1. 一种用于氮化镓单晶片的合成树脂锡盘双面抛光方法，其特征在于，使用双面抛光机，上盘和下盘为合成树脂锡盘，配上粒径为W0.5的金刚石抛光液，将氮化镓单晶片放在双面抛光机游星轮上，其中上盘设为螺旋凹槽条纹，并且相近的两条凹槽间距为1.5mm，凹槽深度为15μm，下盘为同心圆槽条纹，并且相近的两条凹槽间距为1mm，凹槽深度为20μm，压力为100-500g /cm2，转速为10-40 r /min，金刚石抛光液的流量为5ml-20ml /min。