可调节靶材的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种可调节靶材，包含靶座，所述靶座的突肩上设有磁场，所述靶座的上方设有靶材，所述靶座与消耗后的靶材之间设有调节垫圈。本实用新型的有益效果主要体现在：减少换靶频次，延长有效生产时间；靶材和工件之间距离保持稳定，有效解决由于靶材消耗导致靶材表面磁场的变化，可以达到靶材表面磁场始终在控制范围内；靶材的利用率得到大幅度提高；靶材的冷却始终充分；涂层的沉积效率和涂层性能保持稳定。
【专利说明】可调节靶材
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及一种PVD镀膜技术用的靶材，属于镀膜【技术领域】。
【背景技术】
[0002] 目前常用的PVD镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子 镀膜。其中，真空溅射镀膜是用高能粒子轰击固体表面时使固体表面粒子获得能量并逸出 表面，沉积在基板上。真空离子镀膜是指在真空环境下，被引入的气体在离子源的电磁场共 同作用下被离化，被离化的离子在施加于基片上偏压形成的电场作用下被加速，并以高能 粒子的形式轰击或沉积在基片上，而阴极电弧技术是一种常用的PVD离子镀膜方式。关于 磁场的控制和靶材的利用率始终是困扰工业生产的难题。解决这一技术问题，一般常用的 方法是使用可变磁场或者机械式后拉磁场，这种办法虽然保证了靶材表面的磁场保持在控 制范围内，但是也带来了工件表面沉积速率和涂层质量不稳定。 实用新型内容
[0003] 针对现有技术的不足，本实用新型提出了一种PVD镀膜技术用的新型靶材，同时 提高靶材利用率和工作效率。
[0004] 本实用新型的实用新型目的通过以下技术方案实现：
[0005] -种可调节靶材，包含靶座，所述靶座的突肩上设有磁场，所述靶座的上方设有靶 材，所述靶座与消耗后的靶材之间设有调节垫圈。
[0006] 优选的，所述靶座与调节垫圈之间有相配合的拼接结构。
[0007] 优选的，所述靶材与调节垫圈之间有相配合的拼接结构。
[0008] 优选的，所述靶座、靶材、调节垫圈三者形成的内部空间为冷却水的收容空间。
[0009] 优选的，所述靶材的初始厚度为30-60mm。
[0010] 本实用新型的有益效果主要体现在：
[0011] (1)减少换靶频次，延长有效生产时间；
[0012] (2)靶材和工件之间距离保持稳定，有效解决由于靶材消耗导致靶材表面磁场的 变化，可以达到靶材表面磁场始终在控制范围内；
[0013] (3)靶材的利用率得到大幅度提高；
[0014] (4)靶材的冷却始终充分；
[0015] (5)涂层的沉积效率和涂层性能保持稳定。
【专利附图】
【附图说明】
[0016] 图1 :本实用新型靶材的结构示意图。
【具体实施方式】
[0017] 以下通过典型实施例，对本实用新型进一步说明，但本实用新型并不局限于所述 实施例。
[0018] 如图1所示，本实用新型揭示了一种可调节靶材，包含靶座1，所述靶座1的突肩上 设有磁场2,所述靶座1的上方设有靶材4,所述靶座1与消耗后的靶材4之间设有调节垫 圈3。所述靶座1与调节垫圈3之间有相配合的拼接结构。所述靶材4与调节垫圈3之间 有相配合的拼接结构。所述的拼接结构为凹凸相配的拼接结构。所述靶座1、靶材4、调节 垫圈3三者形成的内部空间5为冷却水的收容空间。所述靶材4的初始厚度为30-60mm，这 样可以减少换靶频次，延长有效生产时间。
[0019] 使用时，全新的靶材4直接安装在冷却靶座1上，待靶材4工作消耗到控制厚度 时，在靶材4和冷却靶座1之间加上调节垫圈3,调节垫圈3的厚度就是靶材有效消耗控制 范围。通过这个调整，靶材又成为一个新的靶材，完全恢复到消耗之前的状态，工艺的控制 和涂层性能得到稳定，始终在控制范围内进行生产。
[0020] 表一：涂层性能比较
[0021] _项|沉积效率|涂层附着性|表面质量|耙材厚度（mn) |耙材利用率 无垫圈 1. 19um/h 4_Μ_20_32%_ 有垫圈 |2. 34um/h |l | 良 |40 ΙθΟ%
[0022] 。表一中数据说明，当现有技术部采用调节垫圈时，所有的镀膜性能均较差。采用 本实用新型的技术后，极大提高了靶材的利用率，生产效率提升；更重要的是涂层的性能能 够得到保证，涂层附着性为1级(控制范围为1-3级，数字越小说明涂层和基底的结合力越 大)。而且，采用本实用新型的靶材后，涂层表面细腻稳定，避免了由于靶材表面磁场改变超 差涂层结构疏松、表面坑点等导致的不耐磨和表面颜色暗淡等品质问题出现。
[0023] 虽然已经参考优选实施例对本实用新型进行了描述，但在不脱离本实用新型范围 的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物质替换其中的物质。本实用新型并不 局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求范围内的所有技术方案。
【权利要求】
1. 一种可调节靶材，包含靶座（1)，所述靶座（1)的突肩上设有磁场（2)，所述靶座（1) 的上方设有靶材（4)，其特征在于：所述靶座（1)与消耗后的靶材（4)之间设有调节垫圈 (3)。
2. 如权利要求1所述的可调节靶材，其特征在于：所述靶座（1)与调节垫圈（3)之间有 相配合的拼接结构。
3. 如权利要求1所述的可调节靶材，其特征在于：所述靶材（4)与调节垫圈（3)之间有 相配合的拼接结构。
4. 如权利要求1所述的可调节靶材，其特征在于：所述靶座（1)、靶材（4)、调节垫圈 (3)三者形成的内部空间（5)为冷却水的收容空间。
5. 如权利要求1所述的可调节靶材，其特征在于：所述靶材（4)的初始厚度为 30-60mm〇
【文档编号】C23C14/35GK203904449SQ201420248450
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年5月15日 优先权日:2014年5月15日
【发明者】焦飞, 乐务时, 钱涛 申请人:星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司