝化层和第一钝化层；所述预设区域与用于贴合封框胶的区域对应。
【附图说明】
[0025]图1为现有技术显示面板边缘的截面结构示意图；
[0026]图2为本发明实施例提供的一种阵列基板边缘的截面结构示意图；
[0027]图3为本发明实施例提供的另一阵列基板边缘的截面结构示意图；
[0028]图4为本发明实施例提供的再一阵列基板边缘的截面结构示意图；
[0029]图5为本发明实施例提供的一种显示面板边缘的截面结构示意图；
[0030]图6为本发明实施例提供的一种阵列基板的制作方法流程图；
[0031]图7为本发明实施例提供的制作第二钝化层后的阵列基板边缘的截面结构示意图。
【具体实施方式】
[0032]本发明实施例提供了一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置，用以避免外界水汽进入阵列基板内，提高显示面板的信赖性。
[0033]为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
[0034]下面结合附图详细介绍本发明具体实施例提供的阵列基板和显示面板。
[0035]附图中各层薄膜厚度和区域大小形状不反应各膜层的真实比例，目的只是示意说明本
【发明内容】
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[0036]如图2所示，本发明具体实施例提供了一种阵列基板，包括设置在衬底基板110上的栅极绝缘层111、第一钝化层112、有机膜层113和第二钝化层115，其中，第二钝化层115设置有镂空区域20，镂空区域20与用于贴合封框胶的区域对应。
[0037]优选地，如图3所示，本发明具体实施例中的第一钝化层112设置有镂空区域30，该镂空区域30与第二钝化层115设置的镂空区域20对应。
[0038]优选地，本发明具体实施例中栅极绝缘层111的材料为氧化硅(Si02)或氮化硅(SiN)，当然，还可以为Si02和SiN的复合膜，本发明具体实施例并不对栅极绝缘层111的具体材料做限定。本发明具体实施例中的第一钝化层112的材料为Si02或SiN，当然，还可以为Si02和SiN的复合膜，本发明具体实施例并不对第一钝化层112的具体材料做限定。本发明具体实施例中的第二钝化层115的材料为Si02或SiN，当然，还可以为Si02和SiN的复合膜，本发明具体实施例并不对第二钝化层115的具体材料做限定。
[0039]优选地，如图4所示，本发明具体实施例中的阵列基板包括绝缘设置的第一电极层114和第二电极层116，其中，第一电极层114为像素电极，第二电极层116为公共电极；或，第一电极层114为公共电极，第二电极层116为像素电极。当然，在实际设置中，也可以只设置第一电极层114，不设置第二电极层，第一电极层114也可以直接设置在衬底基板110上。本发明具体实施例中第一电极层114为面电极，第二电极层116为条形电极。
[0040]本发明具体实施例中的第一电极层114的材料为氧化铟锡(IT