掩模板及蒸镀装置、基板的制备方法与流程

本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种掩模板及蒸镀装置、基板的制备方法。

背景技术：

有机发光二极管(organticlightemittingdiode，简称oled)显示装置由于具有构造简单、高响应、高对比度、易形成柔性和视角宽等优点，因而被广泛关注。

技术实现要素：

本发明的实施例提供一种掩模板及蒸镀装置、基板的制备方法，可实现显示面板在显示区开孔的设计。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种掩模板，包括掩模板本体，所述掩模板本体包括至少一个开口区；所述掩模板还包括至少一个遮挡部；每个所述开口区对应至少一个所述遮挡部，且沿垂直所述开口区所处的平面的方向，所述遮挡部的投影被所述开口区的投影完全覆盖；所述遮挡部通过支撑架与所述掩模板本体固定连接；所述支撑架由多个支撑杆连接构成；所述多个支撑杆中与掩模板本体连接的支撑杆由所述掩模板本体延伸出，位于所述掩模板本体的一侧。

可选的，所述遮挡部位于所述开口区内；所述多个支撑杆中与所述遮挡部连接的支撑杆由所述遮挡部延伸出，位于所述掩模板本体的一侧；与所述掩模板本体连接的支撑杆和与所述遮挡部连接的支撑杆位于所述掩模板本体的同一侧。

进一步可选的，所述支撑架包括至少三个支撑子部；每个所述支撑子部均包括三个支撑杆，且该三个支撑杆依次首尾连接成u型形状。

进一步可选的，所述支撑子部为四个；四个所述支撑子部中，其中两个所述支撑子部位于第一平面内，另外两个所述支撑子部位于第二平面内，且所述第一平面和所述第二平面垂直。

可选的，所述遮挡部位于所述开口区的一侧；所述支撑架包括至少三个支撑子部，每个所述支撑子部均包括两个支撑杆，且该两个支撑杆依次首尾连接成l型形状。

进一步可选的，所述支撑子部为四个；四个所述支撑子部中，其中两个所述支撑子部位于第一平面内，另外两个所述支撑子部位于第二平面内，且所述第一平面和所述第二平面垂直。

可选的，所述遮挡部位于所述开口区的一侧；与掩模板本体连接的支撑杆，其另一端与所述遮挡部连接。支撑杆呈直线型。

可选的，所述遮挡部包括遮挡部本体以及贯穿所述遮挡部本体的通孔，所述通孔位于所述遮挡部本体的中间位置；或者；所述遮挡部包括遮挡部本体，所述遮挡部本体中无贯穿所述遮挡部本体的通孔。

再一方面，提供一种蒸镀装置，包括上述的掩模板。

可选的，所述蒸镀装置还包括蒸镀源；所述蒸镀源为线蒸镀源或点蒸镀源。

另一方面，提供一种基板的制备方法，包括：利用上述的蒸镀装置，在衬底的显示区蒸镀上蒸镀材料，形成蒸镀材料层；其中，所述蒸镀装置中掩模板的一个开口区对应一个所述基板的显示区。

本发明提供一种掩模板及蒸镀装置、基板的制备方法，对于该掩模板，通过支撑架使遮挡部与掩模板本体固定连接，可解决遮挡部与掩模板本体的固定问题，从而可实现显示面板在显示区开孔的设计。其中，遮挡部的设置，可在采用该掩模板进行蒸镀材料蒸镀时，避免在基板的玻璃胶覆盖区域蒸镀上蒸镀材料。将支撑架设置为由多个支撑杆连接构成，且使多个支撑杆中与掩模板本体连接的支撑杆由掩模板本体延伸出，而位于掩模板本体的一侧，可使构成支撑架的支撑杆与掩模板本体的开口区不在同一平面内。从而利用蒸镀材料分子透过阻碍物路径会发生衍射的特性，使蒸镀材料蒸镀在基板的被支撑杆覆盖的区域，提高蒸镀均一性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的实施例提供的一种在显示面板的显示区进行打孔后的结构示意图；

