本申请涉及显示，尤其涉及一种显示面板。、液晶显示装置具有功耗低以及寿命较长的优点，因此其被广泛地应用于电视屏幕等设备中。然而，液晶显示装置在外力作用下发生形变后，可能导致其在使用过程中产生移动的亮度不均（moving mura）的现象，恶化液晶显示装置的显示效果。技术实现思路、本申请实施例...

本发明涉及激光光学控制，尤其涉及一种电磁机械快门装置，本发明还涉及一种包含该装置的高功率激光器。、激光快门作为控制激光束通断的关键光学元件，广泛应用于激光加工设备、科研实验系统、医疗仪器及安全联锁装置中。其核心功能在于接收指令后快速、可靠地开启或阻断激光光路，以实现对激光能量在时域与空域的...

本发明涉及半导体光刻板生产，更具体地涉及一种半导体光刻板快速清洗装置。、半导体光刻板（又称光掩膜板）是半导体制造过程中关键的精密元件，其表面清洁度直接影响光刻精度和芯片良率。快速清洗装置是针对光刻板表面污染物（如颗粒、有机物、金属离子等）设计的高效清洁设备，旨在通过自动化流程实现快速、彻底...

本发明涉及全息图案压印技术的领域，尤其是涉及一种全息图案单压无缝方法及系统。、全息图案压印技术是一种基于光干涉与衍射原理的微纳复制技术，通过制作全息母版，采用热压或uv固化等工艺，将纳米级浮雕光栅结构批量转移到薄膜、纸张等基材上，形成具有彩虹、动态、d等光学效果的全息图案，主要用于防伪标识...

本发明涉及光学成像，尤其涉及一种光学成像系统及光学镜头。、现有的安防监控镜头大多数采用全玻璃或玻塑混合的材料成分来构造。随着安防监控朝着超高清、微光全彩以及大视场的需求发展，市场对于镜头能够同时具备大光圈、超广角以及全天候（即，日夜共焦）成像能力的要求越来越高。然而，现有的设计在增大视场角...

本发明涉及贴片机，具体为一种液晶显示屏贴片机。、目前，主流的液晶显示屏贴片机普遍采用吸盘吸附式结构完成贴片元件的拾取与转移，其核心工作原理是通过真空系统使吸盘内部产生负压，利用大气压与吸盘内负压的压差将贴片元件牢牢吸附在吸盘端部，再通过精密传动机构与视觉定位系统配合，将贴片元件转移至液晶面...

本发明属于微纳光学与衍射光学，具体涉及一种利用超表面结构实现双偏振光宽带消色差聚焦的超透镜器件，以及一种基于粒子群优化算法（pso）的超透镜设计方法。、超表面（metasurface）作为一种二维人工微纳结构，在动态光学成像、微显示等领域展现出巨大潜力。超透镜在实际应用中，理想的状态是能够...

本发明涉及用于形成微透镜形状图案的负型光聚合性组合物、及使用该负型光聚合性组合物的光学元件的制造方法。、以往，在照相机、摄像机等中使用了固体摄像器件。在该固体摄像器件中，使用了ccd（charge-coupled device，电荷耦合器件）图像传感器、cmos（complementary...

本申请是有关于一种滤蓝光技术，特别是一种具有高蓝光危害阻绝效果又能维持显示效果的滤光膜。、请参考中国台湾第号专利申请案内容，该申请案在nm至nm，且中心波长介于nm至nm的橘红光波段吸收来直接补偿色温，进而达到提高蓝光危害阻绝效果的同时，又能不色偏来维持屏幕显示的效果。该申请案的发明人与本...

本公开涉及一种显示设备，更具体地，涉及一种能够减少掩模工艺的数量的显示设备、显示面板及显示设备的制造方法。、在屏幕上显示各种信息的视频显示设备是信息和通信时代的核心技术，并且正在朝着更薄、更轻、更便携和更高性能的方向发展。因此，可以以轻质和薄的形式制造的显示设备受到关注。、作为这样的显示设...

