技术总结
一种激光加热、真空镀膜的电磁屏蔽膜制备装置，真空镀膜室的壁上安装有真空泵系统，使真空镀膜室形成真空，真空镀膜室的壁上还安装有激光发生系统，激光发生系统所发出的激光束穿过真空镀膜室的侧壁孔射在靶材上；靶材放置在靶座上，底盘的靶座圆轨迹上均匀的布置有3‑4个靶座，分别放置绝缘材料、金属材料和保护材料，底盘下部安装有底盘转动装置，基板架上安装有基板转动装置和基板升降装置。底盘转动装置可以将不同材料的靶座转动到激光接受位置，基板转动装置可使基板上的靶材镀的更均匀，基板升降装置可以调节靶材和基板之间的距离。本实用新型一套设备，一个工序即可将电磁屏蔽膜制备完成。
技术研发人员：刘夕岩;刘波;刘华
受保护的技术使用者：湖南深泰虹科技有限公司
文档号码：201720491628
技术研发日：2017.05.05
技术公布日：2017.12.29