图2a为本发明的实施例提供的在待形成的孔周围的封装区形成玻璃胶的结构示意图；

图2b为图2a中aa′向剖视示意图；

图2c为在图2b基础上进行激光烧结的示意图；

图2d为在图2c基础上激光烧结后的示意图；

图3为本发明的实施例提供的一种掩模板的结构示意图；

图4为本发明的实施例提供的再一种掩模板的结构示意图；

图5为本发明的实施例提供的又一种掩模板的结构示意图；

图6为本发明的实施例提供的又一种掩模板的结构示意图；

图7为本发明的实施例提供的又一种掩模板的结构示意图；

图8为本发明的实施例提供的又一种掩模板的结构示意图；

图9为支撑杆与遮挡部位于同一个平面的掩模板的结构示意图；

图10为显示面板出现局部亮线的结构示意图；

图11为衍射原理示意图；

图12为本发明的实施例提供的又一种掩模板的结构示意图；

图13为本发明的实施例提供的又一种掩模板的结构示意图；

图14为本发明的实施例提供的又一种掩模板的结构示意图；

图15为本发明的实施例提供的又一种掩模板的结构示意图；

图16为本发明的实施例提供的又一种掩模板的结构示意图；

图17为本发明的实施例提供的又一种掩模板的结构示意图；

图18为本发明的实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图；

图19为本发明的实施例提供的再一种蒸镀装置的结构示意图。

附图说明：

01-孔；02-玻璃胶；03-有机材料层；10-掩模板本体；20-开口区；30-遮挡部；31-遮挡部本体；32-通孔；40-支撑架；41-支撑杆；411-第一支撑杆；412-第二支撑杆；413-第三支撑杆；414-第四支撑杆；415-第五支撑杆；42-支撑子部；51-线蒸镀源；52-点蒸镀源。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

为设计出真正意义的全面屏产品，可通过在显示面板的显示区进行打孔，从而将听筒、摄像头等集成于该产品中。

此外，根据客户的不同需求，也会在显示面板的显示区进行打孔。例如，设置一种手表，其包括显示面板，且在显示面板上还设置有机械指针。为放置机械指针，需要在显示面板的中心位置进行打孔。

以oled显示面板为例，在oled显示面板的显示区进行打孔，如图1所示，首先需在待形成的孔01的周围进行封装(例如形成玻璃胶02)，以防止形成孔01后，水氧通过孔而进入oled显示面板内。在此基础上，待封装后，将封装区以内的部分全部挖空，从而形成孔01。

其中，在待形成的孔01的周围进行封装时，如图2a和图2b所示，先在封装区形成玻璃胶(frit)02，之后，如图2c所示，通过激光(laser)烧结玻璃胶02，从而连接阵列基板和封装基板，实现隔绝水氧的功能。然而，当激光烧结玻璃胶02时，如图2d所示，高温会导致阵列基板上玻璃胶重叠区域的有机材料层03中的有机物分解成水和氧。分解的水和氧会对显示区域像素的寿命和亮度造成影响。此外，有机物受热分解也会造成玻璃胶02无法达到粘结比例，影响阵列基板和封装基板的连接，从而影响oled显示面板的封装性能。

基于上述激光烧结过程中产生的问题，即使通过调节激光能量(laserpower)也无法得到改善。

而由上述分析可知，导致有机物分解的根本原因在于，基板上玻璃胶02重叠区域蒸镀材料的存在，若在玻璃胶02重叠区域将蒸镀材料去除，则可避免上述问题。

其中，通过对掩模板进行设计，在基板上蒸镀材料时，将玻璃胶重叠区域进行遮挡，可避免在玻璃胶重叠区域蒸镀上蒸镀材料。

对于开口掩模板(openmask)而言，要在开口区设置遮挡部30来遮挡玻璃胶重叠区域，需考虑遮挡部30如何固定的问题。

基于此，本发明的实施例提供一种掩模板，如图3-8所示，包括掩模板本体10，掩模板本体10包括至少一个开口区20。在此基础上，掩模板还包括至少一个遮挡部30；每个开口区20对应至少一个遮挡部30，且沿垂直开口区20所处的平面的方向，遮挡部30的投影被开口区20的投影完全覆盖。遮挡部30通过支撑架40与掩模板本体10固定连接；支撑架40由多个支撑杆41连接构成；多个支撑杆41中与掩模板本体10连接的支撑杆41由掩模板本体10延伸出，位于掩模板本体10的一侧。

一个开口区20可对应一个基板的显示区，即该掩模板为开口掩模板。基于该开口区20，通过蒸镀工艺可在基板的显示区蒸镀例如有机材料、阴极材料等。

在形成基板的过程中，为避免在玻璃胶重叠区域蒸镀上蒸镀材料，采用本发明实施例提供的掩模板蒸镀材料时，遮挡部30在待蒸镀材料的基板上的正投影应覆盖玻璃胶重叠区域(即，封装区)。

对于支撑架40而言，除了可以使遮挡部30与掩模板本体10固定连接外，还可以起到支撑遮挡部30的作用，以保证遮挡部30的稳定性。

由于构成支撑架40的多个支撑杆41中与掩模板本体10连接的支撑杆41由掩模板本体10延伸出，而位于掩模板本体10的一侧，因此，要实现支撑架40使遮挡部30与掩模板本体10固定连接，那么构成支撑架40的所有支撑杆41与开口区20都不在同一平面内。

