专利名称：一种真空镀膜用基片水平输送装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种基片水平输送装置，具体涉及一种真空镀膜用基片水平输送
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背景技术：
真空镀膜用基片水平输送装置用于玻璃基片真空镀膜生产线，它是实现基片在镀膜生产线腔室中平稳输送的装置，传统的镀膜线采用基片垂直输送方式进行镀膜，该镀膜方式不仅限制了基片的尺寸规格，而且给整个设备的维修保养带来困难。现在，国内外大尺寸镀膜线大多采用卧式即基片为水平放置，但基片的输送采用辊子输送方式，该输送方式存在着基片跑偏的问题，而且对辊子材质要求苛刻，设备结构复杂，投资成本高。
实用新型内容本实用新型的目的是为了克服现有该输送方式存在着基片跑偏的问题的缺陷，而提供一种真空镀膜用基片水平输送装置。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是一种真空镀膜用基片水平输送装置，包括镀膜生产线腔室，腔室的前后两端分别具有传输用的进口和出口，其特征在于镀膜生产线腔室的左右两侧薄壁上分别设有一组传动轴沿腔室前后方向均勻设置，每个传动轴贯穿腔室两侧的薄壁，在腔室内的每个传动轴的端部连接一个传动轮；在腔室内还设有一个基片架，基片架具有一个水平的放置面用于放置基片，以及与放置面底面固定连接的沿腔室前后方向设置的两侧导杆，所述的每侧导杆同时和相应一侧的至少三个传动轮配合连接。本装置实现基片在镀膜生产线腔室中的平稳输送；同时，本装置具有精简结构、降低成本、容易维护。在上述的主要技术方案的基础上，可以增加以下进一步完善的技术方案所述的左侧传动轮为定位轮，所述的定位轮的槽口的宽度与导杆的宽度相适应， 定位轮槽口将基片架限制在一定的范围内，避免了基片架在传输过程中的跑偏现象。所述的右侧传动轮为非定位轮，所述的非定位轮的槽口的宽度大于导杆的宽度， 非定位轮槽口宽度较大，给基片架的膨胀留有余地，这就使得基片架能够载着基片平稳的
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目丨J仃。所述的与滚轮接触的导杆底面上具有一个沿导杆通长设置的橡胶条，橡胶接触摩擦系数高，提高定位轮和非定位轮摩擦力的同时，也避免了基片架在启动和停止时的窜动， 从而使得镀膜基片能按照正确的运行轨迹前行。在靠近每侧导杆内侧的基片架的底面上分别设有一个L形挡板，由于L挡板的存在，可以有效阻止热量对橡胶性能的影响，提高了橡胶条使用寿命。在镀膜生产线腔室内的底面上的两侧分别设有一个U形挡板与相应的L形挡板配合，相应一侧的U形挡板和L形挡板间错开一段距离，两个挡板的配合提高了隔热的效果，提高了对橡胶保护。所述的镀膜生产线腔室的两侧薄壁上还设有一根贯穿两侧薄壁的主轴，主轴的两端分别通过同步带与相应一侧的相近的一根传动轴的端部连接，相应一侧的两传动轴间通过同步带连接。所述的传动装置还可采用链传动结构或齿轮传动结构。本实用新型的有益效果是本基片传输装置，不仅简化了基片输送系统的结构，而且降低了成本，并使维修保养易于进行，定位轮和非定位轮将基片架限制在一定的范围内， 基片架受热后向非定位轮一方膨胀，避免了基片架在传输过程中的跑偏现象，从而有效的解决了镀膜基片跑偏的难题。
以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1为本实用新型的主视图；图2为本实用新型的俯视图。
具体实施方式
如图1和图2所示，本实用新型一种真空镀膜用基片水平输送装置，包括镀膜生产线腔室，腔室的前后两端分别具有传输用的进口和出口，镀膜生产线腔室的左右两侧薄壁上分别设有一组传动轴4沿腔室前后方向均勻设置，每个传动轴4贯穿腔室两侧的薄壁。在腔室内左侧的每个传动轴4的端部连接一个定位轮5，用于定位，在腔室内右侧的每个传动轴4的端部连接一个非定位轮8 ；在腔室内传动轮上方还设有一个基片架1，基片架1具有一个水平的放置面用于放置基片，以及与放置面底面固定连接的沿腔室前后方向设置的两侧导杆3，所述的每侧导杆3同时和相应一侧的至少三个定位轮5以及三个非定位轮8的槽口接触配合，基片架1随着定位轮5和非定位轮8的转动载着基片前行。