一种激光加热、真空镀膜的电磁屏蔽膜制备装置的制作方法

本实用新型涉及电子元器件，即一种激光加热、真空镀膜的电磁屏蔽膜制备装置。

背景技术：

于PCB板或FPC板上直接沉积树脂绝缘层，再于该绝缘层上电镀或化学镀金属层，可实现电磁屏蔽。但是，为了保证该树脂绝缘层与PCB板或FPC板之间有良好的结合力，避免绝缘层发生剥落或龟裂等现象，对所使用的树脂的粘度值有严格的限制。而能满足上述粘度要求的树脂只限于某些特殊的有机树脂，这些特殊的有机树脂成分多、结构复杂、难以制造。此外，该绝缘层的厚度较大,因而对电子元件的散热存在不良影响。另外，电镀或化学镀金属层对环境的污染较大。

专利号2011103373113，提出了一种电磁屏蔽方法及制品，通过所述方法形成的绝缘层及导电层在平面处、凹处及折缝处沉积均匀，且可以做到与基体无缝结合，可提高基体的电磁屏蔽性能。所述防护层具有较高的硬度，另外，通过上述方法形成的所述绝缘层、导电层及防护层的膜厚较小，可使电子元件产生的热量快速的散发出去。该专利以真空镀膜方法形成的绝缘层、导电层及防护层与基体、电子元件之间具有良好的结合力，可避免在使用过程中该绝缘层和/或导电层发生剥落或龟裂而降低制品的电磁屏蔽性能。

但是该专利方法需两套设备，两个步骤，一、真空蒸镀机，对基体进行绝缘材料的镀膜。二、真空镀膜机，采用磁控溅射法，于所述绝缘层上形成导电层和防护层。这样效率较低。

技术实现要素：

为了克服两套设备，两个步骤效率较低的缺点，本实用新型提供一种激光加热、真空镀膜的电磁屏蔽膜制备装置的新设计。该装置用激光加热和真空镀膜的方法一次在印刷电路板 （ PCB）或柔性线路板（ FPC）上形成电磁屏蔽膜。

这种激光加热、真空镀膜的电磁屏蔽膜制备装置，包括一个真空镀膜室，真空镀膜室的壁上安装有真空泵系统，使真空镀膜室形成真空，其特征在于，真空镀膜室的壁上还安装有激光发生系统，激光发生系统所发出的激光束穿过真空镀膜室的侧壁孔射在靶材上；靶材放置在靶座上，靶座安装在底盘上，底盘的靶座圆轨迹上均匀的布置有3-4个靶座，分别放置绝缘材料、金属材料和保护材料，底盘下部安装有底盘转动装置，真空镀膜室上部有基板架，基板架上安装有基板转动装置和基板升降装置。

底盘转动装置包括底盘轴，底盘轴通过传动齿轮和步进电机相连。底盘转动装置可以将不同材料的靶座转动到接受激光位置。

基板转动装置包括基板架内固定安装的基板转动电机，基板转动电机转轴下端连接有基座和基板。基板转动装置可使基板上的靶材镀的更均匀.

基板升降装置包括基板架上固定的升降螺杆，升降螺杆安装在真空镀膜室顶板上的升降螺母中，升降螺杆的上端有升降手柄。转动升降螺杆，可使基板架上下移动，使基板和靶材的距离合适。

真空镀膜室的壁上还安装有进气系统。

激光发生系统是采用KrF248nm激光器。

工作时，放置好靶材和基板，对准靶材和激光束，调好基板和靶材的距离，真空镀膜室内达到设计要求的真空度，开启激光，产生等离子体羽辉，将靶材溅射到基板上，转动基板使之镀膜均匀。一般的电磁屏蔽膜需要镀三次，第一次是镀绝缘材料，如氧化铝或氧化硅，第二次是镀导电材料，如铜或银，第三次是镀保护材料，如镍或铬，镀氧化铝或氧化硅时需要向真空镀膜室中补充氧气，镀金属材料时需要向真空镀膜室中补充氩气，因此有时进气系统是需要的，底盘转动装置可以将不同材料的靶座转动到激光接受位置，基板转动装置可使基板上的靶材镀的更均匀，基板升降装置可以调节靶材和基板之间的距离。本实用新型一套设备，一个工序即可将电磁屏蔽膜制备完成。

附图说明

图1是本实用新型的结构纵剖视示意图

图2为本实用新型的结构横剖视示意图

图中：1、真空镀膜室，2、真空泵系统，3、激光发生系统，4、激光束，5、靶材，6、靶座，7、底盘，8、靶座圆轨迹，9、基板架，10、基板座，11、基板，12、底盘轴，13、传动齿轮，14、步进电机，15、基板转动电机，16、升降螺杆，17、升降螺母，18、进气系统，19、等离子体羽辉，20、升降手柄。

具体实施方式

下面将结合上述附图进一步说明本实用新型。

请参阅图1和2，这种激光加热、真空镀膜的电磁屏蔽膜制备装置，包括一个真空镀膜室1，真空镀膜室1的壁上安装有真空泵系统2，使真空镀膜室1形成真空，真空镀膜室1的壁上还安装有激光发生系统3，激光发生系统3所发出的激光束4穿过真空镀膜室1的侧壁孔射在靶材5上；靶材5放置在靶座6上，靶座6安装在底盘7上，底盘7的靶座圆轨迹8上均匀的布置有3个靶座6，分别放置绝缘材料、金属材料和保护材料，底盘7下部安装有底盘转动装置，真空镀膜室1上部有基板架9，基板架9上安装有基板转动装置和基板升降装置。

底盘转动装置包括底盘轴12，底盘轴12通过传动齿轮13和步进电机14相连。底盘转动装置可以将不同材料的靶座6转动到接受激光位置。

基板转动装置包括基板架9内固定安装的基板转动电机15，基板转动电机15转轴下端连接有基座10和基板11。基板转动装置可使基板11上的靶材镀的更均匀.

基板升降装置包括基板架9上固定的升降螺杆16，升降螺杆16安装在真空镀膜室顶板上的升降螺母17中，升降螺杆16的上端有升降手柄20，转动升降螺杆16，可使基板架9上下移动，使基板和靶材的距离合适。

真空镀膜室1的壁上还安装有进气系统18。

激光发生系统3是采用深圳市迪赛光电技术有限公司生产的KrF248nm激光器，其能量、激光频率和发射角度均可调。