如图9所示，相对于使构成支撑架40的支撑杆41与开口区20位于同一平面(在此情况下，支撑杆41位于开口区20内)，以使位于开口区20内的遮挡部30与掩模板本体10连接。由于支撑杆41位于开口区20内，在进行蒸镀材料蒸镀时，支撑杆41相当于阻碍物，会阻碍蒸镀材料的蒸镀，因而，会使基板上支撑杆41覆盖区域无法蒸镀上蒸镀材料，影响蒸镀均一性。从而造成最终形成的显示面板出现局部暗线或亮线的问题(如图10所示)。

而本发明实施例通过使构成支撑架40的支撑杆41与开口区20不在同一平面内，可利用蒸镀材料分子透过阻碍物路径会发生衍射的特性，绕过支撑杆41而蒸镀在基板上，从而实现支撑架40不影响蒸镀均一性的目的。

其中，材料蒸镀过程的衍射原理，如图11所示。在蒸镀过程中，蒸镀材料受热气化，蒸镀材料分子遇到阻碍物(即，支撑杆41)，部分蒸镀材料分子绕过阻碍物而蒸镀在阻碍物在基板上的正投影区域，从而使得基板上的所有区域都被蒸镀上蒸镀材料。

在本发明的实施例提供的掩模板中，通过支撑架40使遮挡部30与掩模板本体10固定连接，可解决遮挡部30与掩模板本体10的固定问题，从而可实现显示面板在显示区开孔的设计。其中，遮挡部30的设置，可在采用该掩模板进行蒸镀材料蒸镀时，避免在基板的玻璃胶覆盖区域蒸镀上蒸镀材料。将支撑架40设置为由多个支撑杆41连接构成，且使多个支撑杆41中与掩模板本体10连接的支撑杆41由掩模板本体10延伸出，而位于掩模板本体10的一侧，可使构成支撑架40的支撑杆41与掩模板本体10的开口区20不在同一平面内。从而利用蒸镀材料分子透过阻碍物路径会发生衍射的特性，使蒸镀材料蒸镀在基板的被支撑杆41覆盖的区域，提高蒸镀均一性。

可选的，支撑杆41均为直线型支撑杆41。

可选的，如图3和图4所示，遮挡部30位于开口区20内，多个支撑杆41中与遮挡部30连接的支撑杆41由遮挡部30延伸出，位于掩模板本体10的一侧；与掩模板本体10连接的支撑杆41和与遮挡部30连接的支撑杆41位于掩模板本体10的同一侧。

由于与掩模板本体10连接的支撑杆41以及与遮挡部30连接的支撑杆41均延伸至掩模板本体10的同一侧，使得支撑架40中投影在开口区20的支撑杆41远离开口区20，因而，有利于利用蒸镀材料分子透过阻碍物路径会发生衍射的特性，实现蒸镀均一性。

在此基础上，将遮挡部30设置于开口区20内，一方面，可不影响掩模板与基板之间的距离。另一方面，可避免蒸镀过程中一些材料因为衍射路径发生改变，而蒸镀到遮挡部30在基板上的投影区域。

可选的，如图3所示，支撑架40包括至少三个支撑子部42；每个支撑子部42均包括三个支撑杆41，且该三个支撑杆41依次首尾连接成u型形状。

在一些实施例中，如图3所示，每个支撑子部42均包括三个支撑杆41，且该三个支撑杆41依次首尾连接成直角u型形状。

如图3所示，每个支撑子部42中的三个支撑杆41分别为与掩模板本体10连接的支撑杆41(以下称为第一支撑杆411)、与遮挡部30连接的支撑杆41(以下称为第二支撑杆412)、以及连接第一支撑杆411和第二支撑杆412的第三支撑杆413。第一支撑杆411、第三支撑杆413和第二支撑杆412依次首尾连接成直角u型形状。

在一些实施例中，第一支撑杆411和第二支撑杆412均垂直开口区20所在的平面设置，第三支撑杆413平行于开口区20所在的平面上设置。在此情况下，可使第三支撑杆413与掩模板本体10的距离在厘米级，以使蒸镀材料通过第三支撑杆413时的衍射效果更好，蒸镀材料蒸镀的更均匀。

支撑架40至少包括三个支撑子部42时，可以保证遮挡部30的稳定性。将支撑子部42设置成直角u型形状，可通过控制第三支撑杆413与掩模板本体10的距离，保证蒸镀的均一性。