所述的镀膜生产线腔室的两侧薄壁上还设有一根贯穿两侧薄壁的主轴7，主轴7的两端分别通过同步带与相应一侧的相近的一根传动轴4的端部连接，相应一侧的两传动轴4间通过同步带连接，由主轴7带动各传动轴4运动。定位轮和非定位轮安装于镀膜腔室内两边的传动轴上，腔室两边的传动轴通过腔体下方的主轴实现同步转动；玻璃基片置于基片架上，基片架通过其下方的导杆置于定位轮和非定位轮上；定位轮和非定位轮8带有槽口，可以防止基片架1在运行过程中的跑偏及掉架现象；导杆3与基片架1之间通过绝缘块连接，且导杆3下部嵌有橡胶条。镀膜腔室内两边的传动轴以及传动轮沿整条镀膜线按一定间隔布置，但必须保证基片架1下的每根导杆同时和至少三个传动轮接触。L型挡板2固定于基片架1下部靠近导杆处，U型挡板6固定在腔室底部靠近传动轮处，可以有效防止热辐射对橡胶条造成的损伤。当主轴7带动腔体两边的磁流体传动轴4同步转动时，由于基片架1与传动轮之间通过橡胶条接触，接触点摩擦力较大，且定位轮侧限制了基片架1的左右位置，非定位轮侧由于挡边间距较大，给基片架1的膨胀留有余地，这就使得基片架1能够载着基片平稳的前行。
权利要求1.一种真空镀膜用基片水平输送装置，包括镀膜生产线腔室，腔室的前后两端分别具有传输用的进口和出口，其特征在于镀膜生产线腔室的左右两侧薄壁上分别设有一组传动轴(4)沿腔室前后方向均勻设置，每个传动轴(4)贯穿腔室两侧的薄壁，在腔室内的每个传动轴(4)的端部连接一个传动轮；在腔室内还设有一个基片架(1)，基片架(1)具有一个水平的放置面用于放置基片，以及与放置面底面固定连接的沿腔室前后方向设置的两侧导杆(3)，所述的每侧导杆(3)同时和相应一侧的至少三个传动轮接触配合。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于所述的左侧传动轮为定位轮(5)，所述的定位轮(5)的槽口的宽度与导杆(3)的宽度相适应。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于所述的右侧传动轮为非定位轮(8)，所述的非定位轮(8)的槽口的宽度大于导杆(3)的宽度。
4.根据权利要求1、2或3所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于所述的与传动轮接触的导杆(3)底面上具有一个沿导杆(3)通长设置的橡胶条。
5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于在靠近每侧导杆(3)内侧的基片架的底面上分别设有一个L形挡板(2)。
6.根据权利要求5所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于在镀膜生产线腔室内的底面上的两侧分别设有一个U形挡板(6)与相应的L形挡板(2)配合，相应一侧的U形挡板和L形挡板间错开一段距离。
7.根据权利要求6所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于所述的镀膜生产线腔室的两侧薄壁上还设有一根贯穿两侧薄壁的主轴(7)，主轴(7)的两端分别通过同步带与相应一侧的相近的一根传动轴(4)的端部连接，相应一侧的两传动轴(4)间通过同步带连接。
专利摘要本实用新型涉及一种真空镀膜用基片水平输送装置，包括镀膜生产线腔室，腔室的前后两端分别具有传输用的进口和出口，其特征在于镀膜生产线腔室的左右两侧薄壁上分别设有一组传动轴(4)沿腔室前后方向均匀设置，每个传动轴(4)贯穿腔室两侧的薄壁，在腔室内的每个传动轴(4)的端部连接一个传动轮；在腔室内还设有一个基片架(1)，基片架(1)具有一个水平的放置面用于放置基片，以及与放置面底面固定连接的沿腔室前后方向设置的两侧导杆(3)，所述的每侧导杆(3)同时和相应一侧的至少三个传动轮接触配合。本实用新型的有益效果是本基片传输装置，不仅简化了基片输送系统的结构，而且降低了成本，并使维修保养易于进行。
文档编号C23C14/56GK202323010SQ20112046079
公开日2012年7月11日 申请日期2011年11月19日 优先权日2011年11月19日
发明者李险峰, 罗松松, 钱宝铎 申请人:中国建材国际工程集团有限公司, 蚌埠玻璃工业设计研究院