1.一种打磨装置，其特征在于，其包括：
底座；
支撑板，固定支立于所述底座上；
固定平台，其上固定待打磨的产品，所述固定平台一侧具有旋转块，该旋转块一端具有一旋转轴，所述旋转轴转动式设于所述支撑板上；
第一气缸，其一端固定于所述支撑板，另一端具有沿水平方向运动的推杆，所述推杆伸长后抵持于所述旋转块一侧；
第二气缸，其一端固定于所述底座，另一端具有沿竖直方向运动的推杆，所述推杆伸长后抵持于所述旋转块下方。
2.如权利要求1所述的打磨装置，其特征在于，还具有支撑气缸，设于所述固定平台下方，固定夹持所述产品的基座。
3.如权利要求2所述的打磨装置，其特征在于，所述支撑气缸为两个，对称设立夹持所述产品的基座。
4.如权利要求1所述的打磨装置，其特征在于，还具有平衡气缸，其一端固定于所述底座，另一端具有沿竖直方向运动的推杆，所述推杆伸长后抵持于所述固定平台的下方。
5.如权利要求4所述的打磨装置，其特征在于，所述平衡气缸为两个，对称设立于所述固定平台的下方。