1.一种涂覆制品的装置，用于涂覆至少第一多个制品，所述第一多个制品中的每个制品至少具有第一待涂覆表面，所述装置包括：
发射源，所述发射源用于将发射元素引向所述多个制品的第一表面；
至少一个支撑构件，所述至少一个支撑构件用于支撑所述第一多个制品，其中支撑构件支撑所述第一多个制品以使所述第一表面暴露于所述发射源的发射路径；和
驱动组件，所述驱动组件用于移动所述支撑构件，以使所述第一多个制品能够相对于所述发射源的发射路径移动。
2.根据权利要求1所述的涂覆制品的装置，其中所述发射源为中性氢分子通量发射源，并且所述发射元素为中性氢分子，由此所述中性氢分子通量发射源将中性氢分子通量引向所述支撑构件，以使在所述中性氢分子碰撞制品表面处或上的分子时，制品表面处或上的分子元素间的键选择性断裂。
3.根据权利要求2所述的涂覆制品的装置，其中所述中性氢分子通量发射源将具有约1eV到约100eV的范围内的动能的中性氢分子的通量引向所述支撑构件，以使当中性氢分子碰撞包括C-H键和Si-H键中的任一种或其组合的、制品的表面处或上的分子时，C-H键和Si-H键选择性断裂。
4.根据权利要求2或3所述的涂覆制品的装置，其中选择性断裂的键与自身交联，或者与所述表面上导致表面特性改变的其它化学基团交联，或者是以上交联的组合。
5.根据权利要求2或3所述的涂覆制品的装置，其中选择性断裂的键与自身交联，或者与所述表面上导致表面特性改变的其它化学基团交联，或者是以上交联的组合，以在制品上提供涂层。
6.根据权利要求2或3所述的涂覆制品的装置，其中所述装置包括涂覆腔，制品在所述涂覆腔中被涂覆。
7.根据权利要求6所述的涂覆制品的装置，所述装置进一步包括氢等离子源，其中所述氢等离子源为选自包括DC等离子、RF等离子、常规微波等离子或电子回旋共振(ECR)微波等离子的组的等离子源。
8.根据权利要求1所述的涂覆制品的装置，其中所述装置是溅射沉积装置。
9.根据权利要求1所述的涂覆制品的装置，其中所述装置是电子束蒸发装置。
10.根据权利要求8或9所述的涂覆制品的装置，其中所述装置包括真空腔，由此在所述真空腔中进行制品的涂覆。
11.根据权利要求1-3中任一项所述的涂覆制品的装置，其中所述至少一个支撑构件是大体细长的，并且包括用于沿所述至少一个支撑构件的纵向轴线保持所述多个第一制品的第一多个保持器，
其中所述至少一个支撑构件相对于与所述至少一个支撑构件的纵向轴线平行的旋转轴线径向偏离，并且其中所述第一多个保持器相对于所述至少一个支撑构件的纵向轴线径向向外延伸，以使制品的至少所述第一表面以第一倾斜度相对于所述发射源的发射路径倾斜；并且
其中驱动组件使所述至少一个支撑件绕所述旋转轴线旋转，以使所述第一多个制品在发射元素的路径内旋转，并且使得制品的至少所述第一表面暴露于发射源的发射元素。
12.根据权利要求1-3中任一项所述的涂覆制品的装置，所述装置具有第一多个支撑构件，其中每个支撑构件是大体细长的，并且包括用于沿所述支撑构件的纵向轴线保持多个制品的多个保持器，
其中每个支撑构件相对于与所述支撑构件的纵向轴线平行的旋转轴线径向偏离，并且其中所述第一多个保持器相对于所述支撑构件的纵向轴线径向向外延伸；
其中每个支撑构件的每个旋转轴线围绕与第一旋转平台上的大体细长的支撑构件的纵向轴线平行的第一中心轴线等间距隔开，并且围绕所述第一中心轴线径向设置；并且
其中所述旋转平台能够绕所述第一中心轴线旋转，以便每个支撑构件能够移动至暴露位置，用于制品暴露于发射元素。
13.根据权利要求12所述的涂覆制品的装置，其中所述装置包括多个旋转平台，其中所述多个旋转平台中的这些旋转平台围绕与大体细长的支撑构件的纵向轴线平行的主中心轴线等间距隔开，并且这些旋转平台的旋转轴线相对于所述主中心轴线等间距径向偏离，并且这些旋转平台能够围绕所述主中心轴线在圆周方向上移动，以便能够移入或移出发射元素的路径。
