专利名称：定位式掩模的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种定位式掩模，尤指一种供蒸镀或溅镀沉积使用的掩模。
背景技术：
在触控面板(Touchpand)或有机电激发光显示器(OLED)的薄膜制程中， 常将形成有两个或两个以上定位孔的掩模(shadow mask)设置于被镀基板与材 料源(如蒸镀料源或溅镀靶材)之间，使材料经由定位孔而镀着于基板上的预定 位置，以在基板上直接形成具有预定图案的膜层，如此可省去后续繁复的微影 及蚀刻制程。
参阅图l,为公知定位式掩模的俯视示意图；公知掩模10为金属薄板11， 其上形成有两个或两个以上定位区域12，各定位区域12包含有多个贯穿金属 薄板ll供沉积材料通过的微小定位孔(图中未示出)，且金属薄板ll的板面尺 寸对应于被镀基板的板面尺寸。
由于上述掩模10在蒸镀或溅镀制程的髙温环境中会发生热膨胀，且定位孔 的尺寸仅为数十微米，以致定位孔的位置会大幅偏离原先的预定位置，且定位 孔尺寸也与原先的尺寸有大幅差异，导致蒸镀或溅镀材料无法准确地镀着于基 板上的预定位置。
发明内容
有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种定位式掩模，可大幅减低掩模 在蒸镀或溅镀制程的高温环境中产生的热膨胀，使蒸镀或溅镀材料可准确地经 由掩模而镀着于基板上的预定位置。
为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的
一种定位式掩模，用以设置于基板与沉积材料源之间，所述掩模包含金属
3薄板，在所述金属薄板上设有两个或两个以上供沉积材料通过的定位孔，所述 定位孔紧密排列形成定位区域，并在该定位区域的四周分别设有至少一个与所 述定位区域相间隔且贯穿所述金属薄板以作为该薄板产生热膨胀时的缓冲区域 的隔离槽。
由上述技术方案可知，本发明借由在任一定位区域四周分别形成隔离槽， 作为定位式掩模在受热时，薄板产生热膨胀时的缓冲区域，借以减少定位区域 位置的偏离及定位区域尺寸的变异，从而使蒸镀或溅镀材料能够准确地镀着于 基板上的预定位置。
图1为公知定位式掩模的俯视示意图2为本发明定位式掩模的俯视示意图3为本发明定位式掩模的局部俯视放大示意图4为本发明中定位式掩模与基板及沉积材料源的组合示意图，其中所示 的定位式掩模为沿图3中4-4线的剖视示意图； 图5为本发明定位式掩模的俯视示意图6为应用本发明定位式掩模所得的基板的局部俯视放大示意图。
附图标记说明
IO定位式掩模 ll金属薄板 12定位区域
20定位式掩模 21金属薄板
22定位区域 221定位孔
23隔离槽 30基板
31目标膜层 32标记膜层 40沉积材料源
具体实施例方式
有关本发明技术内容及详细说明，配合
如下 请参阅图2、图3及图4所示，图2为本发明定位式掩模的俯视示意图； 图3为本发明定位式掩模的局部俯视放大示意图；图4为本发明中定位式掩模 与基板及沉积材料源的组合示意图，其中所示的定位式掩模为沿图3中4-4线 的剖视示意图。本发明的第一较佳实施例的定位式掩模20，用以设置在基板30 与沉积材料源40之间，该基板30为玻璃基板，而该沉积材料源40为蒸镀料源 或溅镀靶材；其中，该定位式掩模20包含金属薄板21,其材质为铁镍合金， 在该金属薄板21上设有两个或两个以上供沉积材料通过的长条形定位孔221, 且这些长条形定位孔221紧密排列形成多数个定位区域22;需说明的是，为便 于说明，附图中的定位孔221较实际尺寸要大，实际实施时，所述各定位孔221 的短轴宽度仅为数十至数百微米，且其形状不限于矩形；定位孔221的排列方 式不限于本实施例中所述的方式，可视实际需求而加以变化；并且，在任一定 位区域22的上、下、左、右四周分别设有与该定位区域22相间隔且贯穿该金 属薄板21的隔离槽23;所述各隔离槽23的形状基本呈长条形或椭圆形；所述 各隔离槽23的短轴方向的实际宽度约为数亳米。
请参阅图5，本发明定位式掩模的俯视示意图，本发明的第二较佳实施例 的定位式掩模20，大致与第一较佳实施例相同，其不同处在于该金属薄板21 在任一定位区域22的上、下、左、右四周分别设有两个或两个以上与该定位区 域22相间隔且贯穿该金属薄板21的隔离槽23,各隔离槽23间隔地环绕该定 位区域22周缘延伸排列，可较第一较佳实施例提高结构强度；借由在任一定位 区域22四周分别形成这些隔离槽23,作为定位式掩模20在受热时，金属薄板 21产生热膨胀时的缓冲区域，借以减少定位区域22位置的偏离及定位区域22 尺寸的变异。
上述本发明的定位式掩模，可应用于触控式面板、有机电激发光显示器、 彩色滤光片、集成电路(IC)、或太阳能电池(solar cell)的薄膜制程中，且不以此为限。
请参阅图4及图6，图4为本发明定位式掩模的剖视示意图；图6为应用 本发明定位式掩模所得的基板的局部俯视放大示意图；该沉积材料源40的沉积 材料以蒸镀或溅镀方法经由所述定位孔221及该隔离槽23而沉积于基板30上， 在该基板30上形成对应于所述定位孔221的目标膜层31，以及对应所述隔离 槽23的标记膜层32，该目标膜层31作为电子装置或组件中的导电层或绝缘层 等功能性膜层使用；所述标记膜层32则可供后续的基板切割制程作为切割基 准，或可供后续的微影等制程作为基板的各膜层形成时的对位(alignment)基准。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。
权利要求
1、一种定位式掩模，设置于基板与沉积材料源之间，其特征在于，所述掩模包含金属薄板，在所述金属薄板上设有两个或两个以上供沉积材料通过的定位孔，所述定位孔紧密排列形成定位区域，并在所述定位区域的四周分别设有至少一个与所述定位区域相间隔且贯穿所述金属薄板以作为所述薄板产生热膨胀时的缓冲区域的隔离槽。
2、 如权利要求1所述的定位式掩模，其特征在于，所述隔离槽基本呈长条形或椭圆形。
3、 如权利要求1所述的定位式掩模，其特征在于，所述金属薄板在所述定位区域四周分别设有两个或两个以上与所述定位区域相间隔且贯穿所述薄板的隔离槽。
全文摘要
本发明提供一种定位式掩模，用以防止热膨胀变形，所述定位式掩模设于基板与沉积材料源之间，该掩模以金属薄板为主体，该金属薄板用以对应于该基板的一面，其中在该金属薄板上开设两个或两个以上供沉积材料通过的定位孔，且这些定位孔紧密排列形成定位区域，并在该定位区域的四周开设隔离槽，借以使该掩模用于进行蒸镀或溅镀时，减少定位区域位置的偏离及定位区域尺寸的变异。
文档编号C23C14/04GK101497984SQ200810006639
公开日2009年8月5日 申请日期2008年1月29日 优先权日2008年1月29日
发明者赖辉龙, 陈圣伟 申请人:奇信电子股份有限公司