本发明涉及纳米压印，具体涉及用于纳米压印的陶瓷促动器及采用其的纳米压印设备。、多轴陶瓷运动台通常采用压电陶瓷作为驱动元件。压电陶瓷具有压电效应，即在其两端施加电场时，会产生机械变形；通过精确调节压电陶瓷的驱动电压，可以实现纳米级的位移精度。、如cna《一种大行程精密工件台装置与驱动方法》披...

本申请属于光学投影，更具体地说，是涉及一种照明装置以及投影仪。、在投影行业，一直追求高亮度和高色域，但由于激光自身为线偏振光会出现干涉现象，且光斑小，光线角度小等特点，导致投影画面会一直存在散斑问题。、现有技术中存在将荧光光源与激光混合架构，用于改善散斑。但如何将激发荧光的蓝激光回收利用又...

本发明涉及智能穿戴，特别涉及一种头戴设备。、随着技术的发展，vr设备、ar设备等头戴设备不断推陈出新。现有的头戴设备主要包括主机、电池模块以及绑带，其中绑带设置为可拆卸连接的结构，以便于佩戴。、但是，目前常见的头戴设备中，用于实现主机、电池模块和绑带固定的固定连接结构，与用于实现主机、电池...

本发明涉及一种在记录介质上形成图像的图像形成装置。、在电子照相图像形成装置中，已知一种通过旋转包括多个显影辊的旋转体组件来形成彩色图像的旋转显影系统。日本专利特许公开no.-和日本专利特许公开no.-描述了包括具有多个显影辊的旋转体以及可拆卸地安装在旋转体上的多个调色剂盒（调色剂容器）的图...

本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂下层膜、叠层体、半导体元件的制造方法和图案形成方法。、一直以来，在半导体装置的制造中，通过使用抗蚀剂组合物的光刻进行微细加工。上述微细加工是如下加工法：在硅晶片等半导体基板上形成光致抗蚀剂组合物的薄膜，隔着描绘有器件图案的掩模图案在其上照射紫外线等...

本发明涉及液态组合物、膜、光学部件、光学装置以及光学装置的制造方法。、以往，已知有用于防止或减少来自物品表面的光的反射的技术。例如，如果在相机模块等中产生反射光，则在相机模块或收容有相机模块的壳体的内部产生反射和折射，对要求的图像的结构没有贡献的光线到达电荷耦合器件(ccd)和cmos图像...

本公开涉及取向层兼紫外线吸收层与正a层直接相接的光学层叠体、转印用层叠体、偏振片、显示面板及图像显示装置，所述取向层兼紫外线吸收层为层且具有取向层和紫外线吸收层这两者的功能。、作为应用于图像显示装置等的光学层叠体，有利用相位差层对入射的光赋予所期望的相位差的相位差板。例如在有机电致发光(有...

本发明涉及用于对可选波段进行滤波的颜色选择模块和用于从输入光束对可选波段进行滤波的方法。、光刻装置是一种被构造为将期望图案施加到衬底上的机器。例如，光刻装置可以被用于制造集成电路（ic）。光刻装置可以例如在图案形成设备（例如掩模）处将图案（通常也称为“设计布局”或“设计”）投射到在衬底（例...

本公开涉及光纤。本申请要求以年月日申请的日本申请第-号为基础的优先权，并在此援引上述日本申请中记载的全部记载内容。、专利文献中记载了一种光纤。该光纤具备中心纤芯、光学包层及护套。中心纤芯包含geo。以光学包层为基准的中心纤芯的相对折射率差为.%以上且.%以下。以光学包层为基准的护套的相对折...

本申请涉及半导体晶圆检测，尤其涉及一种基于晶圆检测的对焦方法、装置、设备以及产品。、晶圆微透镜是直径数百纳米至数毫米的微小透镜，常以阵列形式排布于基板，具备对焦、成像、光束整形及光线均分等功能，凭借小型化、高集成度优势，在光电器件与光学系统微型化、智能化、集成化进程中作用关键，一片八寸晶圆...