14.根据权利要求1所述的涂覆制品的装置，其中所述支撑构件支撑所述第一多个制品，其围绕发射元素的中心轴线在圆周方向上延伸，相对于所述发射源的中心轴线以第一半径径向偏离并且均是等距的；并且其中这些制品径向向内倾斜。
15.根据权利要求14所述的涂覆制品的装置，其中所述第一多个制品与所述支撑构件以能够移动的方式接合，以便在所述支撑构件绕所述中心轴线旋转时，所述制品因作用在制品上的重力而至少部分地绕相对于所述支撑构件的第一旋转轴线倾斜的第二旋转轴线旋转，并且
其中在所述支撑构件旋转时，所述制品从其中制品以第一倾斜度且在第一倾斜面上倾斜、并且相对于所述中心轴线倾斜以使所述第一表面暴露于发射源的发射的第一位置，移动至第二倾斜度且在第二倾斜面上，并且相对于所述中心轴线倾斜，以使制品的与所述第一表面相反的第二表面暴露于发射源的发射，并且在进一步旋转时，这些制品移动至所述第一倾斜度。
16.根据权利要求15所述的涂覆制品的装置，其中所述支撑构件包括在所述第一倾斜面和所述第二倾斜面之间延伸的细长的支撑元件，并且其中所述支撑元件穿过制品中的孔延伸或在制品中的凹槽内延伸，以在围绕所述中心轴线旋转期间，允许制品在支撑表面之间沿着所述细长的支撑元件滑动。
17.根据权利要求15所述的涂覆制品的装置，其中所述驱动组件用于提供围绕所述中心轴线的所述旋转运动。
18.根据权利要求14-17中的任一项所述的涂覆制品的装置，其中所述支撑元件支撑另外多个制品，其相对于所述中心轴线在圆周方向上延伸，相对于所述发射源以另一半径径向偏离并且均是等距的。
19.根据权利要求8或9所述的涂覆制品的装置，其中所述发射源提供具有中心轴线的圆锥状发射区域；并且所述至少一个支撑构件支撑所述第一多个制品，其围绕所述中心轴线在圆周方向上延伸，相对于所述发射源以第一半径径向偏离并且均是等距的；并且这些制品向内径向倾斜，使得所述第一表面以第一倾斜度基本上垂直于所述发射源的发射路径倾斜，其中所述第一多个制品以能够移动的方式接合所述支撑构件，以便在所述支撑构件围绕所述中心轴线旋转时，所述制品因作用在制品上的重力而至少部分地围绕相对于所述支撑构件的第一旋转轴线倾斜的第二旋转轴线旋转，并且
其中在所述支撑构件旋转时，所述制品从其中制品以第一倾斜度且在第一倾斜面上倾斜、且相对于所述中心轴线倾斜以使所述第一表面暴露于所述发射源的发射的第一位置，移动至第二倾斜度且在第二倾斜面上，并且相对于所述中心轴线倾斜，以使制品的与所述第一表面相反的第二表面暴露于所述发射源的发射，并且在进一步旋转时，这些制品移动至第一倾斜度。
20.一种旋转装置，用于相对于发射源支撑待涂覆的多个制品；所述旋转装置包括：
第一多个支撑构件，其中每个支撑构件是大体细长的，并且包括用于沿第一支撑构件的纵向轴线保持所述多个制品的多个保持器，
其中，每个支撑构件相对于与第一支撑构件的纵向轴线平行的旋转轴线径向偏离，并且其中第一多个保持器相对于所述第一支撑构件的纵向轴线径向向外延伸，并且使得制品的至少第一表面以第一倾斜度相对于所述发射源的发射路径倾斜；
其中，各支撑构件的各旋转轴线围绕与第一旋转平台上的大体细长的支撑构件的纵向轴线平行的第一中心轴线等间距隔开并且径向设置；并且
其中，所述旋转平台能够围绕所述第一中心轴线旋转，以便每个支撑构件能够移动到暴露位置，用于制品暴露于发射元素。
21.根据权利要求20所述的旋转装置，其中该装置包括多个旋转平台，其中所述多个旋转平台中的这些旋转平台围绕与所述大体细长的支撑构件的纵向轴线平行的主中心轴线等间距隔开，并且这些旋转平台的旋转轴线相对于所述主中心轴线等间距径向偏离，并且所述旋转平台能够在圆周方向上围绕所述主中心轴线移动，以便可以移入或移出发射元素的路径。