一种可磁控溅射真空蒸镀系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及镀膜机，属于镀膜领域，具体涉及一种可磁控溅射真空蒸镀系统。
【背景技术】
[0002]目前，公知的真空蒸镀系统样品台只能完成有机源和金属源的蒸发成膜，而且只能一次性制作4个样品。虽然磁控溅射系统和匀胶成膜系统也可以通过过渡舱连接到蒸镀室，但这类设备无法将磁控溅射系统置于蒸镀室内部且机械制造复杂，效率低下。而且大部分机器都无法做到多个样品的一次性制备，每批次样品蒸镀完毕后，需要破坏蒸镀室气氛以重新装入样品，然后再重新抽真空。从而导致研究人员需要需要话费更长的实验时间以获得实验环境并进行相对较复杂的操作步骤，每批制备的样品也不同，造成生产滞后和科研效率降低的后果。
【发明内容】
[0003]为此，本实用新型所要解决的技术问题在于克服现有技术中真空蒸镀系统样品台只能完成有机源和金属源的蒸发成膜，而且只能一次性制作样品少，生产效率低的缺陷，从而提供一种集磁控溅射和物理气相沉积的成膜方式于一体，可实现多个不同厚度样品的一次性制备的真空蒸镀系统。
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型的一种可磁控溅射真空蒸镀系统，包括蒸发室I和位于其上方的蒸镀室2，所述蒸发室底部设置磁控溅射系统的负极3，磁控溅射系统的负极周围设置金属蒸发源4和有机蒸发源5，所述磁控溅射系统的负极上设置蒸镀材料放置架6 ;所述蒸发室上开口升入到蒸镀室底部，所述蒸发室上开口正上方设置可旋转大挡板7 ;所述大挡板上方设置可旋转小挡板8，所述可旋转小挡板上方设置磁控溅射系统的正极9，所述小挡板与大挡板设置样品转盘10，所述样品转盘与固定在蒸镀室顶部的螺杆下方的支撑架11连接，样品转盘上设置多个样品台，所述小挡板与样品台位置相对应。
[0005]对本发明的进一步改进，样品转盘至少为两个，调节架转盘通过蒸镀室顶部螺杆的旋转带动旋转，样品转盘与固定在蒸镀室顶部的螺杆下方的支撑架连接。优选支撑架为L型支撑架，其固定或活动连接在螺杆下方，L行支撑架的个数优选四个，四个支撑架分别连接四个样品转盘，样品转盘上设置多个样品台；当然螺杆下方的支撑架还可为十字交叉型；样品转盘在螺杆旋转的带动下也可在水平方向任意角度旋转，通过螺杆顶部的旋转钮可调节螺杆的高度。
[0006]对本发明的进一步改进，蒸镀室大挡板左侧设置匀胶成膜系统12，可实现将磁控溅射、匀胶旋涂和物理气相沉积的成膜方式于一体，实现在相同气氛下，蒸镀的多元话功倉泛。
[0007]对本发明的进一步改进，磁控溅射正极上方设置样品温度调节装置13，其外接于蒸镀室外的温度控制器14，便于蒸镀过程中对蒸镀室温度环境的控制，温度调节装置是采用水冷和电阻丝加热相结合的方式来实现的，当然也可以用其他常用温度控制装置。
[0008]对本发明的进一步改进，可旋转大挡板、样品调节架转盘、目标材料放置架均在同一轴线上，便于设备结构的安装和样品的蒸镀。
[0009]对本发明的进一步改进，大挡板和小挡板分别通过螺杆与蒸镀室顶部设置的控制旋钮19连接，通过调节控制旋钮，来调节大挡板、小挡板升降，得到合适高度，小挡板与样品台的位置相对应，小挡板可挡在样品台的上方或样品台的下方，小挡板优选与样品台相同的尺寸。
[0010]对本发明的进一步改进，蒸镀室正前方开设样品观察窗15，便于观测蒸镀过程中样品蒸镀的状况，蒸镀室右侧壁开设气氛连通窗16，蒸镀室右侧一体成型的样品过渡舱17，过渡舱上设置压力控制系统20，过渡舱外接于气氛装置21，便于控制蒸镀室与过渡舱中的压力、真空度，通过气氛装置，可向过渡舱和蒸镀室填充保护气体，满足不同样品需要的真空度和气氛条件；蒸镀室左侧开设样品更换室18。
[0011]对本发明的进一步改进，蒸发室为圆柱形，磁控溅射负极固定于圆柱形底部的圆心，目标材料放置架位于负极正上方且大小相同；蒸发室内的有机蒸发源和金属蒸发源可分别设置多组，根据具体使用情况设置相应的数量。
[0012]本实用新型采用以上技术方案与现有技术相比，具有以下有益效果:
[0013]1.本发明将磁控溅射负极设置在蒸发室内，磁控溅射正极设置在蒸镀室内，并将匀胶旋涂系统也设置在蒸镀室内，实现磁控溅射、匀胶旋涂和物理气相沉积的成膜方式的一体化，操作集中化，使整个蒸镀设备的结构紧凑、简单、便于操作。
[0014]2.本发明通过设置可旋转的多个样品转盘，在转盘上设置多个样品台，在相同气氛下，一次性可蒸镀多个样品，使样品的稳定性更好，样品的制备效率更高；转盘通过蒸镀室顶部控制旋钮进行旋转，便于操作。
【附图说明】
[0015]图1是本实用新型的整体结构示意图。
[0016]图2是本实用新型的蒸镀室观察窗结构示意图。
[0017]图3是本实用新型的样品更换窗结构示意图。
[0018]图中:1-蒸发室，2-蒸镀室，3-磁控溅射系统的负极，4-金属蒸发源，5-有机蒸发源，6-材料放置架，7-可旋转大挡板，8-可旋转小挡板，9-磁控溅射系统的正极，10-样品转盘，11-支撑架，12-匀胶成膜系统，13-温度调节装置，14-温度控制器，15-样品观察窗，16-气氛连通窗，17-过渡舱，18-样品更换室，19-控制旋钮，20-压力控制系统，21-气氛装置。
【具体实施方式】
[0019]为了使本实用新型的内容更容易被清楚的理解，下面根据本实用新型附图，对本实用新型作进一步详细的说明，这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
[0020]如图1所示，本发明的一种可磁控溅射真空蒸镀系统，包括蒸发室I和位于其上方的蒸镀室2，蒸发室底部设置磁控溅射系统的负极3，磁控溅射系统的负极周围设置金属蒸发源4和有机蒸发源5，磁控溅射系统的负极上设置蒸镀材料放置架6 ;蒸发室上开口升入到蒸镀室底部或与蒸镀室底部在同一水平面上，蒸发室上开口正上方设置可旋转大挡板7 ;大挡板上方设置可旋转小挡板8，可旋转小挡板上方设置磁控溅射系统的正极9，小挡板与大挡板间设置样品转盘10，样品转盘与固定在蒸镀室顶部的螺杆下方的支撑架11连接，样品转盘上设置多个样品台，小挡板与样品台位置相对应。
[0021]为一次性制备更多的样品，在蒸镀室内的样品转盘至少设置为两个，选优四个，样品转盘与固定在蒸镀室顶部的螺杆下方的支撑架连接。优