一种真空镀膜设备的制作方法

本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种真空镀膜设备。

背景技术：

气相沉积技术包括物理气相沉积技术和化学气相沉积技术，对于要求产生特性形状的镀膜膜层时一般采用掩膜工艺。现有技术中的真空镀膜机内部用于放置基材的工位大多结构比较简单，且是固定不变的，比如，有一些真空镀膜机内会设置具有多层结构的放置架，在放置架的每一层均放上待镀膜的基材，由于磁控溅射机的位置是固定的，对于离磁控溅射机较近的基材则喷涂较均匀，但是对于离磁控溅射机较远的基材则喷涂效果会差一些。

技术实现要素：

针对上述问题，本实用新型提出一种真空镀膜设备，其能够实现当完成其中一个基材的镀膜后，通过驱动承载有基材的基材放置件转动，从而实现对另一个基材进行镀膜，不仅能够大大提高生产效率，且能够提高基材的喷涂均匀性。

实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：

一种真空镀膜设备，包括：

镀膜室，所述镀膜室为双层结构，包括外层和内层；

磁控溅射机，所述磁控溅射机设于所述镀膜室内层顶部的中间位置；

第一驱动单元和第二驱动单元；所述第一驱动单元和第二驱动单元相对设置，均位于镀膜室的外层和内层之间，二者的输出轴分别贯穿镀膜室内层上位于同一方向上的两个侧壁；

第一固定件和第二固定件，所述第一固定件和第二固定件的一端分别与所述第一驱动单元和第二驱动单元的输出轴相连；

基材放置件，所述基材放置件的两端分别与所述第一固定件和第二固定件的另一端相连，其包括上盖、下盖和弹性板，所述上盖和下盖的四周分别设有第一外延边和第二外延边，当二者盖合时，所述第一外延边与第二外延边贴合；所述上盖和下盖上均设有若干个通孔；所述弹性板设于所述上盖与下盖之间，其包括板体，所述板体的两侧均设有若干个翘起的弹片，各弹片的位置分别与上盖或下盖上对应的通孔相适应。

优选地，所述弹片的横截面为圆形，其一端与所述板体固定相连，另一端处于翘起状态，用于与基材之间实现点接触。

优选地，所述弹片的横截面为矩形，其一端与所述板体固定相连，另一端处于翘起状态，用于与基材之间实现线接触。

优选地，所述弹片的厚度为0.1mm至5mm。

优选地，所述弹片由铟铊合金、镍钛合金、或者铜铝镍合金制成。

优选地，所述上盖和下盖上的通孔的位置相对应或者不对应。

优选地，所述上盖和下盖上的通孔的横截面为圆形或者矩形。

优选地，所述基材放置件与镀膜室之间为间隙配合。

优选地，所述上盖和下盖上均设有把手。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果：

本实用新型中的一种真空镀膜设备，其提出了一种新型的基材放置件，所述基材放置件中利用设于上盖与下盖之间的弹性板来实现同时固定两块基材在基材放置件内部，当完成其中一个基材的镀膜后，通过驱动承载有基材的基材放置件转动，从而实现对另一个基材进行镀膜，不仅能够大大提高生产效率，且能够提高基材的喷涂均匀性。

附图说明

图1为本实用新型一种实施例的整体结构的主视图；

图2为本实用新型一种实施例的基材放置件的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

下面结合附图对本实用新型的应用原理作详细的描述。

实施例1

如图1-2所示，一种真空镀膜设备，包括：

一种真空镀膜设备，包括：

镀膜室，所述镀膜室为双层结构，包括外层1和内层2；

磁控溅射机3，所述磁控溅射机3设于所述镀膜室内层2顶部的中间位置；

第一驱动单元4和第二驱动单元5；所述第一驱动单元4和第二驱动单元5相对设置，均位于镀膜室的外层1和内层2之间，二者的输出轴分别贯穿镀膜室内层2上位于同一方向上的两个侧壁；在本实用新型的一种具体实施例中，所述第一驱动单元4和第二驱动单元5可以采用驱动电机来实现；

第一固定件6和第二固定件7，所述第一固定件6和第二固定件7的一端分别与所述第一驱动单元4和第二驱动单元5的输出轴相连；在本实用新型的一种具体实施例中所述第一固定件6和第二固定件7上远离第一驱动单元4和第二驱动单元5输出轴的一端均设有U型开口，用于放置基材放置件的两端；且第一固定件6和第二固定件7上U型开口处均设有第一定位孔；

基材放置件，所述基材放置件与镀膜室之间为间隙配合；所述基材放置件的两端分别与所述第一固定件6和第二固定件7的另一端相连，其包括上盖8、下盖11和弹性板9，所述上盖8和下盖11的四周分别设有第一外延边和第二外延边，当二者盖合时，所述第一外延边与第二外延边贴合；所述上盖8和下盖11上均设有若干个通孔10，所述上盖8和下盖11上的通孔10的位置相对应或者不对应；所述上盖8和下盖11上的通孔10的横截面为圆形或者矩形，还可以是其他的几何形状，由于通孔10形状本身不是本实用新型的发明点所在，因此不做过多的赘述和限定；所述弹性板9设于所述上盖8与下盖11之间，其包括板体901，所述板体901的两侧均设有若干个翘起的弹片902，各弹片902的位置分别与上盖8或下盖11上对应的通孔10相适应；在本实用新型的一种具体实施例中，所述弹片902的横截面为圆形，其一端与所述板体901固定相连，另一端处于翘起状态，用于与基材之间实现点接触；在本实用新型的另一种具体实施例中，所述弹片902的横截面为矩形，其一端与所述板体901固定相连，另一端处于翘起状态，用于与基材之间实现线接触；所述弹片902的厚度为0.1mm至5mm，由铟铊合金、镍钛合金、或者铜铝镍合金制成；所述上盖8和下盖11上设有与所述第一定位孔对应的第二定位孔，用于供螺钉插入后，实现将基材放置件与第一固定件6和第二固定件7相连。

进一步地，为了便于拿去所述基材放置件，所述上盖8和下盖11上均设有把手(图中未示出)。

综上所述：

本实用新型中的一种真空镀膜设备，其提出了一种新型的基材放置件，所述基材放置件中利用设于上盖与下盖之间的弹性板来实现同时固定两块基材在基材放置件内部，当完成其中一个基材的镀膜后，通过驱动承载有基材的基材放置件转动，从而实现对另一个基材进行镀膜，不仅能够大大提高生产效率，且能够提高基材的喷涂均匀性。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。