在此基础上，可选的，如图4所示，支撑子部42为四个；四个支撑子部42中，其中两个支撑子部42位于第一平面内，另外两个支撑子部42位于第二平面内，且第一平面和第二平面垂直。

支撑架40包括四个支撑子部42时，可以提供足够的支撑力。在相互垂直的第一平面和第二平面内各设置两个支撑子部42，使得支撑子部42均匀分布，可使蒸镀材料通过支撑杆41衍射后蒸镀的更均匀。

可选的，如图5和6所示，遮挡部30位于开口区20的一侧；支撑架40包括至少三个支撑子部42；每个支撑子部42均包括两个支撑杆41，且该两个支撑杆41依次首尾连接成l型形状。

遮挡部30位于开口区20的一侧，即，遮挡部30与开口区20不在同一平面。

如图5和6所示，支撑子部42中的两个支撑杆41分别为与掩模板本体10连接的支撑杆41(以下称为第四支撑杆414)、与遮挡部30连接的支撑杆41(以下称为第五支撑杆415)。第四支撑杆414和第五支撑杆415依次首尾连接成l型形状。

在此情况下，可使第五支撑杆415与掩模板本体10的距离在厘米级，以使蒸镀材料通过第三支撑杆413时的衍射效果更好，蒸镀材料蒸镀的更均匀。

支撑架40至少包括三个支撑子部42时，可以保证遮挡部30的稳定性。将支撑子部42设置成l型形状，可通过控制第五支撑杆415与掩模板本体10的距离，保证蒸镀的均一性。

在此基础上，可选的，如图6所示，支撑子部42为四个，四个支撑子部42中，其中两个支撑子部42位于第一平面内，另外两个支撑子部42位于第二平面内，且第一平面与第二平面垂直。

支撑架40包括四个支撑子部42时，可以提供足够的支撑力。在相互垂直的第一平面和第二平面内各设置两个支撑子部42，使得支撑子部42平均分布，可使蒸镀材料通过支撑杆41衍射后蒸镀的更均匀。

可选的，如图7和8所示，遮挡部30位于开口区20的一侧；与掩模板本体10连接的支撑杆41，其另一端与遮挡部30连接。支撑杆41呈直线型。

由于支撑杆41的两端直接连接掩模板本体10和遮挡部30，支撑杆41能够给遮挡部30提供更强的支撑力，且稳定性更好。

可选的，如图12-17所示，遮挡部30包括遮挡部本体31以及贯穿遮挡部本体31的通孔32，通孔32位于遮挡部本体31的中间位置。

当遮挡部本体31包括通孔32时，遮挡部本体31的结构较轻，节约成本，并且可以减少支撑杆41提供的支撑力，降低对支撑杆41的要求。

或者，可选的，如图3-8所示，遮挡部30包括遮挡部本体31，遮挡部本体31中无贯穿遮挡部本体31的通孔32。

基于上述描述，可选的，支撑杆41的截面形状可以为圆形，截面形状的直径在微米级。或者，支撑杆41的截面形状为矩形，截面形状的边长在微米级。

可选的，支撑杆41的材料可以为不锈钢(sus)或因瓦合金(invar)。

本发明的实施例还提供一种蒸镀装置，包括上述的掩模板。该蒸镀装置具有与掩模板相同的有益效果，在此不再赘述。

可选的，所述蒸镀装置还包括蒸镀源；如图18所示，蒸镀源为线蒸镀源51，或者，如图19所示，蒸镀源为点蒸镀源52。

在蒸镀源为线蒸镀源51的情况下，遮挡部30的尺寸可与基板上显示区需要设置的封装区大小基本相等。

在蒸镀源为点蒸镀源52的情况下，根据基板上需要设置的封装区面积，点蒸镀源52与开口区20所在平面的垂直距离，以及点蒸镀源52的位置，可计算出遮挡部30需要设置的尺寸。

本发明的实施例还提供一种基板的制备方法，包括：利用上述的蒸镀装置，在衬底的显示区蒸镀上蒸镀材料，形成蒸镀材料层；其中，蒸镀装置中掩模板的一个开口区20对应一个基板的显示区。

基于此，形成的基板，包括：衬底，位于衬底上的蒸镀材料层，该蒸镀材料层在衬底上的正投影与位于显示区的封装区无交叠。

利用点蒸镀源蒸镀材料时，点蒸镀源位置不变，为使蒸镀在衬底上的材料更加均匀，成膜性更好，可使衬底随蒸镀装置中的机台旋转。

利用线蒸镀源蒸镀材料时，衬底不转动，为使蒸镀材料通过支撑杆41发生衍射后蒸镀的更均匀，成膜性更好，可使线蒸镀源沿自身较长边所在方向进行移动。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。