1.一种用于光学薄膜的紫外阻隔粒子的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
(1)，将具有紫外阻隔功能的无机纳米粉体制备成分散性好的无机纳米色浆；
(2)，将具有紫外阻隔的无机纳米色浆与有机高分子塑料母粒在270-300℃下熔融分散，优选280-290℃；
(3)，将经熔融分散的复合体系通过双螺杆混合均匀后，挤出、切粒得到具有紫外阻隔功能的母粒。挤出温度为塑料粒子的熔融温度，通常为280-285℃，之后水冷切粒，双螺杆的选择长径比较大的，通常在40-48之间；
其中，步骤(1)中，紫外阻隔纳米色浆的制备方法，其步骤如下：
(a)混合：将具有紫外阻隔功能的无机纳米粉体、有机分散剂和有机溶剂三者按质量比(10-30)：(1-3)：(67-89)混合均匀；
(b)分散：将混合体在高速剪切分散介质中高速剪切分散30-60分钟，搅拌机的速度控制在1000-3000转每分钟以得到浆料；
(c)研磨：将高速剪切分散的浆料放进罐磨机、球磨机或是砂磨机中研磨分散得到色浆；
(d)过筛：将研磨好的色浆用400目的纱网过筛，以去除大的颗粒，得到紫外阻隔纳米色浆。
2.根据权利要求1所述的一种用于光学薄膜的紫外阻隔粒子的制备方法，其特征在于：步骤(a)中，所述的紫外阻隔功能的无机纳米粉体的三维尺寸均不超过100纳米；所述的紫外阻隔功能的无机纳米粉体选自纳米氧化锌、纳米氧化钛、纳米氧化铈中的一种或几种混合。
3.根据权利要求1所述的一种用于光学薄膜的紫外阻隔粒子的制备方法，其特征在于：步骤(a)中，所述的有机分散助剂是含有羟基有机高分子长链、羧基有机高分子长链、环氧基有机高分子长链或含有氨基类的有机高分子长链中的一种。
4.根据权利要求3所述的一种用于光学薄膜的紫外阻隔粒子的制备方法，其特征在于：所述的有机分散助剂选自聚乙二醇类、聚丙烯酸类、聚乙烯吡咯烷酮类、聚氨酯类分散剂中的一种。
5.根据权利要求1所述的一种用于光学薄膜的紫外阻隔粒子的制备方法，其特征在于：有机分散助剂的添加量为无机纳米粉体的0.5-15％。
6.根据权利要求1所述的一种用于光学薄膜的紫外阻隔粒子的制备方法，其特征在于：有机分散助剂的添加量为无机纳米粉体5-8％。
7.根据权利要求1所述的一种用于光学薄膜的紫外阻隔粒子的制备方法，其特征在于：步骤(a)中，所述的有机溶剂是醇类，酯类，苯类、酮类、醚类中的一种。
8.根据权利要求7所述的一种用于光学薄膜的紫外阻隔粒子的制备方法，其特征在于：醇类为甲醇、乙醇、丙醇、丁醇中的一种，酯类为乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯中的一种；苯类为甲苯、二甲苯中的一种。
9.根据权利要求1所述的一种用于光学薄膜的紫外阻隔粒子的制备方法，其特征在于：步骤(b)中，所述分散介质为一般为惰性溶剂，在惰性介质中进行有机改性，可以防止无机紫外阻隔纳米的变性，提高粉体的化学稳定性。
10.根据权利要求1所述的一种用于光学薄膜的紫外阻隔粒子的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，所述的有机高分子塑料母粒选自PE母粒、PET母粒、PVC母粒、PP母粒、PC母粒、PVA母粒、ABS母粒中的一种。
11.根据权利要求1所述的一种用于光学薄膜的紫外阻隔粒子的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，所述的高温是指：PET为260-300℃。
12.一种含有权利要求1所述的制备方法制备的塑料粒子的光学薄膜，其特征在于：所述的光学薄膜中，耐磨增硬的塑料粒子添加量不超过20％。
13.根据权利要求12所述的的光学薄膜，其特征在于：耐磨增硬的塑料粒子添加量不超过15％。